容器消毒装置、系统和方法

专利名称：容器消毒装置、系统和方法
技术领域：
本发明涉及一种容器消毒装置，更具体地说，在容器被填充之前对容器进 行消毒。具体地，本发明的装置意在对将被填充的容器的内壁进行消毒，特别 是具有瓶口的瓶子。
背景技术：
当将食物装入容器时，对容器本身进行消毒是有必要的。例如，使用蒸汽 或过氧化氢对容器的内壁进行消毒是众所周知的。然而，因为使用过氧化氢的 处理可能会导致材料的软化，所以这种方法存在一定的缺陷。因而，在长时间 的现有技术基础上可以知道，对容器进行消毒是依靠电荷载体，例如，特别地 是电子束。
JP2002-255125公开了一种容器消毒装置。在所述的文件中，在容器外面 设有辐射源，其将辐射放射到容器的内部。JP2001-225814也公开了一种用于 对容器的内壁进行消毒的相应装置，其中辐射源将辐射从外面放射到容器中。
FR 2 815 769公开了一种放射两条电子束的电子束源。
DE 198 82 252 Tl描述了一种通过电子对容器内部进行消毒的技术。在此 再次提供了 一种将辐射从外面放射到容器内部的电子束源。
这些前述的装置都存在辐射总是从外面穿过容器口进入容器的缺陷，因而 只能在容器内部很困难地改变它的电子束方向。
EP0 885 142 Bl公开了一种对流体物质的包装进行消毒的方法，特别是对 带有一个开口端的包装进行消毒的方法。按照这种方法，既然X光是作为高 加速电压的不良副作用产生的，而且所述X光必须要由铅屏来进行屏蔽，所 以要避免高加速电压。为了达到均匀的内部清洁效果，EP0885 142Bl提出使 用与电子束接触的气流，按照这种方式有利于使电子到达容器的内壁。然而，EP 0 885 142 Bl中描述的方法并不适合清洁具有开口直径的瓶子或普通容器 的内部，这是因为EP 0 885 142 B1中描述的电子束源不能通过这个开口，无 论如何也不能与EP 0 885 142 Bl中描述的气管一起进入这个容器，其中气管 用于在容器的内部产生气流。

发明内容
本发明的目的是提供一种清洗开口横截面小于容器横截面的容器的内部 的有效装置和方法。
依照本发明的容器消毒装置包括具有供电荷载体通过的出射窗(exit window)的处理头。同时还设有产生电荷载体的电荷载体产生源，以及在出 射窗的方向上加速电荷载体的加速设备。
依照本发明，所述处理头的横截面具有一定的尺寸，以便所述处理头穿过 容器口，所述加速设备加速电荷载体以使从出射窗射出的电荷载体最好直接射 到容器的内壁上。
所述电荷载体具体是电子，但是也可以使用其它电荷载体，如离子。 与引用的现有技术对比，使用足够高而使射出的电子束直接撞击容器内壁 的加速电压，就不需要为消毒作用而插入由电子束激活的气流。出射窗指的是 一种以密封方式隔离装置内部(即电荷载体产生源和出射窗之间的区域)的设 备，但是电荷载体特别地是电子仍然可以通过。应注意，从出射窗射出的电子 是相当慢的，与EP 0 885 142 Bl公开的装置相比，本发明使用了明显更高的 能量和加速电压。
为了产生电子束，优选地使用具有放射针(emitting finger)的紧密电子束单 元，如上所述，放射针具有一定尺寸以便其可以伸入瓶子中，从而将具有最低 可能能量的电子云应用至J(PET)瓶子的内表面上。在旋转排列的情况下，可以 使该装置的各操作单元，例如电子束产生器的变压器或电源单元，也在传送带 上旋转，因此同时简化了高压电源的供给。在一个优选的实施例中，出射窗和 加速设备设置在外壳中，该外壳具有一定尺寸以便其可以穿过容器口。所述处 理头设置在该外壳的下端，同样还可以将处理头与外壳一体成形。优选地，包括处理头的整个外壳具有能够穿过容器口的横截面。所述处理头的横截面可以
是任何形状的。由于特殊的选择，所述装置具有直径小于40mm的圆形横截面， 优选地是小于30mm，更优选地是小于25mm。
优选地，为了防止任何X光射线的逃逸，从而防止对用户产生有害作用， 整个装置由屏蔽设备包围，特别地是通过铅屏包围。
在进一步的优选实施例中，所述装置包括内壳，其中设置有加速设备，所 述外壳将该内壳包围。由于特殊的选择，在这个内壳中使用真空，其中优选地 设有电荷载体产生源和加速设备。特别优选地，在外壳和内壳之间形成有延伸 到处理头的腔室，该腔室中导有介质，特别地是气体介质。这种气体介质特别 用于冷却出射窗，为了这个目的，气体介质沿内壳一直导到处理头处，同样也 通过出射窗。优选地，因而，在外壳和内壳之间形成有一个通道或多个通道形 式的腔室，特别优选地是外壳的下端部分的形成使得气流被引导到装置的径向 上并从而也经过出射窗。还要指出，气体介质的气流不或至少不直接到达容器 的内壁，而是如己经提到的，用于传送通过出射窗。
优选地，所述气体介质从一组气体介质中选出，包括氦气、氮气、氩气、 二氧化碳及其混合物或类似物。
基于特殊的选择，所述出射窗由从一组物质中选出的物质做成，包括钛、 石英玻璃、钻石及其化合物和类似物。
在此实施例中，因而，装置的至少一部分是双层设计的，其中为了冷却钢 管，即内壳和出射窗，在外壳和内壳之间设有气体或空气。如已经提到的，内 壳的内部被抽空，并优选地在末端具有钛窗口作为出射窗。在进一步的优选实 施例中，所述出射窗具有3^im到3(^m之间的厚度，优选地是4nm到25pm 之间，更优选地是5|Lim到20inm之间。因而出射窗可以使用由具有8pm、10nm、 13pm或15^im厚度的钛做成的窗口薄膜。然而，还可以使用其它合适的材料。 该出射窗或窗口薄膜是以真空密封的方式焊接到内壳上的，内壳同样由合适的 材料(例如，钛)做成。在这种情况下可以以无支撑的方式将出射窗放置在内壳 的开口上，但是也可以使用支撑结构，如承载出射窗的多孔盘。在为出射窗使 用支撑结构的情况下，还可以由合适的液体来冷却支撑结构，其中液体是通过内壳和外壳之间的一个或多个通道被传送向或远离支撑结构的。
在一个优选的实施例中，出射窗在其整个表面上具有统一的厚度。然而， 根据具体的应用，厚度也可以变化，例如，从外到内增大。例如，出射窗薄膜
在其表面上可以具有不同的厚度，例如在4到13pm之间变化，或以线或点的 厚度穿孔的形式。按照这种方式，可以获得以不同速度到达大气(即出射窗的 外侧)的电子，因而获得与传统散射场(scattered field)不同的散射场。
如上所述，可以使用不同的气体作为冷却气体。这样便可以改善气体的热 传导，特别是使用氦气。然而，这还会影响电子在大气中即从出射窗出来之后 的条件。例如，使用氦气作为大气，会导致电子的更大范围，这是因为氦气具 有比空气更低的密度。此外，所述处理腔，即容器的内部区域，可以通过提供 该气体变为惰性的，这也会减少臭氧的产生。
在此可以使用开口或封闭的电子束单元作为电子束产生器，例如众所周知 的X光管等等。电子源本身可以由点型或面型电子源形成，内壳或放射针可 以直接附在其上面。
依照本发明的装置以下也被称为放射针。
在进一步的优选实施例中，所述装置包括用于使电荷载体偏转的偏转设 备。基于特殊的选择，该偏转设备设置在电荷载体产生源和出射窗之间。另外 为了促使电子的优选方向位于瓶壁的方向上，可以在出射窗之前对电子进行电 磁偏转。按照这种方式，可以将放射线的量更均匀地分布在容器的内表面上。 按照这种方式还可以将电子束更均匀地引导到出射窗的整个出射面上，以作为 整体在出射窗上获得更均匀的负载，从而防止在出射窗上出现所谓的热点 (hotspot)。然而，同样还可以将偏转单元设置在出射窗之后的电子束的方向上。
优选地，为了利于电荷载体的上述偏转，内壳在处理头的区域具有增大的 内径。
此外，基于特殊的选择，所述处理头可以相对容器在容器的轴向上移动。 按照这种方式，可以一次对容器的内壁更大的表面积进行消毒。
在进一步的优选实施例中，所述处理头可以相对容器旋转。当电荷载体在 优选的径向上相对处理头射出时，这是特别有好处的。在进一步的优选实施例中，所述处理头可以在容器的径向上相对容器移动。因而可以在消毒处理过程 中使处理头本身或所述装置围绕预先确定的旋转轴进行旋转，或者使所述容器 本身相对处理头进行旋转。基于特殊的选择，在这种情形下，旋转轴处于容器 口的区域内或者稍微在容器口之上。按照这种方式，所述处理头可以被带入容 器的内壁的附近。
本发明还涉及一种通过上述类型的至少一种装置处理容器的系统。优选 地，为了能够对多个容器同时消毒，多个上述装置设置为一个挨一个或一个接 一个。例如，可以将整个系统做成旋转单元或直线单元，其中处理腔设置为用 于通过电子束对饮料瓶的内部进行消毒。因而还可以将依照本发明的装置整合 到拉伸吹塑机或填充设备中，或者将其设置为单机单元，以便能够翻新现有的 生产线或系统。
优选地，所述系统包括用于填充容器的设备，所述依照本发明的装置设置 在该填充容器的设备的上游。
此外，所述系统可以包括在所述容器的轴向上相对所述装置转移所述容器 的转移设备。原则上，还可以维持容器的高度位置，并且仅在所述容器的轴向 上移动所述装置。然而，因为所述装置或所述放射针具有相对复杂的设计，通 常使用高压来对其供电，所以优选地将所述装置保持固定并相对所述装置移动 容器。
此外，所述装置优选设置在容器膨胀设备和填充容器的设备之间。这种系 统的消毒是在容器的膨胀或容器的吹塑之后进行的。
优选地，所述系统包括多个上述类型的装置，其中这些装置特别优选地是 以圆形轨道设置的。然而，还可以沿直线路径设置多个装置，例如平行于在直 线方向上运行的传送带。
在进一步的优选实施例中，所述系统包括用于对容器的外壁进行消毒的进 一步的消毒装置。按照这种方式，不仅可以进行内部消毒，还可以进行容器的 外部消毒。
按照这种方式，基于特殊的选择，所述进一步的消毒装置在容器的传送方 向上设置在上述装置的上游。这就是说，优选地，首先进行容器的外部消毒，然后再是内部消毒。优选地，所述进一步的消毒装置是使用电荷载体辐照容器 的装置。然而，其它原理的消毒也是可行的。
优选地，所述进一步的消毒装置设置为固定的方式。这就是说，容器移动 通过这个固定的消毒装置。优选地，所述容器的外壁及颈部区域是由所述进一 步的消毒装置进行消毒的。
在进一步的优选实施例中，所述进一步的消毒装置设置在消毒腔中。
在进一步的优选实施例中，所述系统包括将所述容器传送经过该进一步的 消毒装置的传送带。所述容器沿圆形轨道移动。更具体地说，优选地设有相互 传送所述容器的多个传送带。优选地，所述传送带包括旋转设备，使容器围绕 其纵向轴旋转。通过提供这些旋转设备,可以对容器的更大外围面积进行消毒。
本发明还涉及一种容器消毒方法，其中在装置中产生用于容器消毒的电荷 载体，并在出射窗的方向上加速该电荷载体，其中该出射窗设置在处理头中。 依照本发明，所述装置的处理头通过容器口进入容器的内部，来自处理头的加 速电荷载体直接放射在容器的内壁上，并且优选地相对于处理头移动容器。
优选地，在电荷载体到达出射窗之前，在容器的径向上或该所述装置的径 向上偏转电荷载体转。对于这种偏转，可以使用线圈或类似物。


下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中
图la是依照本发明的容器消毒装置的局部视图lb是图la的装置的外壳的示意图lc是图la的装置的内壳的示意图ld是图la的装置的出射窗和支撑体的示意图le是图ld的支撑窗的平面图lf是图la的出射窗的平面图lg是支撑窗的进一步实施例的示意图2是依照本发明的装置的进一步实施例的示意图3是依照本发明的装置的进一步实施例的示意图；图4是依照本发明的容器处理系统的示意图5是依照本发明的容器处理系统的进一步实施例的示意图;
图6是依照本发明的容器处理系统的细节示意图7是容器处理系统的局部侧视图8是依照本发明的装置的进一步实施例的示意图9是依照本发明的系统的立体图10是图9的系统的平面图11是图9的装置的细节示意图12是图9的装置的进一步的细节示意图13是图9的装置的立体图14是图13带有外壳的装置的示意图15是依照本发明的系统的进一步实施例的示意图16是图15的装置的立体图。
具体实施例方式
图la是依照本发明的容器消毒装置的局部视图。该装置包括在其下端的 处理头5，处理头5上设有供电子束射出的出射窗8。在此，如现有技术中常 用的，例如，电子首先是通过钨阴极产生的，然后通过加速设备6(未详细示出) 使这些电子加速。作为电子产生源，可以使用点型或面型电子源。
容器消毒装置1包括外壳16和内壳20，如此形成双层设计。在外壳16 和内壳20之间存在缝隙22，沿该缝隙可引导有空气、另一气体介质或甚至液 体介质。该空气缝隙22可设计为沿圆周方向形成，但是也可以是多个通道22。 原则上，在装置1的操作过程中可以使导入的喷射气体沿径向R通过出射窗， 但是也可以使导入的气流在装置1不活动和/或辐射源不活动的期间通过出射 窗8。按照这种方式，可以防止射出的电子束受气流影响。还要指出，气流仅 用于冷却出射窗，而不用于引导电子束。
原则上，最佳选择的加速电压情形下的辐射流是在最短可能时间内产生容 器内各自所需量的关键因素。然而，在出射窗8中，该辐射流会产生损耗，这取决于出射窗8的设计，迟早还会限制电子束单元或装置1的电子辐射功率。 然而，使用所述的空气、气体或液体冷却，也可以保证出射窗的必要冷却。换 言之，为了获得最大可能的辐射流，即最大可能的吞吐量，应该减少辐射单元 的数量和/或增加周期时间。此外，还可以提高大气中的散射几何条件，即在 出射窗外面。
电子被加速到100keV (千电子伏)-200keV范围内的能量，优选的是 120keV到180keV，更优选的是130keV到170keV。
图lb是依照本发明的装置l的外壳20的示意图。可以看出，在外壳20 的下端设有径向向内突出的档板ll。这些挡板ll用于引导空气或气体，即它 们引导至少部分气体通过出射窗8。这些挡板ll还形成了开口 15，产生的电 子束可以通过开口 15射到外面。
然而，在内壳20的一侧上也可以提供气体，并且可将所述气体再传送到 内壳20的另一侧。
图lc是内壳20的示意图。该内壳20具有在其下端或在处理头5上的凹 槽24，用于接收出射窗8或出射窗8的支撑体26。
图ld是用于支撑图lf所示的实际出射窗8的支撑体26的示意图。在该 实施例中，该支撑体26形成多个通道26a，电子束可以通过其中。另外，支 撑体26可以具有引导冷却液体或冷却气体通过的通道。
图lf所示的实际出射窗8是被焊接到支撑体26上的。
在不同的实施例中，可以将内壳20和装置1当作一个整体。例如，可以 用石英玻璃制造该装置，即特别地用石英玻璃制造内壳20。在这种情况下， 例如，可将薄石英玻璃薄膜熔合为出射窗8。这种具有20nm厚度的薄膜是现 有技术中公知的。这种出射窗的密度在2.2g/ci^附近，对应于44g/cm2。这符 合具有10pm厚度的钛薄膜的表面密度。
这种石英玻璃薄膜允许操作温度高达IOO(TC，即高温梯度也可用于冷却 目的。这种由石英玻璃制造的玻璃薄膜的另一优点是这个厚度的石英玻璃薄膜 是柔性的。
另一种可能性是用石英玻璃制造装置1或内壳20，用钻石制造出射窗8。在此，具有I0pm厚度的薄膜也已经是众所周知的。这种薄膜具有3.5 g/cm3 或35g/cr^左右的密度。这种由钻石制造的薄膜的优点是进一步提高了导热性， 例如，超出铜的热导性5倍。
此外，还可以用金属(例如钛)制造装置1特别是内管或内壳20，用具有上 述属性的钻石制造出射窗8。在这种情况下，可以通过焊接或熔合来设置出射 窗8。如果使用玻璃管，最好镀上金属，因为放电可以在相对长的距离下发生。
图2是依照本发明的装置1的进一步实施例的示意图。在这种情况下，内 壳20或内管在上部区域具有相对小的内横截面，其在处理头5的附近加宽。 按照这种方式，在内壳20和外壳16之间形成了相对大的腔22。在处理头5 的附近，内壳具有以圆锥形加宽的端部21。依靠这个端部21，可以使电子束 相对大角度的偏转。为了使电子束偏转，可以使用偏转线圈7。除图2所示的 线圈对之外，还进一步提供了垂直线圈对，因此原则上可以在所有空间方向上 发射电子束。在图2所示的实施例中，仅提供了钛薄膜形式的出射窗8。然而， 在此也可提供如图la和le所示的支撑体26。
然而，端部21也可以是球形的，而不是图2所示的圆锥形加宽。然而， 还可以将偏转线圈设置在外壳16之外。另外，还可以将偏转线圈设置在装置 l下面。在图2所示的实施例中，内壳20也是由钛制成的。
图3是依照本发明的装置的进一步实施例的示意图。在该装置中，在内壳 20和外壳16之间具有相对薄的缝隙22。为了阻止内壳20和外壳16之间的接 触，可以在两个壳16、 20之间设置隔离件17，其中隔离件17优选是电绝缘 的。如图2所示的实施例，同样在图3所示的实施例中也可以提供使电子束偏 转的偏转线圈7。
图4是依照本发明的容器处理系统的示意图。该系统包括预制件的分类设 备40，优选地是设计为转盘的分类设备40，还包括加热预制件的加热通道或 烤箱35。该加热通道与将预制件吹塑成形为容器的吹塑设备38连接。位于该 吹塑设备之后的是多个依照本发明的对吹塑成型的容器消毒的装置1。在此， 附图标记18表示屏蔽设备，如铅屏，用于包围整个装置l以防止任何X光的 泄露。附图标记19表示将容器从吹塑设备38传送到填充设备32的传送件。如 图中容器行进方向所示，首先是吹塑设备38，然后是填充设备32，再然后可 能是标签机。然而，还可以在吹塑设备38后紧跟着是标签机，然后再是填充 设备32。在依照本发明的系统中，装置1在每种情况下都是直接安排在吹塑 设备38之后。
除了依照本发明的装置1之外，还可以提供其它用于外部清洁的相似类型 的消毒装置，即用于对容器外围进行消毒。对于内部消毒，各个容器可以放置 在旋转单元上，然后可以将依照本发明的装置插入容器。在这种情况下，如上 所述，最好保持各个装置或放射针在恒定高度并相对其移动容器。
换言之，用于内部消毒的放射针l被放入容器中。基于特殊的选择，各个 容器在旋转时被引导通过各个依照本发明的装置。然而，也可以引导各个容器 通过一帘电子束以便完成外部消毒，。
图5是依照本发明的消毒装置的进一步排列的细节示意图。
原则上，可以通过链条来传输容器或由链条来将容器引入处理腔，并通过 提升运动使放射指伸入瓶中。然而，还可以通过用颈状物来处理所述容器的链 轮(star wheel)将容器传送到消毒设备，并通过提升运动将容器移动通过所述消 毒设备中的放射针。
在图5所示的实施例中，首先依靠放射设备lb进行容器的外部辐射，优 选地在容器旋转的情况下进行。在这种情况下，加速到约150keV的电子束用 于对容器外部进行辐射。然后由装置la以上述方式进行容器的内部辐射。
图6是依照本发明的容器10的内部消毒方法的示意图。通过传送带19 沿箭头P方式传送容器10，并通过引入链轮27将容器10传送到消毒系统。 在第一部分I中，首先以135度的径向跳动(run-out)角度降低放射针，放入容 器10的内部，或者提升容器IO。在进一步的部分II中，再縮回放射针，或者 再降低容器IO。当放射针从容器10縮回时，装置l是活动的，这样便完成了 容器10的内部消毒。
然后通过引出链轮28将容器传送出去。
图7是转轮31的结构示意图。该转轮31包括多个依照本发明的装置1，这些装置1均处于相同的高度，但是可以看出各个容器10均被提升到最高位
置，从而装置1或放射针被放入容器10内并基于旋转的位置具有不同的深度。 在整个处理过程中，依照本发明的装置1被激活，并按照这种方式在容器1 的整个高度上对容器10的内壁进行消毒。在此，选择放射针的长度，使得即 便是容器10底部的有效杀毒也是可行的。
图8是依照本发明的装置的进一步实施例的示意图。在这种装置中，内壳 20和外壳16之间的区域被设计形成两个气体通道22a和22b。通过两个通道 其中之一提供气流，气流会以均匀的方式从侧面通过出射窗8。然后再将气流 通过另一通道22b传送走。
图9是依照本发明的系统的立体图。依照本发明的多个装置1的上游是进 一步的传送容器的传送带42。在此，容器被引入进一步的容器消毒装置lb， 它们的外壁由该消毒装置lb进行消毒。然后，如上所述，对容器10的内部进 行消毒。
附图标记44表示旋转设备，如旋转盘，通过旋转设备使容器在它们的轴 向(纵向轴)上进行旋转。依靠这种旋转，可以对容器10外围的更大面积进行 消毒。同样，在容器10的传送方向上一个接一个地设置多个消毒装置lb也是 可行的。
图10是图9的系统的平面图。传送轮3(其上提供了多个用于内部消毒的 装置1)的下游是两个将容器传送出该系统的传送轮49a、 49b。
图11是依照本发明的装置的细节示意图。在此可以看到多个运送器52， 容器10放置在每个运送器上。这些运送器52依次设置在引导杆62上，通过 这种方式使容器10可在其轴向上移动。当容器10被提升后，设置为固定方式 的装置1进一步插入容器中。附图标记63表示引导运送器52移动的引导杆。 这些引导杆63预选固定设置。
图12是依照本发明的系统的进一步的细节示意图。在此可以看到设置在 容器下方的进一步的消毒装置54，用于对容器的底部消毒。在这种情况中， 该消毒装置54也具有杆状件56，电荷载体束可以从其末端射出。当容器经过 该消毒装置54辐射之后，再将容器IO沿它们的轴向降下。图13是依照本发明的系统的立体图。在此可以看出上述底部消毒是在内 部消毒之后进行的。附图标记45表示放置整个系统的支撑体。
图14是依照本发明的系统的进一步示意图。在此可以看到，各个传送和 消毒装置设置在外壳中或三个外壳部件65、 66、 67中。按照这种方式，可以 将整个装置放于消毒腔内。千扰的辐射可以由外壳部件65-67屏蔽。
图15是依照本发明的系统的进一步实施例的示意图。在此可以看到两个 执行容器内部消毒的消毒装置lb。与以上所示的实施例不同，两个消毒装置 lb(容器的内部消毒在此进行)并不是设置在传送设备3的上游，而是围绕所述 传送设备3设置。
更具体地说，在图15所示的实施例中，外壁的消毒(立即)会在内壁的消 毒之前和之后进行。附图标记41a和41b表示将容器10提供到传送设备3的 传送链轮，附图标记49a和49b表示将容器10传送出去的传送链轮。
图16是图15所示的装置的立体图。可以看出，首先由左边的消毒装置 lb执行容器的外表面的消毒，优选地在该区域以约180度旋转容器。然后为 了执行内部消毒将容器提升。之后，再降低容器，右边的消毒装置再次对外围 进行消毒，优选地以进一步180度旋转容器。在内部消毒时也可以旋转容器 10。
优选地，因此，相应的旋转设备以这种方式彼此配合，这样两个消毒装置 lb可以执行容器10的完整外部消毒。所以，在此仅使用一个用于外部/内部消 毒的传送带。通过提供两个消毒装置lb，可以减小外部消毒所需的容器10的 旋转速度。因而图15和16所示的设备节省了更大的空间。
至于与现有技术区别的具有新颖性的所有特征，在申请文件中公开的都将 作为本发明的本质要求被保护。
权利要求
1、 一种容器(10)消毒装置(1)，包括具有供电荷载体通过的出射窗(8)的处 理头(5)、产生电荷载体的电荷载体产生源以及在出射窗(8)的方向上加速电荷 载体的加速设备(6)，其特征在于，所述处理头(5)的横截面具有使处理头(5)能 穿过容器(10)的容器口的尺寸，加速设备(6)以从出射窗(8)射出的电荷载体能射 到容器(10)的内壁上的方式加速电荷载体。
2、 根据权利要求1所述的装置(l)，其特征在于，所述出射窗(8)和加速设 备(6)设置在外壳(16)中，该外壳(16)具有使其能穿过容器(10)的容器口的尺寸。
3、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)，其特征在于，所述装置 (1)由屏蔽设备(18)包围。
4、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)，其特征在于，所述装置 (1)包括内壳(20)，其中设置有所述加速设备(6)，所述外壳(16)将该内壳(20)包 围。
5、 根据权利要求4所述的装置(l)，其特征在于，在外壳(16)和内壳(20) 之间形成有延伸到处理头(5)的腔室(22)，其中可导入介质特别是气体介质。
6、 根据权利要求5所述的装置(l)，其特征在于，所述腔室(22)包括一个 或多个通道(22a、 22b)，气体或液体介质可通过每个通道。
7、 根据权利要求5至6中至少一项所述的装置(1)，其特征在于，所述气 体介质从一组气体介质中选出，包括氦气、氮气、氩气、二氧化碳及其混合物 或类似物。
8、 根据权利要求6所述的装置(1)，其特征在于，所述液体介质从一组液 体介质中选出，包括水、油、液氮或类似物。
9、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l),其特征在于，所述出射 窗(8)由从一组物质中选出的物质做成，包括钛、石英玻璃、钻石及其化合物 和类似物。
10、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)，其特征在于，所述出 射窗(8)具有3pm到30pm之间的厚度，优选地是4jum到25pm之间，更优选地是5nm到20nm之间。
11、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置，其特征在于，所述装置(l) 包括用于使电荷载体偏转的偏转设备(7)。
12、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)，其特征在于，所述处 理头(5)可以相对容器(10)在容器(10)的轴向(L)上移动。
13、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)，其特征在于，所述处 理头(5)可以相对容器(10)旋转。
14、 根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)，其特征在于，所述处 理头(5)可以在容器(10)的径向上移动。
15、 一种利用根据前述权利要求中至少一条所述的装置(l)处理容器的系 统(30)。
16、 根据权利要求15所述的系统(30)，其特征在于，所述系统(30)包括用 于填充容器(10)的设备(32)，且所述装置(1)设置在该填充容器的设备(32)的上 游。
17、 根据权利要求15所述的系统(30)，其特征在于，所述系统包括在容 器(10)的轴向上相对所述装置(1僻移容器的转移设备(36)。
18、 根据权利要求15 — 17中至少一条所述的系统(30)，其特征在于，所 述装置(1)设置在容器膨胀设备(38)和填充容器的设备(32)之间。
19、 根据权利要求15 — 18中至少一项所述的系统(30)，其特征在于，所 述系统(30)包括多个依照权利要求1至14中至少一项所述的容器消毒装置(l), 其中这些装置(l )沿圆形轨道设置。
20、 根据权利要求15至19中至少一项所述的系统，其特征在于，所述系 统包括用于对容器(10)的外壁进行消毒的进一步消毒装置(lb)。
21、 根据权利要求20所述的系统，其特征在于，所述进一步消毒装置(lb)设置在所述装置(l)的上游。
22、 根据前述权利要求20—22中至少一条所述的系统，其特征在于，所 述进一步消毒装置(lb)固定设置。
23、 根据前述权利要求20—23中至少一条所述的系统，其特征在于，所述系统包括将容器(10)传送经过所述进一步消毒装置(lb)的传送带(42)。
24、 根据权利要求23所述的系统，其特征在于，所述传送带包括旋转设 备(44)，用于使容器(10)围绕它们的纵向轴进行旋转。
25、 一种容器(10)消毒方法，其中在装置(1)中产生用于容器(10)消毒的电 荷载体，并在设置在处理头(5)中的出射窗的方向上加速电荷载体，其特征在 于，弓l导所述装置(l)的处理头(5滩过容器(10)的容器口进入容器(10)的内部， 来自处理头(5)的加速电荷载体直接辐射在容器(10)的内壁上，并且相对于处理 头(5)移动容器(10)。
26、 根据权利要求20所述的方法，其特征在于，在电荷载体到达出射窗 (8)之前，在容器(10)的径向上偏转电荷载体。
27、 根据权利要求20所述的方法，其特征在于，在电荷载体从出射窗(8) 射出后，在容器(10)的径向偏转电荷载体。
28、 根据权利要求20所述的方法，其特征在于，还包括冷却所述出射窗(8)。
29、 根据权利要求28所述的方法，其特征在于，使用气体和/或液体介质 作为冷却介质。
全文摘要
一种容器(10)消毒装置(1)，包括具有供电荷载体通过的出射窗(8)的处理头(5)、产生电荷载体的电荷载体产生源以及在出射窗(8)的方向上加速电荷载体的加速设备(6)。根据本发明，处理头(5)的横截面具有一定尺寸，以便处理头(5)能够穿过容器(10)的容器口，加速设备(6)以从出射窗(8)射出的电荷载体最好直接放射到容器(10)的内壁上的方式加速电荷载体。
文档编号A61L2/08GK101310773SQ200810096018
公开日2008年11月26日 申请日期2008年4月21日 优先权日2007年4月19日
发明者休谟里·海因茨, 克鲁格·约恩, 福尔·埃伯哈德, 门兹·汉斯约根 申请人:克朗斯股份有限公司