宽地膜栽植新技术的制作方法

文档序号:335629阅读:362来源:国知局
专利名称:宽地膜栽植新技术的制作方法
技术领域
本发明涉及一种植物栽植技术,具体地说是适用西北地区的宽地膜栽植技术。
背景技术
用地膜覆盖的方法种植农作物,是一项行之有效、应用广泛的的农作物栽植技术, 尤其适用于西瓜和甜瓜等瓜果蔬菜类植物,实践证明,采用地膜覆盖的栽植方法较露地的 栽植方法,能提高农作物产量约30%。传统地膜覆盖的垅宽为0.7 1.4米;地膜厚度约 0. 005丝(0. 00005mm),垅的顶部为凸面或平面。传统地膜覆盖技术存在长草严重的不足之 处。

发明内容
本发明的目的在于,提供一种适应西北干旱地区的地膜覆盖栽植新方法。本发明是这样实现的地膜覆盖宽为2. 4 3. 0米;地膜厚度为0. 007 0. 009丝 (0. 00007mm 0. 00009mm)。地膜覆膜前,在起铺膜垄沟时,垄的高度为5士0. 3公分;垄左 右两侧,修成5-10度缓坡;垄的上表面并呈中间稍低,两边稍高的孤形,高、低相差小于1. 5 公分。地膜颜色以黑色最好。申请人:经多年研究、实践证明,本发明较传统地膜覆盖技术,提高作物产量 10%—35%,且大大节省了用工成本。适于本发明栽植的植物,有西瓜、甜瓜、黄瓜、豆角、胡 萝卜、萝卜、白菜、甘蓝、菠菜、茄子、辣椒、油菜、西红柿、花生、小麦、玉米、高粱、菜子、洋芋寸。为什么地膜加宽后能够提高作物产量?理由是—.地膜加宽后,更利于保水、保温、和提高除草效果。1、保水实践证明,地膜愈窄,保水的效果愈差。这是因为,当下小雨时,植物根部 收集雨水的范围有限,有85%以上的水分都蒸发、流失了。本发明的垄,中间低,两边稍高,当有微小的降雨或早晨的露水时,水分可以集中 到植物苗子的根基部位。(如同用彩钢瓦建造的房子,起坡都非常平缓,早晨的露水,毛毛雨 都可以滴水)2、保温传统地膜覆盖下的地温比露地提高5度左右,而本发明地膜覆盖下的地 温则在5度以上。3、除草2. 4米、2. 8米、3. 0米的地膜除草效果会更彻底。①传统方法铺地膜以用70公分的地膜铺3米宽为例,需要铺4行,最外面的两 行,每行各留半个走道,一个走道一铁锨宽06)公分,半个走道为13公分,即70公分铺3 米宽要留出两边各半个走道(13公分*2),中间三个走道06公分*3)②.同样,以用传统的1. 4米方法铺3米宽的地膜为例,也要留出两边各半个走道 (13公分*2),中间一个走道(26公分*1).③本发明用3米宽的地膜来铺2. 8米宽的面积,只需两边各留出半个走道(13公分拉),这样的话,3米宽的地膜,两边各留出10公分压入土中,有效宽度即为2. 8米。这 2. 8米完全覆盖的中间可以彻底的杀死杂草,地膜除草的原理是阳光照射在地膜上,地膜 下面的温度在60度左右,杂草生长之后,顶部不能穿透地膜,受里面的高温的作用,杂草被 完全烧死了。显然,这种除草方法是无公害的,而传统化学药物除草,不仅对当茬植物稍有 毒害影响,且农药的残留也影响了下茬乃至更后期的农作物。3米地膜覆盖的植物,只有两边各13公分长草的机会。3米宽,用1.4米铺两行,长草的面积为两个(13公分拉),一个沈公分。3米宽,用70公分铺四行,长草的面积为两个(13公分拉),三个沈公分。众所周知,杂草,特别是恶性杂草比农作物的生长势强,跟农作物争夺阳光、水、肥 等。对于西北干旱地区而言,本发明在控制杂草生长,实现节水、节肥、获取阳光的综合效果 上,非常明显。土壤暴晒在阳光下,在植物的一个生长周期中,不但长草,而且还因长时间的风 吹、日晒、雨淋等变的坚硬,破坏了土壤微生物,使土壤板结、透气性差。本发明采用地膜加 宽技术,更利于疏松土壤、增强透气性。本发明节省用工成本1、就起垄来说,起一行铺3米宽地膜的垄,只需两边各起13公分就行;1. 4米起3 米宽的垄,需起两边各半个走道(13公分拉),中间一个走道( 公分*1) ;70公分起3米 宽的垄,需起四行,两边各起两个(13公分*2),中间三个沈公分。2、铺膜3米宽的地膜一行一次就可铺完;1. 4米宽的地膜铺3米宽,需铺两次;70 公分宽的地膜铺3米宽,需铺四次。3、人工除草铺3米宽地膜的地无草,不用除草;铺1. 4米地膜的地3米宽,草较 少,需几次除草较省工;铺70公分地膜的地3米宽,草最多,需几次除草,最费工(下一次 雨,庄稼地里就长出一次杂草,所以,下雨后的20多天就要除一次草,一般,西瓜套种玉米 的地块,从每年的3月开始,到10月底玉米收获结束,需除草5次以上)。综上所述,就3米宽这一项地膜栽培的改进技术,在起垄、铺膜、除草这三个环节, 节省了大量劳动力。


图1是0. 7米传统地膜覆盖形状示意2是本发明的地膜覆盖形状示意图。
具体实施例方式下面,结合附图叙述二个本发明的实施例。实施例1.采用宽地膜覆盖技术栽植西瓜垄的高度为5士0. 2公分;垄左右两侧修成5-8度缓坡;垄的上表面并呈中间稍 低、两边稍高的孤形,高、低相差小于1公分。地膜覆盖宽度为3米,地膜厚度为0. 00007mm ; 地膜为黑色;其它栽植技术与传统相同。实施例2.采用宽地膜覆盖栽植技术种植玉米
垄的高度为5士0. 3公分;垄左右两侧,修成度7-10缓坡垄的上表面并呈中间 稍低、两边稍高的孤形,高、低相差小于1. 5公分。地膜覆盖宽度为2. . 4米,地膜厚度为 0. 00009mm ;地膜为黑色;其它栽植技术与传统相同。对比实验2008年采用3. 0米的地膜覆盖西瓜和甜瓜,并作套种玉米的试验,共设5组对照①西瓜选用印度懒汉品种,玉米选用中玉9号,川地河边可水浇之地。结果西瓜 对比,增产550公斤/亩;玉米对比,增产200公斤/亩;②西瓜选用印度懒汉品种,玉米选用中玉9号,川地干台不能水浇之地。结果西 瓜对比,增产250公斤/亩;玉米对比,增产100公斤/亩;③西瓜选用印度懒汉品种,玉米选用中玉9号,川地干台不能水浇之地。结果西 瓜对比,增产220公斤/亩;玉米对比,增产100公斤/亩;④西瓜选用印度懒汉品种,玉米选用中玉9号,原地干台不能水浇之地。结果西 瓜对比,增产220公斤/亩;玉米对比,增产100公斤/亩;⑤西瓜选用印度懒汉品种,玉米选用中玉9号,原地平地不能水浇之地。结果西 瓜对比,增产220公斤/亩;玉米对比,增产100公斤/亩。
权利要求
1.宽地膜栽植新技术,其特征在于采用2.4 3. 0米宽的地膜覆盖农作物;地膜厚度 为0. 00007mm 0. 00009mm。垄的高度为5 士0. 3公分;垄左右两侧修成5_10度缓坡;垄的 上表面呈中间低、两边高的孤形,高、低相差小于1. 5公分。
2.根据权利要求1所述宽地膜栽植新技术,其特征在于地膜为黑色。
全文摘要
本发明涉及地膜栽植技术,采用2.4~3.0米宽的地膜覆盖农作物;地膜厚度为0.00007mm~0.00009mm;垄的上表面呈中间低、两边高的孤形。本发明较传统地膜覆盖技术,提高作物产量10%-35%,且大大节省了用工成本。本发明适于栽植西瓜、甜瓜、黄瓜、豆角、胡萝卜、萝卜、白菜、甘蓝、菠菜、茄子、辣椒、油菜、西红柿、花生、小麦、玉米、高粱、菜子、洋芋等。
文档编号A01G1/00GK102037827SQ20091002430
公开日2011年5月4日 申请日期2009年10月14日 优先权日2009年10月14日
发明者赵夫缘 申请人:赵夫缘
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1