专利名称：基板处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种基板处理装置，即，将诸如平板显示器用玻璃基板、半导体晶片、印刷线路板等基板，边以排列设置的多个传送辊进行支持并一片片进行传送，边对基板进行诸如清洗、显影、腐蚀、去膜等处理的基板处理装置。
图8所示显影处理装置，具备具有入口端开口3a和出口端开口3b的处理槽2，在处理槽2的内部，设有排列设置的多个传送辊4a、4b、4c。并且，将基板1通过入口端开口3a送入处理槽2内，以传送辊4a～4c进行支持并在水平方向上进行传送，经出口端开口3b从处理槽2内送出，送往下一个水洗处理槽(未图示)。在处理槽2的内部的入口端开口3a附近，装设有显影液排出嘴5。此外，在处理槽2的内部的出口端开口3b附近，在传送辊4c的正上方装设有与传送辊4c相向的、与传送辊4c所支持并传送的基板1的上表面接触的除液辊6。
在如上构成的显影处理装置中，当表面形成有已经过曝光的光致抗蚀剂膜的基板1，从装设在处理槽2的入口端开口3a附近的显影液排出嘴5的正下方通过时，从显影液排出嘴5的下端面的狭缝状排出口排出的显影液7将覆盖在其表面上。覆盖显影液的基板1，在被传送辊4a、4b传送期间，进行光致抗蚀剂膜的显影反应。当基板1被传送到处理槽2的出口端开口3b附近时，除液辊6将基板1上的显影液7除去，之后，从处理槽2内送出。继而，将基板1送往下一个水洗处理槽，使光致抗蚀剂膜的显影反应完全停止。
在如上所述的显影处理装置中，若显影液7、特别是含有抗蚀剂的显影液7从基板1的表面洒落，该显影液将附着到传送辊4a～4c的外周面和处理槽2的内壁面等表面上。而且，除液辊6的外周面始终处于附着有含抗蚀剂显影液7的状态。附着在这些部件上的显影液干燥之后，抗蚀剂成分将固化而对部件造成污染。因此，会出现生成的微粒污染基板1或引起传感器等设备误动作等问题。而要避免出现上述问题，需要频繁进行处理槽2的内部清扫作业，这将导致处理效率降低、增加作业的复杂性。
而采用与上述方式不同的方式，即在处理槽内设置雾化排出嘴，利用雾化排出嘴将显影液等呈雾状排出使之在处理槽的整个内部扩散这样一种方式的场合，由于传送辊和处理槽的内壁面、传感器等的表面始终处于被诸如显影液润湿的状态，因此，不容易被固化的抗蚀剂污染，不容易产生上述问题。但是，在传送辊等部件设置在雾状显影液等难以到达的部位的场合，含有抗蚀剂的显影液仍然会污染传送辊等部件。而且，该方式在需要抑制雾化的工艺中基本上无法采用。
方案2所涉及的发明，属于一种在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理的基板处理装置，其特征是，在靠近与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊且传送辊所支持的基板的高度位置的下方，配置有排出口与传送辊相向的排出液机构，具有向该排出液机构供给湿润用液的供液机构。
方案3所涉及的发明，属于一种在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理的基板处理装置，其特征是，在与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊的附近且传送辊所支持的基板的高度位置的下方，配置有排出口与配置在所说传送辊的正上方并与传送辊所支持并传送的基板的上表面接触的上部辊相向的排出液机构，具有向该排出液机构供给湿润用液的供液机构。
方案4所涉及的发明，属于方案3所说的基板处理装置，其特征是，所说传送辊及所说上部辊，被支持成能够在上方位置与下方位置之间移动，所说排出液机构，被配置成当传送辊及上部辊位于上方时位于传送辊所支持的基板的高度位置的下方，当传送辊及上部辊位于下方时，通过控制使所说传送辊位于与与之相比配置在基板传送方向的上游一侧的其它传送辊高度相同的位置上，并使基板不与传送辊及上部辊接触。
方案5所涉及的发明，属于方案4所说的基板处理装置，其特征是，所说传送辊及所说上部辊，被支持成能够以传送辊的中心线的延长线上的一点为中心在垂直面内摇动，从而能够在成倾斜姿态的上方位置与成水平姿态的下方位置之间移动。
方案6所涉及的发明，属于方案4或方案5所说的基板处理装置，其特征是，所说传送辊和所说上部辊为除液辊，在该除液辊与所说其它传送辊之间，装设有被支持成与除液辊在上方位置与下方位置之间一体移动的、与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的多个传送辊。
方案7所涉及的发明，属于方案2至方案6之一的权利要求所说的基板处理装置，其特征是，所说供液机构，以较低压力向所说排出液机构供给湿润用液，该压力低到从其排出口向所说传送辊排出的湿润用液不会溅起而四处飞散的程度。
方案8所涉及的发明，属于方案2至方案7之一的权利要求所说的基板处理装置，其特征是，在传送基板并对基板进行处理期间，所说供液机构向排出液机构间歇性地供给湿润用液，使得在所说传送辊不与基板的下表面接触时从所说排出液机构的排出口排出湿润用液、而在传送辊与基板的下表面接触时从排出液机构的排出口不排出湿润用液。
方案9所涉及的发明，属于方案2至方案8之一的权利要求所说的基板处理装置，其特征是，在未传送基板期间，每隔一定时间由所说供液机构向排出液机构间歇性地供给湿润用液。
方案10所涉及的发明，属于一种在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理的基板处理装置，其特征是，向所说处理槽的倾斜的内底面排出湿润用液的排出液机构，配置在内底面的倾斜方向的上部，具有向该排出液机构供给湿润用液的供液机构。
作为方案1所涉及的发明的基板处理装置，由供液机构向储液容器内供给湿润用液，使得储液容器内始终充满湿润用液，传送辊的部分外周面浸在充满该储液容器的湿润用液中。于是，传送辊的外周面始终处于被湿润用液润湿的状态。因此，即使从基板的表面有处理液、例如含有抗蚀剂的显影液洒落而附着在传送辊的外周面上，显影液也不会枯竭，因而抗蚀剂成分不会固化。因此，能够避免传送辊被固化的抗蚀剂污染。此外，由于在充满储液容器的湿润用液中传送辊只是浸在其中，因而不必担心湿润用液溅起。因此，即便是在使例如含有抗蚀剂的显影液循环而将其作为湿润用液重复使用的场合，也不会因溅起而导致含抗蚀剂显影液附着在基板上而污染基板，或者含抗蚀剂显影液附着在传感器等设备上而引起误动作。
作为方案2所涉及的发明的基板处理装置，由于从排出液机构的排出口向传送辊排出湿润用液，因而传送辊始终处于被湿润用液润湿的状态。因此，即使处理液、例如含抗蚀剂显影液从基板的表面洒落而附着在传送辊上，显影液也不会枯竭，因而抗蚀剂成分不会固化。因此，能够避免传送辊被固化的抗蚀剂污染。此外，排出液机构是靠近传送辊配置的，因此，湿润用液不容易溅起，湿润用液不会在大范围内四处飞散。因此，即便是在使例如含有抗蚀剂的显影液循环而作为湿润用液重复使用的场合，也不会因溅起而导致含抗蚀剂显影液附着在基板上而污染基板，或者含抗蚀剂显影液附着在传感器等设备上而引起误动作。此外，由于排出液机构配置在基板高度位置的下方，因此，即使含抗蚀剂显影液从排出液机构的排出口滴落，显影液也不会附着到基板上。
作为方案3所涉及的发明的基板处理装置，由于从排出液机构的排出口向配置在传送辊正上方的上部辊排出湿润用液，使得上部辊始终处于被湿润用液润湿的状态，并且由于湿润用液经由上部辊的外周面向下流到传送辊的外周面上，使得传送辊也始终处于被湿润用液润湿的状态。因此，即使与基板的上表面接触的上部辊上附着了处理液、例如含有抗蚀剂的显影液，并且显影液从基板的表面洒落而附着到传送辊上，显影液也不会枯竭，因而抗蚀剂成分不会固化。因此，能够避免上部辊和传送辊被固化的抗蚀剂污染。此外，由于排出液机构是配置在传送辊附近的，因此，湿润用液不容易溅起，湿润用液不会在大范围内四处飞散。因此，即便是在使例如含有抗蚀剂的显影液循环而作为湿润用液重复使用的场合，也不会因溅起而导致含抗蚀剂显影液附着在基板上而污染基板，或者含抗蚀剂显影液附着在传感器等设备上而引起误动作。此外，由于排出液机构配置在基板高度位置的下方，因此，即使含抗蚀剂显影液从排出液机构的排出口滴落，显影液也不会附着在基板上。
作为方案4所涉及的发明的基板处理装置，当传送辊及上部辊位于上方时，排出液机构位于基板高度位置的下方，因此，即使处理液、例如含有抗蚀剂的显影液从排出液机构的排出口滴落，显影液也不会附着到基板上。而当传送辊及上部辊位于下方时，基板不与传送辊及上部辊接触，因此，即使含抗蚀剂显影液从排出液机构的排出口滴落，也不必担心显影液会附着到基板上。
作为方案5所涉及的发明的基板处理装置，传送辊及上部辊是通过以传送辊的中心线的延长线上的一点为中心在垂直面摇动而在上方位置与下方位置之间移动的。并且，在上方位置，传送辊及上部辊呈倾斜姿态，传送辊所支持的基板也倾斜，因此，处理液从基板表面流出去。
作为方案6所涉及的发明的基板处理装置，靠除液辊从由传送辊支持并传送过来的基板上将处理液、例如含抗蚀剂显影液除去，即便此时在除液辊的外周面上附着了含抗蚀剂显影液，由于除液辊始终处于被湿润用液润湿的状态，因此，显影液不会枯竭，因而抗蚀剂成分不会固化在除液辊的外周面上。
作为方案7所涉及的发明的基板处理装置，供液机构以较低压力向排出液机构供给湿润用液，该压力低到从排出液机构的排出口向传送辊排出的湿润用液不会溅起而四处飞散的程度，因此，湿润用液不容易溅起，湿润用液不会在大范围内四处飞散。
作为方案8所涉及的发明的基板处理装置，在传送基板并对基板进行处理期间，当传送辊不与基板的下表面接触时从排出液机构的排出口排出湿润用液，当传送辊与基板的下表面接触时排出液机构的排出口不排出湿润用液，因此，在使例如含有抗蚀剂的显影液循环并作为湿润用液重复使用的场合，不必担心从排出液机构的排出口排出的含抗蚀剂显影液附着在基板上而污染基板。
作为方案9所涉及的发明的基板处理装置，在未传送基板期间，由供液机构向排出液机构每隔一定时间间歇性地供给湿润用液，因此，不仅传送辊或者上部辊及传送辊可保持被湿润用液润湿的状态，而且湿润用液的使用量得以减少。
作为方案10所涉及的发明的基板处理装置，从排出液机构向处理槽的内底面的倾斜方向的上部排出湿润用液，该排出的湿润用液沿内底面的斜度在内底面上向下流动，因此，整个内底面始终处于被湿润用液润湿的状态。因此，即使处理液、例如含有抗蚀剂的显影液从基板的表面洒落到内底面上，显影液也不会枯竭，抗蚀剂成分不会固化。因此，能够避免处理槽的内底面被固化的抗蚀剂污染。
图2示出第2方案的实施形式的一个例子，是对显影处理装置的构成要素之一的传送辊之一加以展示的侧视图。
图3是对第2方案的另一个实施形式加以展示的传送辊的侧视图。
图4示出第3方案的实施形式的一个例子，是对显影处理装置的构成要素之一的传送辊及除液辊加以展示的侧视图。
图5示出第3方案的变型例，是对显影处理装置的构成要素之一的传送辊及除液辊加以展示的剖视侧视图。
图6是图5所示除液辊的主视图。
图7示出第4方案的实施形式的一个例子，是对显影处理装置的构成要素之处理槽的底部加以展示的剖视图。
图8是对显影处理装置的大致结构的一个例子加以展示的示意图。
发明的实施形式下面，对本发明的最佳实施形式结合
图1至图7进行说明。
图1示出第1方案的实施形式的一个例子，是对基板处理装置、例如显影处理装置的构成要素之一的传送辊之一以局部剖视形式加以展示的侧视图。对于显影处理装置的总体结构，已结合图8作了说明，故将其说明省略，但图1所示的传送辊10，是对应于图8所示显影处理装置的多个传送辊4a～4b之中的配置在处理槽2的中间部位的传送辊4b的。
传送辊10，是其外周面与基板1的下表面的整个宽度相接触的圆柱形。该传送辊10，支持基板1并进行传送，而且还具有边与基板1的下表面的整个宽度接触边旋转从而对基板的下表面进行清洗的功能。在传送辊10的正下方，配置有储液桶12。储液桶12内，容纳有从供液源通过送给泵15供给的湿润用液，该湿润用液例如是从基板1的表面向下流向处理槽底部而被回收到回收罐(未图示)后从回收罐通过送给泵15送出的显影液14。向储液桶12内连续地供给显影液，使储液桶12内始终处于充满显影液14的状态，从储液桶12的上部溢出的显影液经过回收循环使用。并且，传送辊10的部分外周面浸在充满储液桶12的显影液14中。
作为具有图1所示结构的装置，传送辊10的部分外周面浸在充满储液桶12的显影液14中，因此，传送辊10的外周面始终处于被显影液14润湿的状态。因此，即使含有抗蚀剂的显影液从基板1的表面洒落而附着到传送辊10的外周面上，在传送辊10的外周面上也不会发生显影液枯竭而抗蚀剂成分固化的现象。因此，不必担心传送辊10会被固化的抗蚀剂污染。此外，由于在充满储液桶12的显影液14中传送辊10只是浸在其中，因而不必担心显影液溅起。因此，不会由于溅起而导致含有抗蚀剂的显影液附着到基板1上而污染基板1，或者含抗蚀剂显影液附着到传感器等设备上而引起误动作。
其次，图2示出第2方案的实施形式的一个例子，是对显影处理装置的构成要素之一的传送辊之一加以展示的侧视图。该图2所示的传送辊16，对应于图8所示显影处理装置的多个传送辊4a～4c之中的、除分别配置在处理槽2的中间部位以及出口端开口3b附近的传送辊4a、4b之外的占大部分的传送辊4a。
传送辊16呈圆板形状，或者在旋转支轴18的两端固定有一对，或者在旋转支轴18上固定有多个，例如是在旋转支轴18的两端及中央部位固定有3个。并且，在靠近该传送辊16并且比传送辊16所支持的基板1的高度位置的下方，配置有排出口22与传送辊16相向的排出液排出嘴20。对于排出液排出嘴20，与图1同样，将例如从基板1的表面向下流向处理槽底部而被回收到回收罐内的显影液，从回收罐通过送给泵供给。此时，向排出液排出嘴20供给显影液的压力设定得较低，该压力低到从排出口22向传送辊16排出的显影液14不会溅起而四处飞散的程度。
对于排出液排出嘴20的排出口22向传送辊16排出显影液14这样进行控制，即，在边传送基板1边进行处理期间，在传送辊16不与基板1的下表面接触，并且基板1也未存在于该传送辊16附近时进行排出，而在传送辊16与基板1的下表面接触时和基板1存在于附近时，排出液排出嘴20的排出口22不排出显影液。通过如上所述间歇性排出显影液，使得在含有抗蚀剂的显影液循环重复使用的场合，可避免从排出液排出嘴20的排出口22排出的含抗蚀剂显影液或其飞沫附着到基板1上而污染基板1。另一方面，在未传送基板1期间，排出液排出嘴20的排出口22向传送辊16排出显影液14，是每隔一定时间间歇性进行。通过如上所述使显影液的排出每隔一定时间间歇进行，不仅能够在未进行基板1的处理期间使传送辊16保持润湿状态从而防止抗蚀剂成分固化，而且还能够减少显影液的使用量。
作为具有图2所示结构的装置，通过由排出液排出嘴20的排出口22向传送辊16排出显影液14，使得传送辊16始终处于被显影液14润湿的状态。因此，即使例如含有抗蚀剂的显影液从基板1的表面洒落而附着在传送辊16上，显影液也不会枯竭，可避免抗蚀剂固化。因此，能够防止传送辊16被固化的抗蚀剂污染。此外，由于显影液14从排出液排出嘴20的排出口22低压排出，并且是从靠近传送辊16的位置向传送辊16排出显影液14的，因此，显影液14不容易溅起，显影液14不会在大范围内四处飞散。因此，即便是在含有抗蚀剂的显影液循环重复使用的场合，也不会因含抗蚀剂显影液溅起而造成基板1的污染或者附着在传感器等设备上而引起误动作。此外，排出液排出嘴20是配置在基板1的高度位置的下方，因此，即使含抗蚀剂显影液从排出口22滴落，也不必担心该显影液会附着在基板1上。
此外，图3是对第2方案的另一个实施形式加以展示的传送辊的侧视图。图3所示的实施形式中，排出液排出嘴20的排出口22是朝向斜下方的。若像图2所示的实施形式那样，将排出液排出嘴20设置成排出口22朝上，则在中止排出口22排出液体时，不必担心液体会从排出口22滴落，而相对于此，在图3所示的实施形式中，液体有可能从排出口22滴落。但是，由于排出液排出嘴20是配置在双点划线L所示基板1的高度位置的下方的，因此不必担心从排出口22滴落的含抗蚀剂显影液会附着在基板1上。
其次，图4示出第3方案的实施形式的一个例子，是对显影处理装置的构成要素之一的传送辊及除液辊加以展示的侧视图。该图4所示的传送辊24，对应于图8所示显影处理装置的多个传送辊4a～4c之中的、配置在处理槽2的出口端开口3b附近的传送辊4c。
在传送辊24的正上方配置成与传送辊24相向的除(轧)液辊26，是其外周面与基板1的上表面的整个宽度接触的圆柱形，边与传送辊24所支持并传送的基板1的上表面的整个宽度接触边旋转，从而具有将覆盖在基板1上的用过的显影液从基板1上除去的功能。并且，在传送辊24附近的、传送辊24所支持并传送的基板1的高度位置(图4中以双点划线L表示)的下方，配置有排出口30与除液辊26相向的排出液排出嘴28。对于该排出液排出嘴28，与图2所示排出液排出嘴20同样，将例如从基板1的表面向下流向处理槽底部而被回收到回收罐内的显影液从回收罐通过送给泵供给。此时，向排出液排出嘴28供给显影液时的压力设定得较低，该压力低到从排出口30向除液辊26排出的显影液14不会溅起而四处飞散的程度。
对于排出液排出嘴28的排出口30向传送辊16排出显影液14的控制，与图2所示排出液排出嘴20同样，在边传送基板1边进行处理期间，在传送辊24及除液辊26不与基板1接触，并且基板1也未存在于该传送辊24附近时进行排出，而在传送辊24及除液辊26与基板1接触时和基板1存在于附近时，排出液排出嘴28的排出口30不排出显影液。此外，在未传送基板1期间，排出液排出嘴28的排出口30向除液辊26排出显影液14，是每隔一定时间间歇进行。
作为具有图4所示结构的装置，由于从排出液排出嘴28的排出口30向除液辊26排出传送辊24，使得除液辊26始终处于被显影液润湿的状态。此外，排出到除液辊26外周面上的显影液14，经由除液辊26的外周面向下流向位于下方的传送辊24的外周面上，从而使得传送辊24也始终处于被显影液润湿的状态。因此，即使与基板1的上表面接触的除液辊26上附着了例如含有抗蚀剂的显影液，而且从基板1的表面洒落的含抗蚀剂显影液附着在传送辊24上，显影液也不会枯竭，可防止抗蚀剂成分固化。因此，能够防止除液辊26及传送辊24被固化的抗蚀剂污染。此外，由于显影液14从排出液排出嘴28的排出口30低压排出，并且是从传送辊24的附近位置向除液辊26排出显影液14的，因此，显影液14不容易溅起，显影液14不会在大范围内四处飞散。因此，即便是在含有抗蚀剂的显影液循环重复使用的场合，也不会发生因含抗蚀剂显影液溅起而污染基板1或者附着在传感器等设备上而引起误动作等现象。此外，排出液排出嘴28配置在比基板1的高度位置下方，因此，即使含抗蚀剂显影液从排出口30滴落，也不必担心该显影液会附着在基板1上。
图5和图6示出第3方案的变型例，图5是对显影处理装置的构成要素之一的传送辊及除液辊加以展示的剖视侧视图，图6是其主视图。该图5和图6所示传送辊60及除液辊52、54，展示的是在图8所示显影处理装置的处理槽2的出口端开口3b附近所配置的传送辊4c及其附近的辊。
该变型例所涉及的显影处理装置，在处理槽2内的大体整个区域将基板1以水平姿态传送，而在处理槽2的下游侧附近使基板1变成倾斜姿态后向下一道工序送出。因此，除了处理槽2的下游侧附近(即靠近出口端开口3b处)的区域之外，基板1被固定在处理槽2内的传送辊62以水平姿态传送。而在除此之外的区域，即靠近出口端开口3b的区域，基板1被传送辊60及除液辊52、54传送。除液辊52、54，设置成在它们之间形成基板1可从中通过的微小间隙。传送辊60及除液辊52、54，安装在辊安装部件64、66上。辊安装部件64、66如图6所示，能够在未图示的驱动源的驱动下，以从除液辊52的旋转轴68的延长线上的点0经过且与基板传送方向平行的直线(图6中为经过点0且垂直于纸面的直线)为中心，向上下方向旋转既定角度(单点划线A与A’的夹角)。
在辊安装部件64、66位于最下方位置的状态下，如图5(a)和图6中的实线所示，传送辊60及除液辊52、54将处于水平位置。并且，在该水平位置上的除液辊52与相邻的传送辊60之间，设有检测基板1是否被传送到传送辊60上的检测装置70的振子72。在振子72的下游侧，设有向位于水平位置的除液辊54排出显影液的排出液排出嘴74。排出液排出嘴74，在设置成与水平位置的除液辊54大体平行的排出嘴管75上，沿指向图5纸面的纵深方向设置有多个。对于该排出嘴管75，与图2所示排出液排出嘴20同样，将例如从基板1的表面向下流向处理槽底部而被回收到回收罐内的显影液从回收罐通过送给泵供给。检测装置70及排出嘴管75固定在处理槽2上。此外，在安装在辊安装部件64、66上的传送辊60之中的位于最上游侧的传送辊60与传送辊62之间，也设有检测基板1的检测装置76。
在辊安装部件64、66位于最上方位置的状态下，如图5(b)及图6中的双点划线所示，传送辊60及除液辊52、54以点0一侧为低端倾斜，而且，该传送辊60及除液辊52、54其最低位置要高于排出嘴管75。在图5(b)中，未绘出辊在纵深方向上的倾斜状况。
该显影处理装置的工作原理如下所述。在显影处理装置中，将基板1从处理槽2的入口端开口(图5中未示出)成水平姿态送入，显影液排出嘴5排出的显影液覆盖在基板1上，边在该状态下进行显影处理边在传送辊62驱动下保持水平姿态向下游送进。此时，辊安装部件64、66位于最下方位置，传送辊60及除液辊52、54位于水平位置。并且，此时有显影液从排出液排出嘴74排出，排出的显影液排出到除液辊54上，除液辊54保持被显影液润湿的状态。此外，位于除液辊54下方的除液辊52，也处于被从除液辊54流下来的显影液润湿的状态。因此，不会因除液辊52、54干燥而导致抗蚀剂成分固化。
之后，当基板1传送过来而使得检测装置76的振子78动作时，停止从排出液排出嘴74排出显影液。这是由于，基板1已接近排出液排出嘴74，若显影液继续从排出液排出嘴74排出，则有可能排出的显影液的飞沫飞溅到基板1上而产生处理不匀等不良现象。之后，当进一步传送基板1而使得检测装置76的振子72动作时，传送辊60的转动停止，基板1将停止在传送辊60上。之后，使前述驱动源工作，辊安装部件64、66上升而使得传送辊60以其点0一侧为低端倾斜，放在它上面的基板1也变成倾斜姿态。于是，覆盖在基板1上的显影液大部分向下流淌而基本上被除去。继而，在大部分液体流下去之后，再次驱动传送辊60及除液辊52、54旋转，将基板1使之保持倾斜姿态向下游传送，从与该倾斜姿态的位置相适应地形成的出口端开口3b送出并送向下一道工序。此时，由于辊安装部件64、66上升，排出液排出嘴74和检测装置70的振子72等位于传送辊60的下方，因而不会妨碍基板1的传送，而且，即使液体无意中从排出液排出嘴74漏出，也不会附着在基板1上。将基板1从出口端开口3b送出后，辊安装部件64、66下降以等待下一个基板。
此外，图7示出第4方案的实施形式的一个例子，是对显影处理装置的构成要素之处理槽的底部加以展示的剖视图。图7所示装置中，在处理槽32的倾斜的内底面34的倾斜方向的上部，配置有排出口38朝向内底面34的排出液排出嘴36。对于该排出液排出嘴36，将例如从基板1的表面向下流向处理槽底部并被回收到回收罐内的显影液，从回收罐供给。
作为具有图7所示结构的装置，从排出液排出嘴36的排出口38向处理槽32的内底面34的倾斜方向的上部排出显影液14，该排出的显影液14沿内底面34的斜度在内底面34上向下流动。因此，整个内底面34始终处于被显影液14润湿的状态。因此，即使含有抗蚀剂的显影液从基板1的表面洒落到了内底面34上，该显影液也不会枯竭，因而抗蚀剂不会固化，可防止处理槽32的内底面34被固化的抗蚀剂污染。
以上就显影处理装置进行了说明，但本发明也可以应用于进行诸如清洗、腐蚀、去膜等处理的基板处理装置。发明的效果当使用方案1至方案3所涉及的各发明的基板处理装置时，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液对基板进行处理的场合，能够防止含有抗蚀剂的显影液那样的含有固化成分的处理液对传送辊或者上部辊及传送辊造成污染，能够防止基板受到污染，防止设备产生误动作等。并且，由于不必频繁进行处理槽的内部清扫作业，因而不会降低处理效率，不会使作业变得繁杂。
作为方案4所涉及的发明的基板处理装置，无论传送辊及上部辊位于上方或下方的任何位置上，即使处理液、例如含有抗蚀剂的显影液从排出液机构的排出口滴落，也不必担心显影液会附着在基板上。
作为方案5所涉及的发明的基板处理装置，传送辊及上部辊能够在垂直面内摇动而在上方位置与下方位置之间移动，当位于上方位置时，传送辊所支持的基板发生倾斜，从而基板上的处理液将有一部分流下去而被除去。
作为方案6所涉及的发明的基板处理装置，即使以除液辊将处理液、例如含有抗蚀剂的显影液从基板上除去时含抗蚀剂显影液附着在除液辊的外周面上，也能够防止抗蚀剂成分在除液辊的外周面上固化。
作为方案7所涉及的发明的基板处理装置，湿润用液更不容易溅起，能够更有效地抑制湿润用液四处飞散。
作为方案8所涉及的发明的基板处理装置，在使例如含有抗蚀剂的显影液循环而作为湿润用液加以再利用的场合，可不必担心从排出液机构的排出口排出的含抗蚀剂显影液会污染基板。
作为方案9所涉及的发明的基板处理装置，不仅能够防止传送辊或者上部辊及传送辊受到污染，而且还能够减少湿润用液的使用量。
当使用方案10所涉及的发明的基板处理装置时，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液对基板进行处理的场合，能够防止含有抗蚀剂的显影液那样的含有固化成分的处理液对处理槽的内底面造成污染，防止基板受到污染，防止设备误动作等。并且，由于不必频繁进行处理槽的内部清扫作业，因而不会降低处理效率，不会使作业变得繁杂。
权利要求
1.一种基板处理装置，在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理，其特征是，在与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊的正下方配置有储液容器，具有向该储液容器内供给湿润用液使储液容器内始终充满湿润用液的供液机构，所说传送辊的部分外周面浸在充满所说储液容器的湿润用液中。
2.一种基板处理装置，在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理，其特征是，在靠近与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊且传送辊所支持的基板的高度位置的下方，配置有排出口与传送辊相向的排出液机构，具有向该排出液机构供给湿润用液的供液机构。
3.一种基板处理装置，在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理，其特征是，在与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊的附近且传送辊所支持的基板的高度位置的下方，配置有排出口与配置在所说传送辊的正上方与传送辊相向并与传送辊所支持并传送的基板的上表面接触的上部辊相向的排出液机构，具有向该排出液机构供给湿润用液的供液机构。
4.如权利要求3所说的基板处理装置，其特征是，所说传送辊及所说上部辊，被支持成能够在上方位置与下方位置之间移动，所说排出液机构，被配置成当传送辊及上部辊位于上方时位于传送辊所支持的基板的高度位置的下方，当传送辊及上部辊位于下方时，通过控制使所说传送辊位于与与之相比配置在基板传送方向的上游一侧的其它传送辊高度相同的位置上，并使基板不与传送辊及上部辊接触。
5.如权利要求4所说的基板处理装置，其特征是，所说传送辊及所说上部辊，被支持成能够以传送辊的中心线的延长线上的一点为中心在垂直面内摇动，从而能够在成倾斜姿态的上方位置与成水平姿态的下方位置之间移动。
6.如权利要求5所说的基板处理装置，其特征是，所说传送辊和所说上部辊为除液辊，在该除液辊与所说其它传送辊之间，装设有被支持成与除液辊在上方位置与下方位置之间一体移动的、与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的多个传送辊。
7.如权利要求2至权利要求6之一的权利要求所说的基板处理装置，其特征是，所说供液机构，以低压力向所说排出液机构供给湿润用液，该压力低到从其排出口向所说传送辊排出的湿润用液不会溅起而四处飞散的程度。
8.如权利要求2至权利要求6之一的权利要求所说的基板处理装置，其特征是，在传送基板并对基板进行处理期间，所说供液机构向排出液机构间歇性地供给湿润用液，使得在所说传送辊不与基板的下表面接触时从所说排出液机构的排出口排出湿润用液、而在传送辊与基板的下表面接触时从排出液机构的排出口不排出湿润用液。
9.如权利要求8所说的基板处理装置，其特征是，在未传送基板期间，每隔一定时间由所说供液机构向排出液机构间歇性地供给湿润用液。
10.一种基板处理装置，在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理，其特征是，向所说处理槽的倾斜的内底面排出湿润用液的排出液机构，配置在内底面的倾斜方向的上部，具有向该排出液机构供给湿润用液的供液机构。
全文摘要
提供这样一种装置，即，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合，能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方，配置有储液桶(12)，向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14)，传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。
文档编号B08B3/04GK1448994SQ0310799
公开日2003年10月15日 申请日期2003年3月28日 优先权日2002年3月28日
发明者芳谷光明, 柳泽畅生, 丰田浩司 申请人:大日本屏影象制造株式会社