专利名称：一种头部伽玛刀装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及伽玛刀装置，尤其涉及一种头部伽玛刀装置。
背景技术：
现在基层医院使用的伽玛刀，主要都是由瑞典医科达公司生产的静态头部伽玛刀和奥沃公司生产的旋转式头部伽玛刀和体部伽玛刀，现有技术的头部伽玛刀只能做头部的治疗，体部的伽玛刀只能做体部的治疗，由于伽玛刀是一种非常昂贵的设备，尤其头部伽玛刀更是惊人的昂贵，基层医院一般只能购置体部伽玛刀，也就只能进行体部的伽玛刀治疗，而没有办法对病人进行头部的伽玛刀治疗
实用新型内容
本实用新型的目的在于，克服现有技术的不足之处，提供一种头部伽玛刀装置，是 在现有技术的体部伽玛刀设备的基础上进行革新改进，使得体部伽玛刀也可以用于头部的伽玛刀治疗。本实用新型所述的一种头部伽玛刀装置，包括有支撑架、滑轨、放射源、射线道、辐射屏蔽体、源体、保护膜、座椅和聚焦点。支撑架是本实用新型的支撑件，整体呈框架结构，支撑架上支撑设置有辐射屏蔽体，辐射屏蔽体的外表面上设置有一层保护膜，在辐射屏蔽体的下面居中的位置，设置有半圆球状的源体，源体上设置有多个射线道，在射线道的上端设置有放射源，射线道向下延伸形成一个聚焦点，也就是放射源形成一个聚焦点。在支撑架的一端，设置有可以左右滑动调整位置用的滑轨，滑轨的内端上连接设置有座椅。本实用新型所述的一种头部伽玛刀装置，整体结构简单，操作使用方便，稳定性好，可靠性高。本实用新型所述一种头部伽玛刀装置是在现有技术的体部伽玛刀设备的基础上进行的革新改进，使得体部伽玛刀既可以用于体部的伽玛刀治疗，也可以用于头部的伽玛刀治疗。
附图I是本实用新型所述一种头部伽玛刀装置的结构示意图。I一支撑架2—滑轨3—放射源4一射线道5—辐射屏蔽体6—源体7—保护膜8—座椅9 一聚焦点。
具体实施方式
现参照附图1，结合实施例说明如下本实用新型所述的一种头部伽玛刀装置，包括有支撑架I、滑轨2、放射源3、射线道4、辐射屏蔽体5、源体6、保护膜7、座椅8和聚焦点9。支撑架I是本实用新型的支撑件，整体呈框架结构，支撑架I上支撑设置有辐射屏蔽体5，辐射屏蔽体5的外表面上设置有一层保护膜7，在辐射屏蔽体5的下面居中的位置，设置有半圆球状的源体6，源体6上设置有多个射线道4，在射线道4的上端设置有放射源3，射线道4向下延伸形成一个聚焦点9，也就是放射源3形成一个聚焦点9。在支撑架I的一端，设置有可以左右滑动调整位置用的滑轨2，滑轨2的内端上连接设置有座椅8。本实用新型所述的一种头部伽玛刀装置，整体结构简单，操作使用方便，稳定性好，可靠性高。本实用 新型所述一种头部伽玛刀装置是在现有技术的体部伽玛刀设备的基础上进行的革新改进，使得体部伽玛刀既可以用于体部的伽玛刀治疗，也可以用于头部的伽玛刀治疗。
权利要求1.一种头部伽玛刀装置，支撑架(I)是支撑件，整体呈框架结构，其特征在于支撑架(I)上支撑设置有辐射屏蔽体(5)，辐射屏蔽体(5)的外表面上设置有一层保护膜(7)，在辐射屏蔽体(5)的下面居中的位置，设置有半圆球状的源体(6)，源体(6)上设置有多个射线道(4)，在射线道(4)的上端设置有放射源(3)，射线道(4)向下延伸形成一个聚焦点(9)，在支撑架(I)的一端，设置有可以左右滑动调整位置用的滑轨(2)，滑轨(2)的内端上连接设置有座椅(8)。
专利摘要一种头部伽玛刀装置，包括有支撑架、滑轨、放射源、射线道、辐射屏蔽体、源体、保护膜、座椅和聚焦点。支撑架是支撑件，整体呈框架结构，支撑架上支撑设置有辐射屏蔽体，辐射屏蔽体的外表面上设置有一层保护膜，在辐射屏蔽体的下面居中的位置，设置有半圆球状的源体，源体上设置有多个射线道，在射线道的上端设置有放射源，射线道向下延伸形成一个聚焦点。在支撑架的一端，设置有可以左右滑动调整位置用的滑轨，滑轨的内端上连接设置有座椅。本实用新型整体结构简单，操作使用方便，稳定性好，可靠性高。本实用新型是在现有技术的体部伽玛刀设备的基础上进行的革新改进，使得体部伽玛刀既可以用于体部的伽玛刀治疗，也可以用于头部的伽玛刀治疗。
文档编号A61N5/10GK202538184SQ20122004363
公开日2012年11月21日 申请日期2012年2月12日 优先权日2012年2月12日
发明者马现文 申请人:马现文