专利名称：一种设有镂空层的戒指的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种戒指，具体是指一种设有镂空层的戒指。
背景技术：
随着生活水平的提高，各种首饰作为消费品快速进入人们的生活，目前在市场上 广泛销售的首饰诸如戒指、项链、吊坠等等，在制作及结构上大都采用了传统样式，比如戒 指，基本上是使用量最大，最常见的首饰，对于男戒或者镶嵌大体积钻石或宝石的女戒，与 手指接触的表面比较宽，在佩戴这类彰显豪华或奢侈的时，指环内表面与手指紧密接触，因 接触面积大，故透气性差，容易弓I起人体不适。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种设有镂空层的戒指，指环内表面上设有镂空层， 佩戴时透气性好，佩戴舒适。为实现上述目的，本实用新型的解决方案为一种设有镂空层的戒指，包括指环， 在指环的内表面上设有凹槽，所述凹槽顶部设有垫层，垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘 位于同一平面，所述垫层呈网状。网状的垫层与凹槽之间形成透气空间，因此透气性好，且 佩戴舒适。所述的一种设有镂空层的戒指，所述指环的部分内表面上设有凹槽，该凹槽顶部 设有将其全部覆盖的垫层，所述垫层呈网状。所述的一种设有镂空层的戒指，所述指环的全部内表面上设有凹槽，该凹槽顶部 设有将其全部覆盖的垫层，所述垫层呈网状。所述的一种设有镂空层的戒指，所述凹槽及垫层的弯曲度与指环一致。采用上述结构的有益技术效果在于，因在指环的内表面上设有网状垫层，网状的 垫层与凹槽之间形成透气空间，因此透气性好，且佩戴舒适。
图1为本实用新型的立体图；图2为本实用新型的第一实施例的垫层立体图；图3为本实用新型的第二实施例的垫层立体图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本新型方案，
以下结合附图和实施方式对本 新型作进一步的详细说明。如图1所示，一种设有镂空层的戒指，包括指环1，在指环1的内表面上设有凹槽 2，所述凹槽2顶部设有垫层3，垫层3完全覆盖凹槽2并与凹槽2的边缘位于同一平面，所 述垫层3呈网状。所述凹槽2及垫层3的弯曲度与指环1一致。网状的垫层3与凹槽2之间形成透气空间，因此透气性好，且佩戴舒适。请参考图2所示，所述指环1的部分内表面上设有凹槽2，该凹槽2顶部设有将其 全部覆盖的垫层3，所述垫层3呈网状。请参考图3所示，所述指环1的全部内表面上设有凹槽2，该凹槽2顶部设有将其 全部覆盖的垫层3，所述垫层3呈网状。虽然通过实施例描绘了本发明创造，本领域普通技术人员知道，本发明有许多变 形和变化而不脱离本发明的精神，希望所附的权利要求包括这些变形和变化而不脱离本发 明的精神。
权利要求一种设有镂空层的戒指，包括指环，其特征在于，在指环的内表面上设有凹槽，所述凹槽顶部设有垫层，垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘位于同一平面，所述垫层呈网状。
2.如权利要求1所述的一种设有镂空层的戒指，其特征在于，所述指环的部分内表面 上设有凹槽，该凹槽顶部设有将其全部覆盖的垫层，所述垫层呈网状。
3.如权利要求1所述的一种设有镂空层的戒指，其特征在于，所述指环的全部内表面 上设有凹槽，该凹槽顶部设有将其全部覆盖的垫层，所述垫层呈网状。
4.如权利要求1所述的一种设有镂空层的戒指，其特征在于，所述凹槽及垫层的弯曲 度与指环一致。
专利摘要本实用新型提供了一种设有镂空层的戒指，包括指环，在指环的内表面上设有凹槽，所述凹槽顶部设有垫层，垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘位于同一平面，所述垫层呈网状。网状的垫层与凹槽之间形成透气空间，因此透气性好，且佩戴舒适。
文档编号A44C9/00GK201640726SQ201020056568
公开日2010年11月24日 申请日期2010年1月15日 优先权日2010年1月15日
发明者陈伟峰 申请人:陈伟峰