水转印制底技术的制作方法

文档序号:668985阅读:406来源:国知局
专利名称:水转印制底技术的制作方法
技术领域
本发明涉及一种鞋底花纹的制作技术,具体的说是一种通过将鞋底放置在喷过活化剂的水转印膜中,利用水对鞋底的压力,花纹即可均勻、牢固的印制在鞋底上,从而实现了水转印制底技术。
背景技术
目前的鞋底制作技术主要是滚花技术,简单易操作,但容易出现花纹脱落的现象, 不能够达到牢固、持久的效果,具有一定的局限性。

发明内容
本发明为解决现有鞋底制作技术存在一定局限性的问题而提供了一种水转印制底技术。本发明为解决技术问题所采用的技术方案是一种水转印制底技术,其特殊之处是根据需要的花纹及鞋底的特点选用合适的水印膜,将水印膜放置在水平面上,喷活化剂, 再将鞋底放置到水印膜上,沐入水中,水温控制在35-40°C,时间25-30秒,用清水清洗掉多余的废膜、废料等,烘干,温度控制在50-60°C,再根据需要进行喷亮光剂即可完成转印技术。本发明的技术效果是采用上述方案实现了一种通过将水转印膜放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底放置在水转印膜上沐入水中,利用水对鞋底的压力,将花纹即可牢固均勻的印制在鞋底上,从而实现了水转印制底技术。


图1是本发明结构主视图并作摘要附图。图2、图3是本发明工艺制作示意图。在图中,1成型鞋底、2鞋底、3水转印膜。
具体实施例方式实施方案一如图所示,一种水转印制底技术,其特殊之处是根据需要的花纹及鞋底2的特点选用合适的水转印膜3,将水转印膜3放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底2放置在水转印膜3上,沐入水中,水温控制在35-40°C,时间25-30秒,再用清水清洗掉多余的废膜、废料等,烘干,温度控制在50-60°C,再根据需要进行喷亮光剂即可完成成型鞋底1的转印技术。实施方案二如图所示,一种水转印制底技术,其特殊之处是根据需要的花纹及鞋底2的特点选用合适的水转印膜3,将水转印膜3放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底2放置在水转印膜3上,沐入水中,水温控制在35-40°C,时间25-30秒,再用清水清洗掉多余的废膜、废料等,烘干,温度控制在50-60°C,再根据需要进行喷亮光剂即可完成成型鞋底1的转印技术。实施方案三如图所示,一种水转印制底技术,其特殊之处是根据需要的花纹及鞋底2的特点选用合适的水转印膜3,将水转印膜3放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底2放置在水转印膜3上,沐入水中,水温控制在35-40°C,时间25-30秒,再用清水清洗掉多余的废膜、废料等,烘干,温度控制在50-60°C,再根据需要进行喷亮光剂即可完成成型鞋底1的转印技术。实施方案四如图所示,一种水转印制底技术,其特殊之处是根据需要的花纹及鞋底2的特点选用合适的水转印膜3,将水转印膜3放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底2放置在水转印膜3上,沐入水中,水温控制在35-40°C,时间25-30秒,再用清水清洗掉多余的废膜、废料等,烘干,温度控制在50-60°C,再根据需要进行喷亮光剂即可完成成型鞋底1的转印技术。
权利要求
1. 一种水转印制底技术,其特征是将水转印膜放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底放置在水转印膜上沐入水中,利用水对鞋底的压力,即可均勻、牢固的将花纹印制在鞋底上。
全文摘要
一种水转印制底技术,其特殊之处是根据需要的花纹及鞋底的特点选用合适的水印膜,将水印膜放置在水平面上,喷活化剂,再将鞋底放置到水印膜上,沐入水中,水温控制在35-40℃,时间25-30秒,再用清水清洗掉多余的废膜废料等,烘干,温度控制在50-60℃,再根据需要进行喷亮光剂即可完成转印技术。
文档编号A43D8/22GK102150977SQ20101054957
公开日2011年8月17日 申请日期2010年11月10日 优先权日2010年11月10日
发明者单玉香, 王吉万 申请人:青岛亨达股份有限公司, 青岛亨达集团皮业发展有限公司
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