专利名称：近距离放射治疗植入粒子的制作方法
技术领域：
本发明涉及近距离放射治疗(brathytherapy)植入粒子的制作方法、近距离放射治疗植入粒子核的制作方法以及不依赖于制作方法的近距离放射治疗植入粒子。
背景技术：
放射治疗(radiotherapy)指的是采用辐射进行疾病的治疗，该疾病治疗主要但不限于诸如癌症的肿瘤治疗。放射治疗被用来破坏恶性或者有害的组织而不给临近的健康组织造成过度的损害。
电离辐射可以用来选择性地破坏包含在健康组织内的癌细胞。恶性细胞通常比健康细胞具有更强的辐射敏感性。因此，通过在理想的时间周期使用正确的辐射量，有可能会消灭所有不需要的癌细胞，而保存健康组织或对健康组织的损害最小化。几十年来，通常通过合适的时间周期使用仔细确定的电离辐射量已经治愈了局部癌症。已经开发了许多方法用来辐射癌组织而使其对附近健康组织的损害最小化。这样的方法包括使用线性加速器或其它设备所产生的高能射线束进行体外射束放射治疗。
放射治疗的另一个方法包括近距离放射治疗。在此，以粒子型、针型、线型或者导管形式的物质被长期或短期直接植入癌肿瘤或者癌肿瘤附近。所使用的放射性材料包括氡、镭和铱-192。最近，已经使用了放射性同位素铯-131、碘-125和钯-103。作为参考，这里引入在美国专利第3,351,049、4,323,055以及4,784,116号中描述的例子。
在近30年的期间，已经超过100个文献(有学术论文也有一般出版物)公开了使用碘-125和钯-103治疗缓慢生长的前列腺癌。尽管证明了用碘-125和钯-103治疗的成功，但在使用中还存在某些缺点和局限。当通过粒子的数量和间隔来控制总剂量时，用放射性同位素的半衰期(I-125为60天、Pd-103为17天)来设定剂量率。用于较快生长的肿瘤时，应该以更快、更均匀的速率对癌细胞进行辐射，同时保持使用软性X射线发射放射性同位素的所有优势。这种癌症为在大脑、肺、胰腺、前列腺和其它组织中发现的癌症。
I-125和Pd-103的低能量X-射线粒子已经成功地用于治疗癌症。作为参考，这里引入美国专利第1,753,287、3,351,049、4,323,055、4,702,228、4,784,116、4,891,165、4,994,013、5,163,896、5,405,309和6,099,458号所描述的，用于组织内近距离放射治疗的这些放射性同位素作为粒子或胶囊的封装方法。
以上参考的一些粒子有很多的缺点和局限，这些缺点和局限包括(a)从Pd-103产生的X-射线能量(20keV)较低；(b)I-125粒子的半衰期(60天)通常太长，不能用作除缓慢生长肿瘤以外任何长期植入的使用；(c)引入I-125粒子银线标记的使用(美国专利No.4,323,005)，具有大量不需要的特性低能量(＜10keV)银K-X-射线；以及(d)具有非优化几何图形的不同内部成分的粒子，需要大量的同位素去补偿该粒子周围的不均匀剂量图形。
密封放射性源的应用变得非常普遍，由此而建立了用于辐射保护的生产标准。用于密封放射性源的泄漏试验方法(ISO 99781992(E)和ISO 29191999(E))不断在改进。为了满足这些标准，密封的粒子必须暴露到各种环境压力中而保持完全密封。最难通过的试验是冲击试验，它要求将金属粒子体放在钢砧上，直径2.54cm、50克的重量从1米的高度落下到该粒子上。尽管典型的钛包装粒子壳被打平，金属粒子体也一定要没有泄漏。要通过这种严格的试验，为了保持原始的圆筒形状，粒子的制造(例如现有技术的美国专利第4,702,228、4,784,116、4,891,165、5,405,309号等中的建构)引入厚边缘的焊接、厚边缘的帽子和/或结实的内部成分。可是，这样的特点会引起由于辐射的自吸收而产生的粒子周围不均匀剂量的图形。这种非均匀性的剂量使存在于这种阴影的低剂量区域的癌细胞幸存下来、并在以后的一段时期内产生癌症复发的可能性增加。
几种现有技术的粒子设计(美国专利第3,351,049、4,994,013和5,163,896号)建议使用塑料、多离子交换树脂类(尼龙、纤维素酯或醋酸酯粘合剂、或者橡胶)来捕捉或保持放射性材料。随着放射同位素浓度的增加，通过粒子空穴内有机材料的自辐射分解可以产生不可接受的气体压力(例如H2、CO、CO2、CH4等)。由于过度增压粒子壳内部破裂，会产生放射性材料释放的危险。
本发明旨在解决至少一些上述问题，同时也并不限于此。本发明仅由所附的文字措词的权利要求书所限制，而不被对说明书的解释或其它有限的参考所限制。
发明概述本发明包括近距离放射治疗植入粒子的制作方法、近距离放射治疗植入粒子核的制作方法，以及不依赖于制作方法的近距离放射治疗植入粒子。在一个实施方式中，近距离放射治疗植入粒子包括具有在其内部设置的放射性核的密封的无机金属圆筒。放射性核包括无机多孔硅酸盐玻璃管，所述管具有沿该管轴向延伸的外表面。在无机多孔玻璃管外表面的至少一部分上设有无机晶状陶瓷涂层。该涂层包括治疗剂量的放射性材料。在密封的无机金属圆筒中容纳有射线标记物。
在一个实施方式中，近距离放射治疗植入粒子的制作方法包括，提供无机多孔硅酸盐玻璃管，所述管具有沿着该管轴向延伸的外表面的。在所述管外表面的至少一部分涂覆陶瓷前驱体。所述涂覆之后，将陶瓷前驱体暴露在有效温度下，以将所述管外表面部分上的所述前驱体形成连续的无机晶状陶瓷涂层。经过所述暴露，治疗剂量的放射性材料被吸附在陶瓷涂层上。在无机金属圆筒内部设置具有治疗剂量放射性材料的陶瓷涂覆玻璃管的至少一部分。将无机金属帽焊接到具有陶瓷涂覆的玻璃管的部分的无机金属圆筒的端部上，该管内部有治疗剂量的放射性材料。
在一个实施方式中，近距离放射治疗植入粒子核的制作方法包括，提供管，所述管具有沿其轴向延伸的外表面。提供容器，包括压模的通道，其尺寸可滑动地容纳所述管通过以在所述管外表面形成涂层。在所述容器内提供有陶瓷前驱体的混合物。将所述管移入容器内的陶瓷前驱体中并通过压模通道移出容器，在所述管外表面形成陶瓷前驱体的涂层。将该陶瓷前驱体涂层暴露到有效温度下，在所述管外表面部分形成无机晶状陶瓷涂层。经过这样的暴露，治疗剂量的放射性材料被吸附到陶瓷涂层上。
在一个实施方式中，近距离放射治疗植入粒子核的制作方法包括，提供管，该管具有沿其轴向延伸的外表面。提供包括模空穴的模子，该模空穴尺寸可容纳所述管并在其上形成涂层。将陶瓷前驱体的混合物放入所述模空穴。将所述管放入模空穴。在所述模空穴内的所述管外表面形成陶瓷前驱体的附着涂层。如此的形成过程后，所述模子被破坏性的熔化。所述熔化之后，将所述陶瓷前驱体涂层暴露到有效温度下，使所述管外表面形成无机晶状陶瓷涂层。如此暴露后，治疗剂量的放射性材料被吸附到陶瓷涂层上。
在一个实施方式中，近距离放射治疗植入粒子的制作方法包括，提供无机金属圆筒。在所述无机金属圆筒的端部焊接无机金属帽。所述焊接包括在旋转帽和圆筒时向所述帽和圆筒发射一连串激光脉冲，以有效形成一连串重叠的焊接点。在一个实施方式中，临近的焊点相互重叠不大于以焊点直径重叠除以焊点直径计算的50％。在一个实施方式中，以与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射激光脉冲。在所述无机金属圆筒内部设有放射性核。所述放射性核包含治疗剂量的放射性材料。
也设想了其它方面和实施方式。
附图的简要说明下面参照以下附图详细描述本发明的优选实施方式。
图1是根据本发明的一方面近距离放射治疗植入粒子的剖面简图。
图2是根据本发明的一方面替换实施方式的近距离放射治疗植入粒子端区域放大的剖面简图。
图3是根据本发明的一方面另一个替换实施方式的近距离放射治疗植入粒子的剖面简图。
图4是根据本发明的一方面还有一个替换实施方式的近距离放射治疗植入粒子的剖面简图。
图5是用于本发明方法方面的示范设备的透视图。
图6是根据本发明的一方面使用的图5所用设备的视图。
图7是用于本发明方法方面的另一个示范设备的透视图。
图8是根据本发明的一方面焊接重叠的简略视图。
图9是根据本发明的一方面焊接重叠的简略视图。
图10是根据本发明的一方面焊接重叠的简略视图。
图11是根据本发明的一方面焊接重叠的简略视图。
图12是根据本发明的一方面在制作中的近距离放射治疗植入粒子的简略视图。
图13是根据本发明的一方面在制作中的近距离放射治疗植入粒子的简略视图，并且是沿图12的线13-13向下的。
优选实施方式的详细描述根据本发明的优选方面，首先参考图1描述优选实施方式的近距离放射治疗植入粒子，一般参考标号10所示。在本发明的上下文中，“近距离放射治疗植入粒子”是任何为了赋予辐射剂量而长期或短期植入的不论其外形如何的固态物体，例如不管是否是针形、胶囊形、颗粒形等等。植入粒子10包括密封的无机金属圆筒12，该圆筒具有容纳其中的放射性核14。用于圆筒12的示例性优选材料是元素钛或者合金钛。然而，任何存在的或还在开发的金属或合金，优选具有低原子量和高强度重量比的金属。
一个优选实施方式的圆筒12包括圆筒部分16和一对相对端部的帽18和20。部件16、18和20优选由相同材料组成，帽18和20焊接在圆筒部分16上。下面描述示例性的优选制作方法。圆筒部分16的示例性优选长度为1.0-10.0mm。部分16的示例性优选壁厚为0.05-0.1mm。圆筒12的示例性优选外径或者最大横截面尺寸为0.1-2.0mm。帽18和20的厚度也优选为0.05-0.1mm。该帽所具有的直径或最大横截面尺寸优选略微大于圆筒部分16。帽18和20用下面所描述的优选方式优选通过焊接附着到圆筒部分16。圆筒结构12优选使用均匀壁厚的部件16、18和20。
举例说明的优选圆筒12是具有基本上平的端部、与外界隔绝的密封直圆筒。在将其放入肿瘤或其它组织的位置后，与具有圆形端部的植入粒子相比，平的端部具有可以稳定粒子的优点，因而是优选的。另外，在装填时，已知圆形端部会在针内发生堵塞。不管怎样，具有平的端部以外的端部的粒子自然也在考虑之中的。圆筒结构12的一个优选实施例是长4.3mm、内径0.7mm、外径0.8mm、具有0.1mm厚的焊接端帽的直圆筒钛管。
放射性核14包括无机多孔硅酸盐玻璃管22。在图1的实施方式中，可认为这样的管具有在长度方向上相对的开口的端部27。管22还具有沿该管轴向延伸的外表面24、内表面26，以及两端部表面28。仅仅作为例子，优选的硅酸盐玻璃是硼硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、硼磷硅酸盐玻璃和石英玻璃。还仅作为例子，这样的硅酸盐玻璃的硼或磷的添加优选为3-12％重量百分比的范围。不管怎样，玻璃是高度透射治疗辐射的优选材料。管22的示例性优选长度为1.0-10.0mm。管22的示例性优选外径为0.4-2.0mm，示例性优选内径为0.25-1.8mm。一个特别示例性的实施方式是外径0.4mm、内径0.3mm、4-4.25mm长的玻璃管。
在无机多孔玻璃管外表面24的至少一部分上涂覆有无机晶状陶瓷涂层30。在示例性图示的图1实施方式中，涂层30涂覆了全部管外表面24。无机晶状陶瓷涂层的厚度可以等于、大于或小于无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度，示例性的图1实施方式示出了涂层30的厚度大于玻璃管22的厚度。不管怎样，涂层30的示例性优选厚度为0.1-0.4mm，特别示例性的厚度为0.15mm。
用于无机晶状陶瓷涂层30的示例性优选材料包括金属硅酸盐，例如像硅酸铝钠的硅铝酸盐。在其添加或取代时，示例性的添加材料包括铝、钠、镁、钾、钙和锂的硅酸盐和氧化物。另外，优选的陶瓷材料30优选是对一种或多种特定的放射性核原本具有化学吸附性或吸收性，或者包含以下将要描述的无机离子交换材料。
不管怎样，涂层30包含治疗剂量的放射性材料。在特别示例性的图1的实施方式中，图示为包含吸附到陶瓷涂层30外表面的放射性同位素32。依靠涂层30的多孔和外表面的光滑，放射性材料可以渗入陶瓷涂层30的一些或更多部分中，但是优选容纳在陶瓷涂层30的最外部分。这样将放射化学物质设置到金属圆筒12的内表面附近，优选最小化从所述粒子内部成分自吸收的量，由此从该粒子释放的辐射量最大化，也使发射辐射的均匀均质性提高。示例性优选的放射性材料是铯-131。然而，可以考虑任何放射性同位素，不论是否存在或者还在被开发或分离。仅作为示例，例子包括碘-125、钯-123、铯-137、钇-90、锶-90以及钯、钴、银、铜、碘、铀、钍、锕、稀土金属和锕系元素的其它放射性同位素。仍仅作为例子，示例性的优选特征性辐射发射是20keV-100keV，特定的例子是29keV。仍仅作为例子，制成粒子的示例性的优选的半衰期为8-100天。
近距离放射治疗植入粒子10还包括容纳在密封的无机金属圆筒内的射线照像标记物。仅作为例子，可以包括金属气相沉淀、金属糊、金属球、金属线等等。最优选的是，射线照像标记物容纳在无机多孔玻璃管内部。在图示的图1实施方式中，射线照像标记物34以有效地射线透不过的线型容纳在无机多孔玻璃管22内部。示例性的优选材料是金，并且无论如何，线34的示例性的优选厚度或直径为0.1-0.4mm，特别的例子是0.25mm。仅作为例子，用于射线透不过标记的示例性附加材料包括钨、铑、铂、铅和锡。相对于肿瘤或其它组织，将粒子植入到确定的合适位置后，射线照像标记物作为X-射线标记使粒子从外部更易看得见。
图1示出了具有放射性核的近距离放射治疗植入粒子，其中玻璃管22具有长度上相对开口的两端部27。仅作为例子，在图2中示出了近距离放射治疗植入粒子10a的示例性的替换实施方式。使用与第一实施方式相似的标号，适当地用尾标“a”或采用不同的标号表示不同。无机多孔硅酸盐玻璃管22a包括用无机多孔玻璃密封的长度方向上相对的两端部27a。仍在图示的图2实施方式中，仅作为例子，材料30a和32a也容纳到无机多孔硅酸盐玻璃管22a的两端27a。
示例性的图1和图2的实施方式示出了作为涂覆全部管外表面24的无机晶状陶瓷涂层30/32a，并且沿整个管22/22a容纳了放射性同位素30/32a。仅作为例子，图3说明了替换实施方式的近距离放射治疗植入粒子10b。使用与第一实施方式相似的标号，适当地用尾标“b”或采用不同的标号表示不同。图3示出了一些中心或核部分40，该中心或核部分不涂覆陶瓷材料，或者用不吸附/吸收放射性同位素的材料有效掩模。由此，治疗剂量的放射性材料的涂覆少于管的整个外表面。示例性的掩模材料包括聚丙烯腈或蜡类。在一些实施方式中，这样可以增加均匀的均质性。区域/部分40的示例性优选长度为1.0-4.0mm，相对于金属圆筒12的长度位于中央。
仅作为例子，图4示出了另一个示例性的实施方式。使用与第一实施方式相似的标号，适当地用尾标“c”或采用不同的标号表示不同。近距离方式治疗植入粒子10d包括靠近无机金属圆筒12端部的一对球41。这样的球可以包含射线照像标记物材料和/或更优选包含治疗剂量的放射性材料。仅作为例子，这样的球可以包含射线照像透不过的或陶瓷的核42，其具有被附近容纳的放射剂量的放射性材料44。
以上描述了独立于制造方法的示例性的优选近距离放射治疗植入粒子的实施方式。下面描述根据本发明方面的上述和其它近距离放射治疗植入粒子示例性的优选制作方法，包括根据本发明方面的近距离放射治疗植入粒子核的制作方法。
在一个实施方式中，参考图5和图6描述了近距离放射治疗植入粒子核的制作方法。图示了包括容器体50和压模通道52的合适的容器48。容器体50示例性的容积为5-50ml。压模通道52示例性的尺寸为长20mm、外径2.5mm、内径1mm。提供管，该管具有沿其轴向延伸的外表面。示例性的管材料包括无机多孔硅酸盐玻璃材料，第一个描述的实施方式的管22是优选的例子。不管怎样，压模通道52的尺寸可滑动地容纳该管通过，在该管外表面形成涂层。
在容器体50的内设有陶瓷前驱体的混合物51。示例性的陶瓷前驱体包括任何能提供上述设置的示例性的陶瓷涂层，例如包含10-40％重量百分比的氧化铝的硅酸钠的混合物。在一个示例性的实施方式中，陶瓷前驱体的混合物包括无机离子交换材料，该材料对下面要使用的放射性材料具有亲和性。示例性的优选无机离子交换材料包括沸石，例如硅钛酸盐。
参照图6，将管(例如来自第一个描述的实施方式的管22)移入容器体50内的陶瓷前驱体混合物51，并通过压模通道52至容器48的外部以有效地在该管外表面上形成所述陶瓷前驱体的涂层54。在归于实践的实例中，使用长100mm、外径0.4mm、内径0.3mm的硼硅酸盐玻璃管。
随后，将所述管上的陶瓷前驱体涂层暴露到有效温度下，以形成管外表面的无机晶状陶瓷涂层(例如第一个描述的实施方式的涂层30)。在归于实践的实例中，将涂层管空气干燥，接着放入火炉中。这样加热到170℃约60分钟，将前驱体涂层转化为含有硅酸铝钠的无机晶状陶瓷涂层。仅作为例子，形成陶瓷材料的示例性的温度范围是100℃-500℃。在归于实践的实例中，接着测量涂覆玻璃管的均匀厚度，并切成4.0-4.25mm长度。优选的属性是如上所述的关于涂覆的玻璃管22的其它方面。
随后，治疗剂量的放射性材料被吸附到陶瓷涂层上。这样操作的一个优选的方式是用含有放射性同位素离子的溶液接触陶瓷涂层的外表面，所述放射性同位素离子对陶瓷材料和/或陶瓷材料内的离子交换材料具有亲和性。例如，仅作为例子，通过将核单独地浸入0.1-0.4ml溶液中1分钟至20小时的示例性的时间周期，通过吸附和/或吸收到其外表面，将高纯度和准确已知量的溶液中的放射能(mCi/ml)转移到陶瓷涂层的核。另外，示例性的优选放射性化学物质是铯-131。在处理的时间中，优选轻轻地摇动溶液与核。用于处理单个核的一个具体例子的溶液含有0.25ml水，每ml水包含96.4毫居里的铯-131，在室温和常压条件下处理14.5小时。超过88％的放射能转移到所述核中。很大程度上依赖于所使用的同位素和陶瓷材料(如果有的话，包括任何离子交换材料)，溶液可以是酸性的、碱性的、含水溶液或非水溶液。然后从该溶液中移出负载了放射性的核，并优选在加热灯的辅助下空气干燥1小时。
根据本发明方法的方面，以上提供的仅是近距离放射治疗植入粒子核的制作方法一个示例性描述的实施方式。另外的近距离放射治疗植入粒子核的制作方法包括，提供管，该管具有沿其轴向延伸的外表面。优选的是，该管包含无机多孔硅酸盐玻璃材料，例如第一实施方式中的管22。提供模子，其包括模空穴，该模空穴的尺寸可以容纳所述管并在其上形成涂层。仅作为例子，图7示出了其内设有空穴62的模子60。一个示例性的形成空穴62的方式是通过钻孔。可选择地，模子60可以由两个或更多组件/部件组装在一起组成具有空穴62的模子体60。不管怎样，所述模子的熔点温度优选低于或等于500℃。另外，示例性优选的模子材料包括蜡类(即，诸如动物蜡类、植物蜡类，和矿物蜡类的合成的和/或天然的蜡类，如包括诸如链烷烃、微晶和凡士林的矿脂蜡类，以及其它)和塑料类(即，聚乙烯类、聚酯类、聚丙烯类、聚氨酯类、乙烯类聚合物、聚碳酸酯类、尼龙类、丙烯酸类、苯乙烯类，以及其它)。
将陶瓷前驱体的混合物放入所述模空穴，并将所述管放入模空穴。优选地，在模空穴内先提供陶瓷前驱体混合物，然后是所述管，当然也可以考虑以相反的顺序放入。在模空穴内在所述管表面上形成陶瓷前驱体的附着涂层，例如仅让陶瓷前驱体处理外部管表面可接受的时间周期，例如1至24小时。
接着随后，将该所述模子破坏性的熔化，优选从所述陶瓷前驱体涂覆的管上熔化该模子，并更优选熔化并蒸发模材料。熔化的示例性的优选加热温度为100-170℃，此时模材料的熔化温度至少等于或低于170℃。任何残留的模材料可以用任意合适的溶剂溶解，例如用己烷溶解蜡。熔化之后，将陶瓷前驱体涂层暴露到有效温度下，以在该所述管外表面形成无机晶状涂层，例如在上述第一实施例方式中的陶瓷涂层30。示例性的优选温度范围如以上实施方式中所述，具体特别实施例子为170℃，并且该温度趋向于烧掉蒸发任何残留的蜡或其它模材料。所述暴露之后，治疗剂量的放射性材料吸附到陶瓷涂层上，例如用上述任何方法或其它方法。注意，在该所述管的端部表面和/或内表面上可以用任何上述的实施方式的任何方法形成陶瓷涂层。另外，当放入所述模空穴时，该所述管长度方向上相对端可以开口也可以密封。另外，在该所述管内部可以设置无机金属标记。仅作为实施例子并按照本发明的这方面，示例性的优选的所述管直径为0.69-0.70mm。所述涂层优选的平均厚度为0.15mm。并且按照这个特别的实施方式，至少在使用线型或杆型的射线照像标记物时，优选的长度大约3.8mm。
本发明也涉及近距离放射治疗植入粒子的制作方法。在一个实施方式中，该方法包括，提供无机多孔硅酸盐玻璃管，该管具有沿其轴向延伸的外表面。优选的所述管是上述第一实施方式中所描述的。该管外表面的至少一部分涂覆了陶瓷前驱体。示例性的优选方式如上所述，例如包括结合图5、图6所描述的方法，以及结合图7所描述的方法。然而，可以考虑任何存在的或还在开发的涂覆方法。仅作为例子，除图5-图7外的优选涂覆方法外还包括气溶胶喷涂、液体喷涂、铸模、压模铸法、非气溶胶微喷射液体喷涂等等。另外，所述陶瓷前驱体优选具有如上所述的优选特征。
所述涂覆操作之后，所述陶瓷前驱体被暴露到有效温度下以从所述管外表面部分上的前驱体形成连续的无机晶状陶瓷涂层。暴露的示例性的优选方式和温度如上所述。接着，治疗剂量的放射性材料就吸附到所述陶瓷涂层上。这样操作的优选和示例性的方式如上所述。
具有治疗剂量放射性材料的陶瓷涂覆玻璃管的至少一部分被设置在无机金属圆筒内。示例性的圆筒是第一实施例中的圆筒12。示例性的这样的直筒一端开口，另一端封闭，例如在圆筒部分16上焊接帽18和帽20之一。如果在陶瓷涂覆的玻璃管内使用杆型或线型的无机金属放射性照像标记或将其容纳于陶瓷涂覆的玻璃管内，在所述无机金属圆筒内放入放射性玻璃管之前或之后，就可以将其放入所述管中。这样的射线照像标记物可以卷曲或者粘接，或者松散地容纳在所述玻璃核内。
不管怎样，无机金属帽最后焊接到具有部分陶瓷涂覆管的所述无机金属圆筒的端部，该管中容纳了治疗剂量的放射性材料。优选的焊接方式在下面叙述。
特别地，优选使用精确激光焊接的形式作为端帽18、20的密封方法，以便优选的钛金属最小量地熔化。优选地，该焊接技术也产生了具有均匀厚度的周围壁并获得辐射分布基本上均匀的粒子，该粒子使辐射区域的衰弱最小化。在优选的方法中，将直径大约0.81mm、厚0.10mm的端帽压印到钛片原料上，并形成“瓶帽”外观的边缘。这样可以使端帽在即刻焊接前容易地放置在圆柱形主体上。优选的技术使端帽保持在带有碳化物尖端的所述圆柱形部分的之上/上面的位置。接着，将端帽临时点焊在两个大约120-180°相隔的位置。在最初的临时点焊之后，除去该碳化物尖端。
在一个优选的实施方式中，接着将所述帽和圆筒旋转，同时向该帽和圆筒发射一连串激光脉冲以有效地形成一连串重叠的焊接点。临近焊接点互相重叠不超过以焊接直径重叠部分除以焊接直径计算的50％。更优选地，临近焊接点的互相重叠为以焊接直径重叠部分除以焊接直径计算的20-40％，甚至更优选20-30％。仅作为例子并不作为限制，优选的效果是提供适当的焊接重叠，以获得很好的对流体严密的密封，同时维持能经受机械强度试验的机械上很强的密封，例如ISO99781992(E)和ISO 29191999(E)试验。
图8-图11简略地示出了示例性的激光焊接重叠，图8和图9示出了50％的重叠，图10和图11示出了25％的重叠。图8和图10简略地示出了焊接重叠的程度，图9和图11简略地示出了当脉冲及时地从左到右排列时完成的焊接外观，每个后续的焊接点都重叠着前面的焊接点的一部分。特别地，图8示出了重叠的焊接点64，左边的第三个焊接点具有直径D，其被下一个临近焊接点重叠了重叠部分O，该重叠部分O包括一部分D。在图8和图9示出的实施例中，O是D的50％。自然，焊接的区域可能并不是理想的圆形，其具有的本文所指的直径是通过激光脉冲产生的紧临的焊接点的平均直径。
图10和图11示出了关于一连串重叠焊接点66的25％的重叠。因此，在这个实例中，O’是直径D的25％。
进一步优选地，所述激光脉冲是以与所述金属圆筒外部表面垂直的方向成角的发射角度向帽和圆筒发射。例如，图12示出了无机金属圆筒16具有被容纳在该圆筒直接相对两端的金属帽18和20。端帽18和20之一或两个都可以用已描述的方式焊接到无机金属圆筒16上。无机金属圆筒16可被看作具有长度L、长度方向的轴67、和外部表面70。另外，图12示出了示例性的界面68，在此，金属帽18与金属圆筒16接触或连接。如上所述，帽18优选临时点焊到圆筒16。图12也示出了示例性的线72，该线从金属圆筒16最接近界面68的外部表面70垂直延伸。线76示出了用于激光脉冲的与垂直线72成角的示例性发射角度A。优选地，从垂直于金属圆筒外表面的方向，角度A不超过30°，更优选15-30°，最优选18-22°。
进一步优选地，向所述帽和圆筒发射激光脉冲(例如沿线76)，以至发射角度(如图示)处于向着长度L主体的方向。也设想了(但是可认作较少优选)以发射角度B沿着发射线77指引激光脉冲，该角度B处于离开金属圆筒16的长度L主体的方向。进一步优选地，可以认为所述无机金属帽具有离开所述无机金属圆筒的最外边缘。优选地，焊接包括在比所述帽和圆筒的界面更接近这样的最外边缘的位置瞄准激光脉冲各自中心。例如，可以认为帽18具有这样的最外边缘75，该最外边缘75在图12的方位中围绕帽18上部外周延伸。线76a是指引到帽18上部边缘75的示例性的瞄准线。
图12和图13示出了作为排列到，并由此延伸到长度方向的轴67的发射线76/76a(并因此，与垂线形成它们的发射角度)。图13还示出了替换的示例性的发射线80和82。还示出了分别通过角度M和N从外部表面70，分别与垂线81和83成角度，并且相对于图12示出的方向可以或不可以水平排列。不管怎样，发射角度M和N与长度方向的轴67侧面相隔，使激光发射线和发射角度不会延伸到长度方向上的轴67，如关于图示的发射线76/76a和发射角度A。
不管怎样，所述焊接优选产生一连串围绕金属圆筒和帽将两部分密封在一起的圆周焊接点。仅作为例子，金属圆筒和帽示例性的旋转速度为，一个完整的旋转为3至4秒，优选选择的脉冲能和脉冲间隔能够围绕圆筒的圆周每0.17mm至每0.25mm产生一个焊接点。焊接区域优选不断地用例如氩的惰性气体清洁，例如以每小时2-3标准立方英尺的流速。示例性的优选焊接参数选择每次脉冲产生一个大约0.20mm至0.35mm直径的焊接区域。示例性的优选脉冲能为218伏特，激光打击时长3毫秒至6毫秒，激光打击之间的时间大约300毫秒。采用25％的脉冲重叠部分、所述的与垂线18-20％的发射角度、具有在端帽上部边缘瞄准的脉冲中心的示例性的优选条件，导致并能使产生的粒子经受冲击试验，该冲击试验为用直径1英寸、重50克的钢锤从1米的高度落下到粒子上。所述冲击之后，浸入90-95℃温度的热水中1分钟测试粒子的密封性，在所述粒子的外部没有气泡产生。
根据本发明的某些方面，以上仅仅描述了焊接的优选技术。本发明的方面还进一步包括采用一个或多个上述不同的优选示例性的焊接特征的组合的近距离放射治疗植入粒子的制作方法。根据一个实施方式，近距离放射治疗植入粒子的制作方法包括，提供无机金属圆筒。将无机金属帽焊接到无机金属圆筒的端部。所述焊接包括向帽和圆筒发射一连串激光脉冲，同时旋转帽和圆筒以有效地形成一连串重叠的焊接点。在一个实施方式中，临近焊接点互相重叠不超过以焊接直径重叠部分除以焊接直径计算的50％。在一个实施方式中，从与金属圆筒外表面垂直的方向成角的发射角度向帽和圆筒发射激光脉冲。在所述无机金属圆筒的内部设有放射性核，该核包含治疗剂量的放射性材料。在所述焊接前或焊接后，可以在所述无机金属圆筒内放入放射性核，并且该焊接的产生与两个帽到所述无机金属圆筒相对端部有关。尽管不要求按照文字描述的本发明后一方面的那些，但与设计和制造有关的放射性核的制作和其它特征优选如上述实施方式所描述。
权利要求
1.一种近距离放射治疗植入粒子的制作方法，包括提供无机多孔硅酸盐玻璃管，所述管具有沿其轴线方向延伸的外表面；用陶瓷前驱体涂覆所述管外表面的至少一部分；所述涂覆后，将所述陶瓷前驱体暴露在有效温度下，以使所述管外表面部分上的所述前驱体形成连续的无机晶状陶瓷涂层；所述暴露后，将治疗剂量的放射性材料吸附在所述的陶瓷涂层上；将具有治疗剂量放射性材料的所述陶瓷涂覆的玻璃管的至少一部分置于无机金属圆筒内；以及在所述无机金属圆筒的端部上焊接无机金属帽，所述无机金属圆筒内设有具有治疗剂量放射性材料的所述陶瓷涂覆的玻璃管的部分。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述陶瓷前驱体包括无机离子交换材料。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述吸附包括用包含同位素离子的溶液接触所述陶瓷涂层，该同位素离子对所述离子交换材料具有亲和性。
4.根据权利要求2所述的方法，其中所述离子交换材料包含至少一种沸石。
5.根据权利要求2所述的方法，其中所述离子交换材料包含硅钛酸盐。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃包含硼硅酸盐材料。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃含有磷硅酸盐材料。
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷含有金属硅酸盐。
9.根据权利要求8所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷含有铝硅酸盐。
10.根据权利要求1所述的方法，其中所述陶瓷前驱体含有硅酸钠和氧化铝，并且所述陶瓷含有硅酸铝钠。
11.根据权利要求1所述的方法，其中所述治疗剂量的放射性材料涂覆全部所述管外表面。
12.根据权利要求1所述的方法，其中所述治疗剂量的放射性材料涂覆少于全部所述管外表面。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述治疗剂量的放射性材料不涂覆所述玻璃管长度方向的1.0mm-4.0mm中央部分。
14.根据权利要求1所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷涂层厚0.1mm-0.4mm。
15.根据权利要求1所述的方法，包括在所述焊接之前将射线照像标记物置入所述无机金属圆筒。
16.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂覆采用气溶胶喷涂法。
17.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂覆采用液体喷涂法。
18.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂覆采用模制法。
19.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂覆采用压模铸法。
20.根据权利要求1所述的方法，其中，所述涂覆包括提供容器，其包括压模通道，所述压模通道的尺寸可以滑动地容纳所述管通过以在所述管外表面上形成涂层；在所述容器中设置所述陶瓷前驱体的混合物；以及将所述管移入所述容器内的所述陶瓷前驱体混合物中，并通过所述压模通道至所述容器外，以在所述管上有效地形成所述陶瓷前驱体的涂层。
21.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂覆包括提供模子，其包括模空穴，所述模空穴的尺寸可容纳所述管并在其上形成涂层；在所述模空穴内放入所述陶瓷前驱体的混合物；在所述模空穴内放入所述管；在所述模空穴内的所述管外表面上形成所述陶瓷前驱体的附着涂层；以及所述涂层形成后，破坏性地熔化所述模子。
22.根据权利要求1所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度与所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度相同。
23.根据权利要求1所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度大于所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度。
24.根据权利要求1所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度小于所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度。
25.一种近距离放射治疗植入粒子的制作方法，包括提供无机多孔硅酸盐玻璃管，所述管具有沿其轴线方向延伸的外表面；将陶瓷前驱体涂覆于所述管外表面的至少一部分；所述涂覆之后，将所述陶瓷前驱体暴露在有效温度下，使所述管外表面的部分上的所述前驱体形成连续的无机晶状陶瓷涂层，所述陶瓷涂层具有0.1mm-0.4mm的厚度，并包含硅酸盐和金属氧化物；所述暴露之后，在所述陶瓷涂层上吸附治疗剂量的放射性材料；将具有治疗剂量放射性材料的所述陶瓷涂覆的玻璃管的至少部分置于无机金属圆筒内；在所述陶瓷涂层玻璃管的所述部分内放置无机金属射线照像标记物；以及在所述无机金属圆筒的端部上焊接无机金属帽，所述无机金属圆筒内设有具有治疗剂量放射性材料和所述无机金属射线照像标记物的所述陶瓷涂覆玻璃管的部分。
26.根据权利要求25所述的方法，其中在所述吸附之前，将所述无机金属射线照像标记物置入所述陶瓷涂层玻璃管。
27.根据权利要求25所述的方法，其中在所述吸附之后，将所述无机金属射线照像标记物置入所述陶瓷涂层玻璃管。
28.根据权利要求27所述的方法，其中在所述无机金属帽内提供所述陶瓷涂层玻璃管后，将所述无机金属射线照像标记物放置在所述陶瓷涂层玻璃管内。
29.根据权利要求25所述的方法，其中所述陶瓷前驱体包含无机离子交换材料。
30.根据权利要求29所述的方法，其中所述吸附包括，用包含放射性同位素离子的溶液接触所述陶瓷涂层，所述放射性同位素对所述离子交换材料有亲和性。
31.根据权利要求29所述的方法，其中所述离子交换材料包含至少一种沸石。
32.根据权利要求29所述的方法，其中所述离子交换材料包含硅钛酸盐。
33.根据权利要求25所述的方法，其中所述连续的无机晶状陶瓷涂层对没有添加的离子交换材料的所述放射性材料具有固有的亲和性。
34.根据权利要求33所述的方法，其中所述吸附包括用含有放射性同位素的溶液接触所述陶瓷涂层，所述放射性同位素对所述连续的无机晶状陶瓷涂层具有亲和性。
35.根据权利要求25所述的方法，其中所述涂覆采用气溶胶喷涂法。
36.根据权利要求25所述的方法，其中所述涂覆采用液体喷涂法。
37.根据权利要求25所述的方法，其中所述涂覆采用压模铸法。
38.根据权利要求25所述的方法，其中所述涂覆采用模制法。
39.根据权利要求25所述的方法，其中所述涂覆包括提供容器，其包括压模通道，所述压模通道的尺寸可以滑动地容纳所述管通过以在所述管外表面上形成涂层；在所述容器内置入所述陶瓷前驱体的混合物；以及将所述管移入所述容器内的所述陶瓷前驱体混合物中，并通过所述压模通道至所述容器外，以在所述管上有效地形成所述陶瓷前驱体的涂层。
40.根据权利要求25所述的方法，其中所述涂覆包括提供模子，其包括模空穴，所述模空穴的尺寸可容纳所述管并在其上形成涂层；在所述模空穴内置入所述陶瓷前驱体的混合物；在所述模空穴内置入所述管；在所述模空穴内的所述管外表面上形成所述陶瓷前驱体的附着涂层；以及所述涂层形成后，破坏性地熔化所述模子。
41.根据权利要求25所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度与所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度相同。
42.根据权利要求25所述的方法，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度大于所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度。
43.根据权利要求25所述的方法，其中，所述无机晶状陶瓷涂层的厚度小于所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度。
44.一种近距离放射治疗植入粒子，包括密封的内部容纳有放射性核的无机金属圆筒，以及容纳在所述密封无机金属圆筒内的射线照像标记物，所述放射性核包括无机多孔硅酸盐玻璃管，所述管具有沿其轴线方向延伸的外表面；和设置在所述无机多孔玻璃管外表面的至少一部分上的无机晶状陶瓷涂层，所述涂层包含治疗剂量的放射性材料。
45.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述玻璃含有硼硅酸盐。
46.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述玻璃含有磷硅酸盐。
47.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机晶状陶瓷含有金属硅酸盐。
48.根据权利要求47所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机晶状陶瓷含有硅铝酸盐。
49.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述治疗剂量的放射性材料涂覆全部所述管外表面。
50.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述治疗剂量的放射性材料涂覆少于全部所述管外表面。
51.根据权利要求50所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述治疗剂量的放射性材料不涂覆所述玻璃管长度方向的1.0mm-4.0mm的中央部分。
52.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机晶状陶瓷涂层厚0.1mm-0.4mm。
53.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度与所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度相同。
54.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度大于所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度。
55.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机晶状陶瓷涂层的厚度小于所述无机多孔硅酸盐玻璃管的厚度。
56.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述无机多孔硅酸盐玻璃管包括长度方向上相对的端部，所述端部被无机多孔硅酸盐玻璃所密封。
57.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述射线照像标记物容纳在所述无机多孔硅酸盐玻璃管内。
58.根据权利要求44所述的近距离放射治疗植入粒子，包括容纳在所述密封的无机金属圆筒长度方向端部的一对球。
59.根据权利要求58所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述球含有射线照像标记物材料。
60.根据权利要求58所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述球含有治疗剂量的放射性材料。
61.根据权利要求58所述的近距离放射治疗植入粒子，其中所述球含有用治疗剂量的放射性材料涂覆的无机晶状陶瓷。
62.一种近距离放射治疗植入粒子核的制作方法，包括提供管，所述管具有沿其轴线方向延伸的外表面；提供容器，其包括压模通道，所述压模通道的尺寸可滑动地容纳所述管通过，以在所述管外表面上形成涂层；在所述容器内置入陶瓷前驱体的混合物；将所述管移入所述容器内的所述陶瓷前驱体混合物中，并通过所述压模通道至所述容器外，以在所述管外表面上有效地形成所述陶瓷前驱体的涂层。将所述陶瓷前驱体涂层暴露到有效温度下，以在所述管外表面上形成无机晶状陶瓷涂层；以及在所述暴露之后，在所述陶瓷涂层上吸附治疗剂量的放射性材料。
63.根据权利要求62所述的方法，其中所述管含有无机多孔硅酸盐玻璃材料。
64.根据权利要求62所述的方法，其中所述压模通道按照形成厚度为0.1mm-0.4mm的所述无机晶状陶瓷涂层的尺寸制成。
65.根据权利要求62所述的方法，其中所述陶瓷前驱体含有无机离子交换材料。
66.根据权利要求65所述的方法，其中所述吸附包括，用含有同位素离子的溶液接触所述陶瓷涂层，所述同位素离子对所述离子交换材料具有亲和性。
67.根据权利要求65所述的方法，其中，所述离子交换材料含有至少一种沸石。
68.根据权利要求65所述的方法，其中，所述离子交换材料含有硅钛酸盐。
69.根据权利要求62所述的方法，其中，所述无机晶状陶瓷含有金属硅酸盐。
70.根据权利要求69所述的方法，其中，所述无机晶状陶瓷含有硅铝酸盐。
71.根据权利要求62所述的方法，其中，所述陶瓷前驱体包含硅酸钠和氧化铝，并且所述陶瓷包含硅酸铝钠。
72.根据权利要求62所述的方法，其中，所述无机晶状陶瓷涂层的厚度与所述管的厚度相同。
73.根据权利要求62所述的方法，其中，所述无机晶状陶瓷涂层的厚度大于所述管的厚度。
74.根据权利要求62所述的方法，其中，所述无机晶状陶瓷涂层的厚度小于所述管的厚度。
75.一种近距离放射治疗植入粒子核的制作方法，包括提供管，所述具有沿其轴线方向延伸的外表面；提供模子，其包括模空穴，所述模空穴的尺寸可容纳所述管并在其上形成涂层；在所述模空穴内放入陶瓷前驱体的混合物；在所述模空穴内放入所述管；在所述模空穴内的所述管外表面上形成所述陶瓷前驱体的附着涂层；所述涂层形成后，破坏性地熔化所述模子；所述熔化后，将所述陶瓷前驱体涂层暴露到有效温度下，以在所述管外表面上形成无机晶状陶瓷涂层；以及所述暴露之后，在所述陶瓷涂层上吸附治疗剂量的放射性材料。
76.根据权利要求75所述的方法，其中所述管含有无机多孔硅酸盐材料。
77.根据权利要求75所述的方法，其中所述模子包括蜡。
78.根据权利要求75所述的方法，其中所述模子包括塑料。
79.根据权利要求75所述的方法，其中所述模子的熔点小于或等于500℃。
80.根据权利要求75所述的方法，其中在将所述管放入所述模空穴之前，在所述模空穴内放入所述陶瓷前驱体的混合物。
81.根据权利要求75所述的方法，其中在将所述陶瓷前驱体的混合物放入所述模子空穴内之前，在所述模空穴内放入所述管。
82.根据权利要求75所述的方法，其中所述管包括开口的在长度方向上的相对端部，所述管具有端部表面和内表面，所述涂层形成还在所述端部表面和内表面上形成附着的涂层。
83.根据权利要求75所述的方法，其中在被加入所述模空穴时，所述管具有在长度方向上密封的相对端部。
84.根据权利要求83所述的方法，其进一步包括在所述密封管内提供无机金属标记。
85.一种近距离放射治疗植入粒子的制作方法，包括提供无机金属圆筒；在所述无机金属圆筒的端部焊接无机金属帽，所述焊接包括，在旋转所述帽和圆筒时，向所述帽和圆筒发射一连串激光脉冲，以有效地形成一连串重叠的焊接点，临近焊接点互相重叠不超过以焊接直径的重叠部分除以焊接直径计算的50％；以及在所述无机金属圆筒内设有放射性核，所述放射性核含有治疗剂量的放射性材料。
86.根据权利要求85所述的方法，其中所述临近焊接点的互相重叠部分以焊接直径的重叠部分除以焊接直径计算为20-40％。
87.根据权利要求85所述的方法，其中所述临近焊接点的互相重叠部分以焊接直径的重叠部分除以焊接直径计算为20-30％。
88.根据权利要求85所述的方法，其中所述激光脉冲以与所述金属圆筒的外部表面垂直方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射。
89.根据权利要求88所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度不超过30°。
90.根据权利要求88所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为15°-30°。
91.根据权利要求88所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为18°-22°。
92.根据权利要求88所述的方法，其中所述无机金属帽离开所述无机金属圆筒设有最外边缘，所述焊接包括在比所述帽与圆筒的界面更接近所述最外边缘的位置瞄准激光脉冲的各自中心。
93.根据权利要求92所述的方法，其中所述焊接包括在所述最外边缘瞄准所述激光脉冲的各自中心。
94.根据权利要求88所述的方法，其中以与所述金属圆筒的所述外部表面垂直的方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射所述激光脉冲，所述发射角度为朝向所述金属圆筒的主要长度方向。
95.根据权利要求94所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度不超过30°。
96.根据权利要求94所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为15°-30°。
97.根据权利要求94所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为18°-22°。
98.根据权利要求88所述的方法，其中以与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射所述激光脉冲，所述发射角度为远离所述金属圆筒的主要长度的方向。
99.根据权利要求85所述的方法，其中以与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射所述激光脉冲，所述发射角度为朝向所述金属圆筒的主要长度的方向；并且所述无机金属帽离开所述无机金属圆筒设有最外边缘，所述焊接包括在比所述帽与圆筒的界面更接近所述最外边缘的位置瞄准激光脉冲的各自中心。
100.根据权利要求99所述的方法，其中所述焊接包括在所述最外边缘瞄准所述激光脉冲的各自中心。
101.根据权利要求99所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度不超过30°。
102.根据权利要求99所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为15°-30°。
103.根据权利要求99所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为18°-22°。
104.根据权利要求85所述的方法，其中在所述焊接之后在所述无机金属圆筒内置入所述放射性核，并有效地形成密封的近距离放射治疗植入粒子。
105.根据权利要求85所述的方法，其中在所述焊接之前在所述无机金属圆筒内置入所述放射性核。
106.根据权利要求85所述的方法包括，在所述无机金属圆筒的另一端上焊接另一个无机金属帽。
107.根据权利要求106所述的方法，其中在旋转所述另一个帽和所述圆筒时，所述另一个无机金属帽的所述焊接包括向所述另一个帽和所述圆筒发射一连串激光脉冲，以有效地形成一连串其它重叠的焊接点，临近的其它焊接点互相重叠以其它焊接直径的重叠部分除以其它焊接直径计算不超过50％。
108.根据权利要求85所述的方法，其中所述无机金属圆筒具有长度方向的轴，所述发射角度向所述长度方向的轴延伸。
109.根据权利要求85所述的方法，其中所述无机金属圆筒具有长度方向的轴，所述发射与所述长度方向的轴横向间隔。
110.一种近距离放射治疗植入粒子的制作方法，包括提供无机金属圆筒；在所述无机金属圆筒的端部焊接无机金属帽，所述焊接包括，在旋转所述帽和圆筒时，向所述帽和圆筒发射一连串激光脉冲，以有效地形成一连串重叠的焊接点，所述激光脉冲以与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射；以及在所述无机金属圆筒内设有放射性核，所述放射性核含有治疗剂量的放射性材料。
111.根据权利要求110所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度不超过30°。
112.根据权利要求110所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为15°-30°。
113.根据权利要求110所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为18°-22°。
114.根据权利要求110所述的方法，其中以与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的发射角度向所述帽和圆筒发射所述激光脉冲，所述发射角度为朝向所述金属圆筒的主要长度的方向。
115.根据权利要求114所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度不超过30°。
116.根据权利要求114所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为15°-30°。
117.根据权利要求114所述的方法，其中与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的所述发射角度为18°-22°。
118.根据权利要求110所述的方法，其中在所述焊接之后在所述无机金属圆筒内置入所述放射性核，并有效地形成密封的近距离放射治疗植入粒子。
119.根据权利要求110所述的方法，其中在所述焊接之前在所述无机金属圆筒内置入所述放射性核。
120.根据权利要求110所述的方法，包括在所述无机金属圆筒的另一端上焊接另一个无机金属帽。
121.根据权利要求110所述的方法，其中所述焊接另一个无机金属帽包括，在旋转所述另一个帽和圆筒时，向所述另一个帽和圆筒发射一连串激光脉冲，以有效地形成一连串其它的重叠焊接点，向所述另一个帽和所述圆筒发射的所述激光脉冲以与所述金属圆筒的所述外部表面的垂直方向成角的发射角度发射的。
122.根据权利要求110所述的方法，其中所述无机金属圆筒具有长度方向的轴，所述发射角度向所述长度方向的轴延伸。
123.根据权利要求110所述的方法，其中所述无机金属圆筒具有长度方向的轴，所述发射角与所述长度方向的轴横向相隔。
全文摘要
本发明包括近距离放射治疗植入粒子的制作方法，近距离放射治疗植入粒子核的制作方法，和不依赖于制作方法的近距离放射治疗植入粒子。在一个实施方式中，近距离放射治疗植入粒子包括其内容纳有放射性核的密封无机金属圆筒。所述放射性核包括无机多孔硅酸盐玻璃管，所述管具有沿其轴向延伸的外表面。在所述无机多孔玻璃管外表面的至少一部分上设有无机晶状陶瓷涂层。所述涂层含有治疗剂量的放射性材料。在所述密封的无机金属圆筒内置入射线照像标记物。并设想了其它方面和实施方式。
文档编号A61N5/10GK1878580SQ200480033358
公开日2006年12月13日 申请日期2004年9月8日 优先权日2003年11月12日
发明者莱恩·A·布雷, 大卫·J·斯万贝里, 詹姆士·L·马德森, 杰伊·C·德雷珀, 加雷特·N·布朗, 马修·J·贝尔斯, 唐纳德·C·劳伦斯 申请人:爱斯欧瑞医学有限公司