专利名称：一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法
技术领域：
本发明属于作物栽培技术，具体是一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法。
背景技术：
我国大部分蔗区受季风气候的影响，春季少雨干燥，气温回升快，土壤含 水量低，天然降雨和人工灌溉所给予的水分容易蒸发，旱坡地水份难于满足甘 蔗出苗和生长的需要，造成出苗慢、出苗少。目前己经实施的旱地地膜覆盖栽 培技术采用地膜覆盖甘蔗种植行，对保持蔗沟的保湿、促进春季甘蔗出苗等方 面起到了良好的作用。但甘蔗出苗后易于把地膜抬起，难于破膜，由于春季光 照强，气温回升快，膜内温度高，常造成甘蔗出苗后被灼伤，甚至被灼死，是
造成旱地甘蔗产量低的原因之一；同时，由于膜内湿度大、光照好而导致杂草 丛生。如何预防蔗苗抬膜难于破膜，春季蔗苗被高温灼伤或灼死，以及膜后蔗 沟田间杂草丛生的问题， 一直是困扰春季甘蔗高产高糖高效益栽培的一项重大 技术问题。
发明内容
本发明的目的是提出一种简单而有效的甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法， 实施该方法的成本低廉，并且能够有效解决现有技术的不足。
本发明的目的是这样实现的
一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法，甘蔗苗栽种后在保持一定土壤湿度 的植蔗沟内盖光解地膜，然后在地膜表面再覆盖细土，具体步骤为
(1) 开蔗沟挖植蔗沟，沟底土堆放于蔗垄；
(2) 栽种甘蔗种茎苗种于蔗沟底，并盖上一层薄土，在潮湿地块栽种甘蔗；
(3) 浇水栽种后保持一定土壤湿度，若土壤干燥，则需用水浇湿土表层，
甘蔗栽种后下雨则不用浇水；
(4) 盖膜选用厚度0.008 0.012cm、宽幅O. 4 0. 5m的光解地膜，对种植
沟进行覆盖，应根据种植沟的宽度选择适当的宽幅；
(5) 盖土用细土压紧压实盖膜后的植蔗沟上表面及光解地膜的边缘，增加地膜的重量，以利于有效保持水分和蔗苗破膜。
所述植蔗沟与蔗垄之间的植蔗沟深度为30 40cm。 本发明具有的有益效果如下
本发明提出的甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培技术，操作简单，方便易行，地 膜表面再盖一层土，用工成本仅少量增加，但不会造成蔗苗被灼伤、田间杂草 大量减少，灌溉次数减少甚至不灌溉，除草和破膜成本大幅下降。
密封的地膜易保持种茎苗周围土壤湿润，促进种茎苗萌芽，出苗快、出苗 齐，蔗苗生长快，保证苗齐苗壮，根系发达，植株健壮，甘蔗增产显著。
地膜上表面盖土后膜内光照弱，杂草种子不易萌发，避免杂草丛生，能够 影响蔗苗的萌发和生长。
地膜上表面盖土后有一定重量，甘蔗出苗叶片未展开前呈剑形蔗苗，易于 穿破地膜，形成膜孔，剑形蔗苗突破地膜将免于被膜内高温灼伤或灼死。
图l为本发明提出的栽培方法纵剖示意图。
图中l、植蔗沟，2、蔗垄，3、甘蔗种茎苗，4、光解地膜，5、细土， 6、 蔗苗，7、膜孔。
具体实施例方式
以下结合实施例和附图对本发明作进一步说明
从图l可以看出，蔗田呈波浪形，光解地膜盖于植蔗沟l表面，细土压实沟
底地膜，像给蔗田表面装上了一道闸甘蔗种茎苗栽后先盖一层薄土，再在土
表盖光解地膜，盖膜后再在光解地膜表面盖上一层细土，蔗芽萌发后易穿过地
膜，可免遭高温灼伤。本发明具有多重作用
1、预防植蔗沟l水分向外蒸发，使种茎苗保持湿润状态，有利于促进种茎
苗萌发，形成蔗苗6，蔗苗自然破膜，形成膜孔7。
2、 地膜4上表面所盖细土5使膜内光照弱，有利于预防膜内杂草种子的萌发 和生长。
3、 地膜4上表面所盖细土5较薄，膜上表面土层薄杂草种子不易萌发或萌发 之后常处于干湿交替状态、根系不能深扎吸收地下水份，难于成活。
4、 所使用的地膜为光解地膜4，不需要揭膜，雨季可有效储水，旱季防水分快速流失，保持根系的湿度，促进甘蔗生长。
5、 甘蔗砍收后，蔗蔸处于地膜覆盖之下湿度增大，有利于宿根蔗发株，延 长宿根年限。
6、 蔗地翻耕时，光解地膜受光照自然分解，不会造成任何环境污染。植蔗 沟1与蔗垄2高度之差，即植蔗沟深度约为30 40cm。
本方法主要适用于干旱少雨、气温回升后春季新植蔗，能大大延长蔗田保 墒抗旱周期，减少蔗田水分蒸发流失，避免膜内外杂草的大量生长和蔗苗萌芽 后难于破膜而造成灼伤或灼死等不必要的损失，促进蔗苗萌发和生长，提高植 蔗效益。
权利要求
1.一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法，其特征在于甘蔗苗栽种后在保持一定土壤湿度的植蔗沟内盖光解地膜，然后在地膜表面再覆盖细土，具体步骤为(1)开蔗沟挖植蔗沟，沟底土堆放于蔗垄；(2)栽种甘蔗种茎苗种于蔗沟底，并盖上一层薄土；(3)浇水栽种后保持一定土壤湿度，若土壤干燥，用水浇湿土表层；(4)盖膜根据种植沟的宽度选择适当宽幅的光解地膜，对种植沟进行覆盖；(5)盖土用细土压紧压实盖膜后的植蔗沟上表面及光解地膜的边缘，增加地膜的重量，以利于有效保持水分和蔗苗破膜。
2、 根据权利要求1所述的一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法，其特征在 于植蔗沟与蔗垄之间的深度为30 40cm。
3、 根据权利要求1所述的一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法，其特征在 于选用厚度0.008 0.012cm、宽幅0.4 0.5m光解地膜，对种植沟进行覆盖。
全文摘要
一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法，主要技术措施是甘蔗栽种后先盖土，然后使用厚0.008～0.012cm的光解地膜对种植沟进行覆盖，再用细土把地膜四周及地膜上表面压紧压实，本发明可防止膜内杂草的生长，促进甘蔗幼苗自然穿过地膜，通过地膜和土壤多次对甘蔗种植沟的覆盖，实现蔗田的有效保湿，解决甘蔗幼苗难于穿透地膜内而造成烧苗的问题，满足甘蔗出苗、生长对湿度和温度的特殊需求。
文档编号A01G1/00GK101637088SQ200910094878
公开日2010年2月3日 申请日期2009年8月26日 优先权日2009年8月26日
发明者刘家勇, 吴才文, 夏红明, 尹兴祥, 昆 杨, 杨洪昌, 俊 赵, 赵培方 申请人:云南省农业科学院甘蔗研究所