本发明属于农业种植技术领域，具体涉及一种毛叶山桐子树矮化密植的栽培方法。
背景技术：
毛叶山桐子树是大风子科山桐子属落叶乔木，具有极高的经济价值和观赏价值。毛叶山桐子的果实含油率为20％-30％，种子含油率为20％-26％，可制肥皂或做润滑油，是优质食用油和高级护肤皂、保健品的上佳原料。毛叶山桐子木材松软，可供建筑、家具、器具等的用材。花多芳香，有蜜腺，为养蜂业的蜜源资源植物。毛叶山桐子为山地营造速生混交林和经济林的优良树种；以因其树形优美，果实长序，结果累累，果色朱红，形似珍珠，是山地、园林的观赏树种。但毛叶山桐子树形高大，高8-21米，结果后不易采摘，病虫害防治困难，从而导致毛叶山桐子产量及品质不高，大小年现象严重，土地利用率低，经济效益低。
因此提供一种毛叶山桐子树矮化密植方法，能提高土地利用率高、方便种植和采摘，提高毛叶山桐子果实产量及品质，成为了本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现要素：
本发明公开了一种毛叶山桐子树矮化密植的栽培方法，解决了现有技术中毛叶山桐子树病虫害防治困难，结果后不易采摘，果实产量及品质不高，土地利用率低，经济效益低的问题。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：
一种毛叶山桐子树矮化密植的栽培方法，包括以下步骤：
a：整地密植
整地、挖窝，将挖出的土堆放在植窝周围作为回填土备用，植窝间的间距为3×3m，植窝的规格长为60-70cm，宽为50-60cm，深为70-80cm；在植窝中施底肥后，回填土与窝内覆盖肥料混匀后回填植窝，回填至植窝深15-25cm；
密植，将一年生毛叶山桐子树苗放入植窝中，用回填土回填，浇水，踩实植窝；
b：修剪整形
将密植后的毛叶山桐子树苗培养一年后，进行修剪整形，使修剪后的毛叶山桐子树苗在达到到盛产期时，树体为树高3-5m，树冠为2.5×2.5米的宝塔状分层分散形，第一层3个，第二层2个，第3层1—2个，每层间距0.5-0.8m，各层主枝上下错开，不重叠，不交叉，主枝基角50-60度。
优选地，步骤a中底肥为有机肥。
优选地，步骤a中覆盖肥料为草木灰和有机肥，与回填土按重量比1-2：3-5：5-8混匀后回填植窝。
优选地，步骤a中毛叶山桐子树苗高60-70cm，直径0.6cm以上。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
本发明方法简单，操作简便，能有效控制毛叶山桐子树形，提高土地利用率高、方便种植和采摘，提高毛叶山桐子果实产量及品质。
本发明采用密植与控制树形相结合，有效地降低了毛叶山桐子树的高度，方便进行病虫害的防治工作，方便种植和采摘。同时树高的降低，减少了树体对营养的需求，在同等施肥量的情况下，可有更多的养料用于满足结果需求，从而增加果实产量，避免大小年现象。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步描述，但不限制本发明的保护范围和应用范围。
实施例1
一种毛叶山桐子树矮化密植的栽培方法，包括以下步骤：
a：整地密植
整地、挖窝，将挖出的土堆放在植窝周围作为回填土备用，植窝间的间距为3×3m，植窝的规格长为70cm，宽为60cm，深为80cm；在植窝中施有机底肥后，将草木灰、有机肥和回填土按重量比1：5：5混匀后回填植窝，回填至植窝深25cm；
密植，将一年生高60cm，直径0.6cm以上的毛叶山桐子树苗放入植窝中，用回填土回填，浇水，踩实植窝；
b：修剪整形
将密植后的毛叶山桐子树苗培养一年后，进行修剪整形，使修剪后的毛叶山桐子树苗在达到到盛产期树体为树高3m，树冠为2.5×2.5米的宝塔状分层分散形，第一层3个，第二层2个，第3层2个，每层间距0.8m，各层主枝上下错开，不重叠，不交叉，主枝基角60度。
实施例2
一种毛叶山桐子树矮化密植的栽培方法，包括以下步骤：
a：整地密植
整地、挖窝，将挖出的土堆放在植窝周围作为回填土备用，植窝间的间距为3×3m，植窝的规格长为60cm，宽为50cm，深为70cm；在植窝中施有机底肥后，将草木灰、有机肥和回填土按重量比2：3：8混匀后回填植窝，回填至植窝深25cm；
密植，将一年生高70cm，直径0.6cm以上的毛叶山桐子树苗放入植窝中，用回填土回填，浇水，踩实植窝；
b：修剪整形
将密植后的毛叶山桐子树苗培养一年后，进行修剪整形，使修剪后的毛叶山桐子树苗在达到到盛产期树体为树高3m，树冠为2.5×2.5米的宝塔状分层分散形，第一层3个，第二层2个，第3层1个，每层间距0.5m，各层主枝上下错开，不重叠，不交叉，主枝基角50度。
实施例3
按本发明实施例1和实施例2的方法对毛叶山桐子树进行矮化密植，与未矮化密植的毛叶山桐子树结出来的果实进行对比，结果见表1。
由表1可知，采用本发明方法能增加毛叶山桐子树的果实产量，避免大小年现象。
上述实施例仅为本发明的优选实施方式之一，不应当用于限制本发明的保护范围，但凡在本发明的主体设计思想和精神上作出的毫无实质意义的改动或润色，其所解决的技术问题仍然与本发明一致的，均应当包含在本发明的保护范围之内。