一种用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置及穿刺方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及医疗器械技术领域，具体是一种用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置及穿刺方法。
【背景技术】
[0002]原发性头面部疼痛涉及多种疾病，如丛集性头痛、三叉神经痛，蝶颚神经痛等疾病。
[0003]此类原发性头面部深部组织痛的发病机制不明，目前对此类疾病的治疗限于经验性治疗，包括开放手术治疗、药物治疗、神经阻滞治疗等。
[0004]举例说明目前常常采用的穿刺方法。近年来对三叉神经痛常常采用经皮卵圆孔半月神经节射频热凝术治疗三叉神经第二、第三支疼痛或经皮圆孔上颂神经射频热凝术治疗三叉神经第二支疼痛。此治疗方法需要在射线引导下对目标靶点穿刺，穿刺针的针尖是否穿刺到位直接影响治疗效果。
[0005]临床上常采用影像学引导穿刺法:
[0006]将患者的头部及身体固定在CT检查台上，扫描头部。定位靶点后，适当调整投照轴线，再次扫描，预测穿刺路径。然后参照投照轴线经皮肤穿刺，边穿刺边扫描，根据CT监视下图像不断的调整进针的角度及深度，最终到达穿刺靶点。此方法借助射线下的人体解剖标志点来定位，其穿刺准确性受较多的因素干扰，长时间穿刺患者不易耐受，容易出现穿刺并发症，且术中反复透视，增加对患者辐照伤害。目前，头面部深部组织穿刺缺乏准确的经皮穿刺辅助装置。
【发明内容】
[0007]本发明的目的在于提供一种手术时间短、工作效率高的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置及穿刺方法，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0008]为实现上述目的，本发明提供如下技术方案:
[0009]—种用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，包括引导装置本体和穿刺导向柱，所述穿刺导向柱设置在引导装置本体上，且所述穿刺导向柱与引导装置本体是一体成型的。
[0010]作为本发明进一步的方案:所述穿刺导向柱为中空结构。
[0011]作为本发明进一步的方案:所述引导装置本体为贴合头部或面部结构的头罩或面罩。
[0012]作为本发明进一步的方案:所述引导装置本体上设有若干个定位孔，所述定位孔与采集头面部数据时头面部皮肤上标记的定位点相匹配。
[0013]作为本发明进一步的方案:所述面罩上设有预留孔。
[0014]作为本发明进一步的方案:所述预留孔的形状、大小及位置均与眼睛区域适配。
[0015]作为本发明进一步的方案:所述预留孔的形状、大小及位置均与嘴部区域适配。
[0016]作为本发明进一步的方案:所述预留孔的形状、大小及位置均与耳朵区域适配。
[0017]所述用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置的穿刺方法，具体步骤如下:
[0018]I)数据采集:使用设备采集患者的头面部数据；
[0019]2)模拟路径:将步骤I)采集的数据导入软件中，明确靶点的位置，以避免或者减少组织损伤为原则模拟穿刺路径，确定靶点的经皮穿刺方向及穿刺深度；
[0020]3)制作穿刺引导装置:利用患者的影像学数据以及模拟穿刺路径数据生成特定的数字穿刺引导装置;制作出此穿刺引导装置；
[0021]4)临床应用:将制作好的实物穿刺引导装置消毒后交付临床使用。
[0022]作为本发明再进一步的方案:所述步骤4)中交付临床使用后，将面罩准确的定位在患者的头部或面部，通过装置直接进行穿刺或通过装置钻孔后进行穿刺，然后在影像下确认穿刺准确性，最后开展有关诊疗。
[0023]与现有技术相比，本发明的有益效果是:
[0024]本发明采用个体化精准穿刺方法，在手术前中明确靶点的位置，模拟最佳穿刺路径，避免或减少对途经重要组织的损伤，测量穿刺深度，从而减低患者的穿刺并发症的发生率;本发明的精准穿刺方法可提高穿刺精准度，改善治疗效果;本发明的精准穿刺方法可缩短手术时间，提高工作效率，降低透视辐射量。
【附图说明】
[0025]图1为本发明的结构示意图。
[0026]图2为使用本发明进行穿刺的流程示意图。
【具体实施方式】
[0027]下面结合【具体实施方式】对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
[0028]请参阅图1-2，一种用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，包括引导装置本体I和穿刺导向柱2，所述穿刺导向柱2设置在引导装置本体I上，且所述穿刺导向柱2与引导装置本体I是一体成型的;所述穿刺导向柱2为中空结构;所述引导装置本体I为覆盖在穿刺部位的体表进针点上方的，和面部或者头部结构完全贴伏的头罩或面罩，也可以是头罩或面罩的局部部分;所述引导装置本体I上设有若干个定位孔，所述定位孔与采集头面部数据时头面部皮肤上标记的定位点相匹配。
[0029]所述面罩上设有预留孔;所述预留孔的形状、大小及位置均与眼睛区域适配;所述预留孔的形状、大小及位置均与嘴部区域适配;所述预留孔的形状、大小及位置均与耳朵区域适配。
[0030]所述用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置的穿刺方法，具体步骤如下:[0031 ] I)数据采集:使用设备采集患者的头面部数据；
[0032]2)模拟路径:将步骤I)采集的数据导入软件中，明确靶点的位置，以避免或者减少组织损伤为原则模拟穿刺路径，确定靶点的经皮穿刺方向及穿刺深度；
[0033]3)制作穿刺引导装置:利用患者的影像学数据以及模拟穿刺路径数据生成特定的数字穿刺引导装置;制作出此穿刺引导装置；
[0034]4)临床应用:将制作好的实物穿刺引导装置消毒后交付临床使用。
[0035]所述步骤4)中交付临床使用后，将面罩准确的定位在患者的头部或面部，通过装置直接进行穿刺或通过装置钻孔后进行穿刺，然后在影像下确认穿刺准确性，最后开展有关诊疗。
[0036]具体来说，穿刺方法为根据患者头部影像学数据，利用相关软件模拟出靶点的最佳经皮穿刺路径，确定穿刺部位及角度，基于此穿刺部位及角度以及患者的影像学资料制作带有穿刺导向柱的个体化的头罩或面罩，生成高精度头面部深部组织精准穿刺引导装置，通过此装置插入穿刺针或者其他医疗器械，直接经过途经组织或者经钻孔后达到靶点。
[0037]本发明设计个体化的头面部深部组织穿刺引导装置，通过预先设定好穿刺路径和进针深度，可确保穿刺精准程度，可以大大提高手术成功率，减少患者损伤，同时缩短手术时间，降低透视辐射量，减少手术并发症的优点。和采用导航系统引导手术比较，使用本发明中描述的装置以及方法，能够大大减低医疗成本，同时，避免了使用导航系统所需要的器械安置、定位、重建等时间，以及长时间使用导航系统导致的患者不能耐受等弊端。
[0038]上面对本专利的较佳实施方式作了详细说明，但是本专利并不限于上述实施方式，在本领域的普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本专利宗旨的前提下作出各种变化。
【主权项】
1.一种用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，包括引导装置本体(I)和穿刺导向柱(2)，所述穿刺导向柱(2)设置在引导装置本体(I)上，且所述穿刺导向柱(2)与引导装置本体(I)是一体成型的。2.根据权利要求1所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述穿刺导向柱(2)为中空结构。3.根据权利要求1所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述引导装置本体(I)为贴合头部或面部结构的头罩或面罩。4.根据权利要求1任一所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述引导装置本体(I)上设有若干个定位孔，所述定位孔与采集头面部数据时头面部皮肤上标记的定位点相匹配。5.根据权利要求3所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述面罩上设有预留孔。6.根据权利要求5所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述预留孔的形状、大小及位置均与眼睛区域适配。7.根据权利要求5所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述预留孔的形状、大小及位置均与嘴部区域适配。8.根据权利要求5所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置，其特征在于，所述预留孔的形状、大小及位置均与耳朵区域适配。9.一种如权利要求1-8任一所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置的穿刺方法，其特征在于，具体步骤如下: 1)数据采集:使用设备采集患者的头面部数据； 2)模拟路径:将步骤I)采集的数据导入软件中，明确靶点的位置，以避免或者减少组织损伤为原则模拟穿刺路径，确定靶点的经皮穿刺方向及穿刺深度； 3)制作穿刺引导装置:利用患者的影像学数据以及模拟穿刺路径数据生成特定的数字穿刺引导装置;制作出此穿刺引导装置； 4)临床应用:将制作好的实物穿刺引导装置消毒后交付临床使用。10.根据权利要求9所述的用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置的穿刺方法，其特征在于，所述步骤4)中交付临床使用后，先将面罩准确的定位在患者的头部或面部，通过装置直接进行穿刺或通过装置钻孔后进行穿刺，然后在影像下确认穿刺准确性，最后开展有关诊疗。
【专利摘要】本发明公开了一种用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置及穿刺方法，用于头面部深部组织精准穿刺的辅助引导装置包括引导装置本体和穿刺导向柱，穿刺导向柱设置在引导装置本体上，且穿刺导向柱与引导装置本体是一体成型的，穿刺导向柱为中空结构，引导装置本体为贴合头部或面部结构的头罩或面罩，引导装置本体上设有若干个定位孔，面罩上设有预留孔。本发明采用个体化精准穿刺方法，在手术前中明确靶点的位置，模拟最佳穿刺路径，避免或减少对途经重要组织的损伤，测量穿刺深度，从而减低患者的穿刺并发症的发生率；提高了穿刺精准度，改善了治疗效果，可缩短手术时间，提高工作效率，降低透视辐射量。
【IPC分类】A61B17/34, A61B34/10, A61B90/10
【公开号】CN105496568
【申请号】CN201610022445
【发明人】吴祥, 李顺
【申请人】吴祥
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2016年1月14日