一种双x射线源血液辐照装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及血液辐照仪技术领域，尤其涉及一种双X射线源血液辐照装置。
【背景技术】
[0002]输血相关性移植物抗宿主病(TA-GVHD)是免疫缺损或免疫抑制的患者不能清除输入血液中具有免疫活性的淋巴细胞，使其在体内植活、增殖，将患者的组织器官识别为非己物质，并作为靶目标进行免疫攻击、破坏的一种致命性输血并发症。TA-GVHD临床表现缺乏特异性，极易漏诊和误诊。
[0003]有研究表明引起TA-GVHD的受体输入淋巴细胞数量应大于107/kg，如若低于15/kg则不会引起TA-GVHD。但有报道对免疫缺陷的儿童仅104/kg淋巴细胞即引发TA-GVHD。总之输入供体的淋巴细胞数量越多其病情越严重，死亡率也就越高。
[0004]目前认为输血前对血制品进行照射，是预防TA-GVHD惟一有效的方法。其机制是:淋巴细胞对射线敏感，通过适当剂量的射线照射，可使免疫活性淋巴细胞灭活，丧失增殖能力。而对红细胞、血小板的功能及凝血因子活性影响不大。现在发达国家应用率已达30 %?40%。
[0005]血液辐照仪就是一种使用射线照射血液或血液制品，对淋巴细胞进行灭活，预防输血活动中TA-GVHD疾病的医疗设备。
[0006]从射线源分，血液辐照仪可以分为两类，一类是采用放射源(主要是Cs-137、Co-60)产生的γ射线照射血液或血液制品，一类是采用X光管产生的X射线照射血液或血液制品。放射源型血液辐照仪设备需要装配几百到上千居里的同位素放射源，这存在着潜在的核泄漏风险。而X光源型血液辐照仪则没有核泄漏的风险，设备断电就没有任何射线产生。
[0007]不过，X光源型血液辐照仪存在X射线能量低、单源辐照不均匀的缺点，不能满足血液辐照仪标准中对辐射均匀性的要求(国标要求血液辐照仪辐照的非均匀性〈20% ) ο普通X光源产生的X光子能量一般在200keV以下，它在照射血液或血液制品过程中，很容易被浅层的血液大量吸收，使得到达深处的X光子数量迅速减少。
[0008]为了克服单源辐照X光源型血液辐照仪的缺点，双源辐照的方案被提出来。通过在血袋容器上下两个方向对称放置一个X光源，其能够显著提高辐照的均匀性。但如图1所示，由于双X光源方案其横向方向的辐射场均匀范围有限，使得整个辐照场中只能有一小部分区域能够放置血袋接受辐照，而大部分区域的射线均被浪费。
【发明内容】
[0009]针对上述问题，本发明的目的是提供一种双X射线源血液辐照装置，包括:
[0010]辐照腔体，以及设置在辐照腔体内部的X射线源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承载有待辐照血液或血液制品，所述X射线源的数量为两个以上，其分别设置于血袋容器的上方与下方，且两个X射线源之间，其在水平投影面上的位置相互错开，所述辐照腔体的内壁上设有X射线反射层。
[0011]进一步，所述辐照腔体的外部设有X射线吸收层。
[0012]进一步，所述X射线源的数量为两个。
[0013]进一步，所述X射线反射层由原子序数少于10的元素所组成的材料构成。
[0014]进一步，所述X射线反射层由聚乙烯构成。
[0015]进一步，所述X射线吸收层由原子序数大于50的元素所组成的材料构成。
[0016]进一步，所述X射线吸收层由重金属材料构成。
[0017]进一步，所述重金属材料为铅、钨。
[0018]进一步，所述X射线反射层的厚度小于10CM。
[0019]本发明为一种双X射线源血液辐照装置，其通过将上下两个X光源相互错开，增加均匀辐射场的面积，从而增大能够放置血液或血液制品的面积，对X光源的利用更加充分。
【附图说明】
[0020]图1为现有技术中的辐照剂量场强度的示意图；
[0021]图2为本发明中整体结构原理示意图；
[0022]图3为本发明中辐照剂量场强度的示意图；
[0023]图4为本发明中两X射线源位置关系的示意图。
【具体实施方式】
[0024]下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细的说明。
[0025]请参阅图2至图4，本发明一个实施例提供一种双X射线源血液辐照装置，包括:
[0026]辐照腔体，以及设置在辐照腔体内部的X射线源和用于盛放血袋的血袋容器5，所述血袋中承载有待辐照血液或血液制品，所述X射线源的数量为两个以上，其分别设置于血袋容器5的上方与下方，且两个X射线源之间，其在水平投影面上的位置相互错开，所述辐照腔体的内壁上设有X射线反射层3。
[0027]优选的，所述X射线源的数量为两个。
[0028]由于第一 X光源I与第二 X光源2错开放置，其将使得第一正面6和第二正面9区域的剂量场强度大于第一背面7和第二背面8区域的剂量场强度。这种由于射线被部分吸收所导致的剂量场非均匀性将低于国标规定的上限值，满足国标的要求。且由于能量低于51 IkeV的X光子与物质相互作用，主要发生两种效应，一种是光电效应，另一种是康普顿散射效应。物质的原子序数越高，发生光电效应的比例越高；物质的原子序数越小，发生康普顿散射效应的比例越高。在辐照腔体屏蔽箱内部设置X射线反射层3，其为低原子序数的材料，可以让本来将逃离辐照腔体屏蔽箱的X光子有一部分被反射回辐照腔体内，其将进一步提高X光子的利用效率，并且能够增加待辐照血液或血液制品背离X射线源一面的剂量场强度，降低待辐照血液或血液制品正、反面剂量场的梯度，提高剂量场的均匀性。
[0029]当两个X射线源水平距离较远时，两X射线源连线与待辐照血液平面的交点O的剂量场强度将比X射线源在血液平面的投影点Al低。因此，两X射线源水平距离的理论最大值是O点的剂量场强度为Al点的80%。
[0030]进一步，所述辐照腔体的外部设有X射线吸收层4。而对于穿过X射线反射层3的X射线，为了避免它们对周围环境造成污染，所以采用X射线吸收层4对其进行吸收。
[0031]进一步，所述X射线反射层3由原子序数少于10的元素所组成的材料构成，使其利于康普顿散射效应的发生，从而使X射线中的X光子有更容易被反射回辐照腔体内。
[0032]进一步，所述X射线反射层3由聚乙烯构成。
[0033]进一步，所述X射线吸收层4由原子序数大于50的元素所组成的材料构成，使X射线中的X光子有更容易被吸收。
[0034]进一步，所述X射线吸收层4由重金属材料构成。
[0035]进一步，所述重金属材料为铅、妈。
[0036]进一步，所述X射线反射层3的厚度小于10CM。使其既能满足了 X射线的反射需求，又能保持设备整体的小体积。
[0037]以上所述，仅是本发明的实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种双X射线源血液辐照装置，其特征在于，包括:辐照腔体，以及设置在辐照腔体内部的X射线源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承载有待辐照的血液或血液制品，所述X射线源的数量为两个以上，其分别设置于血袋容器的上方与下方，且两个X射线源之间，其在水平投影面上的位置相互错开，所述辐照腔体的内壁上设有X射线反射层。2.如权利要求1所述的双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述辐照腔体的外部设有X射线吸收层。3.如权利要求1所述双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述X射线源的数量为两个。4.如权利要求1所述双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述X射线反射层由原子序数少于10的元素所组成的材料构成。5.如权利要求4所述双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述X射线反射层由聚乙稀构成。6.如权利要求2所述双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述X射线吸收层由原子序数大于50的元素所组成的材料构成。7.如权利要求6所述的双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述X射线吸收层由重金属材料构成。8.如权利要求7所述的双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述重金属材料为铅、钨。9.如权利要求3、5或8所述的双X射线源血液辐照装置，其特征在于，所述X射线反射层的厚度小于10CM。
【专利摘要】本实用新型提出一种双X射线源血液辐照装置，其应用于血液辐照仪的技术领域，包括：辐照腔体，以及设置在辐照腔体内部的X射线源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承载有待辐照的血液或血液制品，所述X射线源的数量为两个以上，其分别设置于血袋容器的上方与下方，且两个X射线源之间，其在水平投影面上的位置相互错开，所述辐照腔体的内壁上设有X射线反射层；本实用新型其通过将上下两个X光源相互错开，增加均匀辐射场的面积，从而增大能够放置血袋的面积，对X光源的利用更加充分。
【IPC分类】A61M1/02
【公开号】CN204840428
【申请号】CN201520544926
【发明人】代秋声, 徐如祥
【申请人】江苏摩科特医疗科技有限公司
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2015年7月24日