专利名称：上颌骨修复支架及制造方法
技术领域：
本发明涉及在医疗临床的上颌骨缺损修复手术中使用的植入结构体物件，特别是一种能 够符合大面积上颌骨缺损形态修复等要求的上颌骨修复支架及制造方法。
背景技术：
由于先天发育问题、基因突变、肿瘤切除或创伤等原因，造成了上颌骨的缺损，同时也 影响了患者口腔内部的基本功能，给患者的基本生活造成很大影响。现有的医疗临床上一般 利用微型钛板和移植自体骨来进行修复。但是此种方法在临床上的应用有较大局限。首先它 只适用于移植腓骨等皮质骨，其次，微型钛板为统一规格产品， 一般只用于修复骨折等创伤， 并不能达到大面积上颌骨缺损形态及功能修复等要求，远远满足不了临床的需求。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的缺陷或不足，提供一种能够符合大面积上颌骨缺损形态修 复等要求的上颌骨修复支架及制造方法。所述上颌骨修复支架兼具形态修复和功能修复的作 用，从而满足患者的个性化需求。
本发明的技术方案如下
上颌骨修复支架，其特征在于，包括上颌骨形支架本体，在所述上颌骨形支架本体的上 沿依次分布四个凸起的均带有沉孔阵列结构的连接区右侧颧骨连接区，右侧梨状孔连接区， 左侧梨状孔连接区，和左侧颧骨连接区；在所述右侧梨状孔连接区和左侧梨状孔连接区之间 是梨状孔形态修复区；在所述上颌骨形支架本体的下沿分布着上颌植骨区；在所述上颌骨形 支架本体的上沿和下沿之间分布着上颌牙槽区；所述上颌植骨区和上颌牙槽区均带有通孔阵 列结构。
所述上颌植骨区具有沿所述上颌骨形支架本体的下沿向后延伸出用于填充松质骨或粉状 骨的U型结构。
所述上颌植骨区具有在所述上颌骨形支架本体的下沿上方位置向后延伸出的角形结构， 所述角形结构用于双面固定植入的块状骨。
所述沉孔阵列结构中的沉孔直径范围为L0mm 5.0mm，所述通孔阵列结构中的通孔直径范围为1.0mm 5.0mm。
所述沉孔阵列结构中的沉孔与沉孔的中心距范围为1.0mm 5.0mm，所述通孔阵列结构
中的通孔与通孔的中心距范围为1.0mm 5.0mm。
所述上颌骨形支架本体采用永久性植入颅颌面骨修复的金属或非金属材料。 所述上颌骨形支架本体采用满足13810标准的外科植入物用纯钛或钛合金材料，或者采
用满足ISO或ASTM标准的六铝七铌钛合金材料。
所述上颌骨修复支架的制造方法，其特征在于包括以下步骤
A. 采集患者包括上颌骨区域的CT或MRI图像，获取DICOM格式的图像数据；
B. 利用所述DICOM格式的图像数据结合三维重建软件进行三维重建，然后在重建图像 的基础上进行上颌骨修复支架的设计；
C. 所述上颌骨修复支架的设计要求内表面要和所重叠的骨面贴合，外表面要符合修复所 需的形态；
D. 将所述上颌骨修复支架的设计完成的数据转换为可加工数据，然后采用数控中心或数 控铣床进行数字化加工，加工出上颌骨修复支架的雏形；
E. 对上颌骨修复支架进行后期加工处理，其中包括打孔，打磨工序。
医学中的CT全称:computed tomography, CT是一种功能齐全的病情探测仪器,它是电子 计算机X射线断层扫描技术简称。
MRI是Magnetic Resnane Iamging的简称,中文为磁共振成像。cad- Computer Aided Design 的縮写，即计算机辅助设计。
DICOM是Digital Imaging and Communications in Medicine的英文縮写,即医学数字成像和 通信标准。在DICOM标准中详细定义了影像及其相关信息的组成格式和交换方法,利用这个 标准，人们可以在影像设备上建立一个接口来完成影像数据的输入/输出工作。
本发明的技术效果如下
本发明的上颌骨修复支架能够符合大面积上颌骨缺损形态修复，兼具形态修复和功能修 复的作用，从而满足患者的个性化需求。
本发明的上颌骨修复支架及制造方法，不仅具有个性化特点，而且兼具形态修复和功能 修复的作用。本发明的上颌骨修复支架主要针对于上颌骨的大面积缺损修复，为其提供种整体解决方案。修复支架整体形态和患者上颌形态相拟合，支架具有植骨槽，便于医生 进行自体骨的移植和种植牙等一系列的手术。
图1是本发明上颌骨修复支架的结构示意图。 图2是图1的俯视图。
图3是本发明上颌骨修复支架的使用状态图。 附图标记列示如下-
1-右侧颧骨连接区，2-右侧梨状孔连接区，3-左侧梨状孔连接区，4-左侧颧骨连接区，5-上颌牙槽区，6-上颌植骨区，7-梨状孔形态修复区。
具体实施例方式
下面结合附图(图卜图3)对本发明进行说明。
图1是本发明上颌骨修复支架的结构示意图，图2是图1的俯视图。如图1和图2所示， 上颌骨修复支架，包括上颌骨形支架本体，在所述上颌骨形支架本体的上沿依次分布四个凸 起的均带有沉孔阵列结构的连接区右侧颧骨连接区l，右侧梨状孔连接区2，左侧梨状孔连 接区3，和左侧颧骨连接区4;在所述右侧梨状孔连接区2和左侧梨状孔连接区3之间是梨状 孔形态修复区7;在所述上颌骨形支架本体的下沿分布着上颌植骨区6;在所述上颌骨形支架 本体的上沿和下沿之间分布着上颌牙槽区5;所述上颌植骨区6和上颌牙槽区5均带有通孔
阵列结构。
所述上颌植骨区具有沿所述上颌骨形支架本体的下沿向后延伸出用于填充松质骨或粉状
骨的U型结构；或者，所述上颌植骨区具有在所述上颌骨形支架本体的下沿上方位置向后延
伸出的角形结构，所述角形结构用于双面固定植入的块状骨。
所述沉孔阵列结构中的沉孔直径范围为L0mm 5.0mm，所述通孔阵列结构中的通孔直 径范围为1.0mm 5.0mm。所述沉孔阵列结构中的沉孔与沉孔的中心距范围为1.0mm 5.0mm，所述通孔阵列结构中的通孔与通孔的中心距范围为1.0mm 5.0mm。所述上颌骨形 支架本体采用永久性植入颅颌面骨修复的金属或非金属材料。所述上颌骨形支架本体采用满
足13810标准的外科植入物用纯钛或钛合金材料，或者采用满足ISO或ASTM标准的六铝七
铌钛合金材料。
所述上颌骨修复支架的制造方法，包括以下步骤
6A. 采集患者包括上颌骨区域的CT或MRI图像，获取DICOM格式的图像数据；
B. 利用所述DICOM格式的图像数据结合三维重建软件进行三维重建，然后在重建图像 的基础上进行上颌骨修复支架的设计；
C. 所述上颌骨修复支架的设计要求内表面要和所重叠的骨面贴合，外表面要符合修复所 需的形态；
D. 将所述上颌骨修复支架的设计完成的数据转换为可加工数据，然后采用数控中心或数 控铣床进行数字化加工，加工出上颌骨修复支架的雏形；
E. 对上颌骨修复支架进行后期加工处理，其中包括打孔，打磨工序。
图3是本发明上颌骨修复支架的使用状态图。由此可见上颌骨修复支架安装在患者缺损 部位的情形。
上颌骨修复支架中各部分的作用如下
1、 右侧颧骨连接区——带有沉孔结构，用于将修复支架与右侧颧骨连接；
2、 右侧梨状孔连接区——带有沉孔结构，用于将修复支架与右侧梨状孔残留骨进行连接；
3、 左侧梨状孔连接区——带有沉孔结构，用于将修复支架与右侧梨状孔残留骨进行连接；
4、 左侧颧骨连接区——带有沉孔结构，用于将修复支架与左侧颧骨连接；
5、 上颌牙槽区——带有通孔结构，主要功能有两个， 一为支撑上颌区域软组织，恢复患者 面部形态；
6、 上颌植骨区——带有通孔结构，用于植骨，用于二期的种植牙。其形态可呈"倒L"型 结构或角形结构，也可呈"正U"型结构，"倒L"型结构一般用于固定植入的整块腓骨，
"正U"型结构一般用于填充松质骨或人工骨等粉状骨。
7、 梨状孔形态修复区——与残留梨状孔结构相适配，用于修复梨状孔的整体形态。
个性化的上颌骨修复支架可用如下材料制作加工
1、 满足13810标准的外科植入物用纯钛及钛合金材料。
2、 满足ISO或ASTM标准的六铝七铌钛合金材料。
3、 单项钛合金TLM和TLE等(目前西北有色金属研究院正在申请加入外科植入物用钛及 钛合金加工材国家标准)。
4、 其他可用于永久性植入颅颌面骨修复的金属或非金属材料。个性化的上颌骨修复支架的加工流程-
1、 采集患者CT或MRI图像，获取DICOM格式的图像数据。
2、 利用相关三维重建软件进行三维重建，然后在重建图像的基础上进行修复支架的设计。
3、 设计特征包括内表面要和所重叠的骨面密切贴合，外表面要符合修复所需的形态。
4、 设计加工出雏形后，对修复支架进行后期加工处理，其中包括打孔，打磨等工序。
应当指出，以上所述具体实施方式
可以使本领域的技术人员更全面地理解本发明创造， 但不以任何方式限制本发明创造。因此，尽管本说明书参照附图和实施例对本发明创造己进 行了详细的说明，但是，本领域技术人员应当理解，仍然可以对本发明创造进行修改或者等 同替换；而一切不脱离本发明创造的精祌和范围的技术方案及其改进，其均涵盖在本发明创 造专利的保护范围当中。
权利要求
1.上颌骨修复支架，其特征在于，包括上颌骨形支架本体，在所述上颌骨形支架本体的上沿依次分布四个凸起的均带有沉孔阵列结构的连接区右侧颧骨连接区，右侧梨状孔连接区，左侧梨状孔连接区，和左侧颧骨连接区；在所述右侧梨状孔连接区和左侧梨状孔连接区之间是梨状孔形态修复区；在所述上颌骨形支架本体的下沿分布着上颌植骨区；在所述上颌骨形支架本体的上沿和下沿之间分布着上颌牙槽区；所述上颌植骨区和上颌牙槽区均带有通孔阵列结构。
2. 根据权利要求1所述的上颌骨修复支架，其特征在于，所述上颌植骨区具有沿所述上 颌骨形支架本体的下沿向后延伸出用于填充松质骨或粉状骨的U型结构。
3. 根据权利要求1所述的上颌骨修复支架，其特征在于，所述上颌植骨区具有在所述上 颌骨形支架本体的下沿上方位置向后延伸出的角形结构，所述角形结构用于双面固定植入的 块状骨。
4. 根据权利要求1所述的上颌骨修复支架，其特征在于，所述沉孔阵列结构中的沉孔直 径范围为1.0mm 5.0mm，所述通孔阵列结构中的通孔直径范围为1.0mm 5.0mm。
5. 根据权利要求1所述的上颌骨修复支架，其特征在于，所述沉孔阵列结构中的沉孔与 沉孔的中心距范围为1.0mm 5.0mm，所述通孔阵列结构中的通孔与通孔的中心距范围为 1.0mm 5.0mm。
6. 根据权利要求1所述的上颌骨修复支架，其特征在于，所述上颌骨形支架本体采用永 久性植入颅颌面骨修复的金属或非金属材料。
7. 根据权利要求1所述的上颌骨修复支架，其特征在于，所述上颌骨形支架本体采用满 足13810标准的外科植入物用纯钛或钛合金材料，或者采用满足ISO或ASTM标准的六铝七 铌钛合金材料。
8. 如上述权利要求1-7之一所述的上颌骨修复支架的制造方法，其特征在于包括以下步骤A. 采集患者包括上颌骨区域的CT或MRI图像，获取DICOM格式的图像数据；B. 利用所述DICOM格式的图像数据结合三维重建软件进行三维重建，然后在重建图像 的基础上进行上颌骨修复支架的设计；C. 所述上颌骨修复支架的设计要求内表面要和所重叠的骨面贴合，外表面要符合修复所 需的形态；D. 将所述上颌骨修复支架的设计完成的数据转换为可加工数据，然后采用数控中心或数 控铣床进行数字化加工，加工出上颌骨修复支架的雏形；E. 对上颌骨修复支架进行后期加工处理，其中包括打孔，打磨工序。
全文摘要
一种能够符合大面积上颌骨缺损形态修复等要求的上颌骨修复支架及制造方法，其特征在于，包括上颌骨形支架本体，在所述上颌骨形支架本体的上沿依次分布四个凸起的均带有沉孔阵列结构的连接区右侧颧骨连接区，右侧梨状孔连接区，左侧梨状孔连接区，和左侧颧骨连接区；在所述右侧梨状孔连接区和左侧梨状孔连接区之间是梨状孔形态修复区；在所述上颌骨形支架本体的下沿分布着上颌植骨区；在所述上颌骨形支架本体的上沿和下沿之间分布着上颌牙槽区；所述上颌植骨区和上颌牙槽区均带有通孔阵列结构。
文档编号A61F2/28GK101637413SQ20091009184
公开日2010年2月3日 申请日期2009年8月27日 优先权日2009年8月27日
发明者灿 刘, 谦 姜, 来 归, 李晓峰, 星 武 申请人:北京吉马飞科技发展有限公司