吸嘴清洁冶具及其使用方法

专利名称：吸嘴清洁冶具及其使用方法
技术领域：
本发明涉及一种吸嘴清洁冶具及其使用方法，特别是有关一种利用框架托起以 防止吸嘴在清洗过程中受损的清洁冶具及其使用方法。
背景技术：
随着科技发展，各式各样的电子信息产品已普遍于日常生活中，例如移动电 话因具备有多元功能以及轻薄的体积，目前已然成为最为普遍的移动通讯装置。而 且，随着相关业者不断地扩充移动电话功能，人手一台的移动电话几乎已成为一台 便于移动的计算机，各种以往计算机才可操作的网络附加功能，已在多数的移动电 话中可进行相关操作。
上述的电子装置的内部皆经由精密组件来进行控制与运作。然而，由于这种电 子装置的体积越来越小，功能相对地也越来越复杂，使得电子装置内的电路板体积 必须随的縮小，同时也代表了电路板上的零件密度越来越高，组装这些组件的难度
亦随的提升。因此，为解决实际操作上的困境，出现了表面黏着技术(Source mounted technology, SMT)来实现高密度零件的配置与组装。
SMT技术，以锡膏为黏着接口，将表面黏着组件(Surface Mount Device, SMD) 焊在印刷电路板或基板表面。进一步说明，SMT制程是先经由送板机将印刷电路板送 入，再由锡膏印刷机在要上零件的部位印刷上锡膏。接着，经由输送带送入置件机， 置件的基本原理就是以抽真空的方式吸取零件，然后移到要置件的位置，然后把零 件放在锡膏上。随后，以热风或红外线等方式将锡膏加热到熔点溶化后降温以完成 零件与电路板间的焊接。最后，把焊接完成的电路板收起来。其中，置件机利用吸 嘴(Nozzle)来执行吸取零件的动作，且有高速机、中速机与泛用机等区别，通常由 高速机搭配小零件、中速机搭配中零件以及泛用机搭配大零件或精准度要求较高的 零件的方式来处理。
必须注意的是，上述的吸嘴的清洁程度会直接导致SMT高速机的制程发生失误，例如抛料、掉件或吸不到料等情形，而原因往往都是因为吸嘴的堵塞所造成。因 此， 一般来说工厂每天都会进行吸嘴的清洁，以降低料损。
请参考图l，其为现有技术的吸嘴清洁方法示意图。如图所示，吸嘴l由反射板 11以及直立于其上的吸管12所组成。其中，吸嘴1还具有接合件13，与所述吸管连通 并设置于反射板ll的另一面，且与SMT制程的置件机连接。以往工厂清洁吸嘴采用人 工手动的方式以通针2插入吸嘴1的吸管12，以将吸管12中的脏物清除。
然而，现有技术采用人工手动清洁吸嘴l的方式不仅容易发生操作疲劳以致损坏 吸嘴1的状况，整体效率低也是一个必然的困境。另外，现有方法并无法将吸管12 的管壁内的脏物清除千净，还要额外地付出庞大的耗材费用，例如通针一根80元， 每天损耗约1.3根。
为改善上述人工清洁吸嘴l方法所衍生的诸多问题，后续发展出利用超音波清洁 吸嘴1的方法。此一方法直接将吸嘴l放入装有清洗液的超音波清洗机中，以超音波 震荡清除吸管12管壁中的脏物。经验证发现，虽然利用超音波清洁吸嘴l的效果不错， 但超音波却会使吸嘴l的反射板ll裂开，且吸嘴l直接浸泡在清洗液中也会造成反射 板11的损耗，导致整个吸嘴都无法使用而报废。
因此，如何有效地解决在目前清洁吸嘴的过程中所面临的困难，且兼顾SMT制 程提高生产效率和降低成本等优点的前提的下，也是目前业界亟欲解决的问题。

发明内容
为克服上述已有技术的不足，本发明要解决的技术问题是提供一种吸嘴清洁冶 具及其使用方法，利用框架托起以防止吸嘴在清洗过程中受损。 为解决上述技术问题，本发明的技术方案是
一种吸嘴清洁冶具，包含
框架组，包含第一框架以及第二框架，两框架分别由多个支框条所组成，其中 间形成中空区域；
密封层，其四周边缘夹合于第一框架与第二框架间，且其中间区域透过框架组 的中空区域露出；
其中，密封层的中间区域设有孔洞，可容许吸嘴自所述密封层的第一表面插入而穿出至其第二表面。
框架组为矩形框架，且第一框架设置于第二框架上方，并具有把手设置于第一 框架其中一边的框条上。
第二框架还具有一支架，且支架的端点连接于第二框架，而将中空区域分隔成 多个区块。
第二框架与支架为一次成形的构件。
支架为十字形支架。
密封层的区块中分别具有间隔排列的多个孔洞。
第一框架也具有支架，且第一框架的支架正对着第二框架的支架。 第一框架的每一框条设有开孔。
第二框架的每一框条也设有开孔，其位置对应于第一框架的开孔，可透过开孔 以螺丝锁固两个框架。
吸嘴由板块以及直立于其上的吸管组成，当吸管插入密封层的孔洞中时，板块 平贴于密封层的第一表面。
框架组为金属框架。
密封层为橡胶。
上述吸嘴清洁冶具的使用方法，包括下列步骤 提供超音波槽； 注入清洗液至超音波槽； 将吸嘴插入密封层的孔洞；
将装载有吸嘴的清洁冶具浸入超音波槽内的清洗液中；以及 清洗吸嘴的管壁。
清洗步骤中所使用的超音波频率可控制为一定值。将清洁冶具浸入清洗液的步骤中，清洗液的液面低于框架组的上缘。 与现有技术相比，本发明的有益效果是
(1)本发明的吸嘴清洁冶具由框架组以及密封层所组成，且密封层上可设置多 个孔洞以插置多个吸嘴。由此可知，本发明的清洁冶具可一次处理多个吸嘴，在提 高工作效率的同时，也减少了人工操作的时间与人力成本。举一实施例来说明，现 有技术中以通针清除吸管中的脏物，其清洁一个吸嘴的时间约为2分钟，但利用本 发明的清洁冶具的处理时间为24秒/个。
(2)本发明将清洁冶具浸泡至超音波槽中的清洗液中，并利用超音波震荡清洗吸 管的管壁，其清洁效果较现有人工清洁的效果佳。而且，本发明中已利用框架组将 吸嘴托起，并利用密封层避免清洗液沾到吸嘴的反射板，达到减少吸嘴损耗的目的， 同时也减少了通针耗材的使用成本。


图1为现有技术吸嘴清洁方法示意图2为本发明实施例的吸嘴清洁冶具的组件爆炸图3为本发明实施例的吸嘴清洁冶具的组装示意图；以及
图4为利用本发明的吸嘴清洁冶具来清洗吸嘴的使用方法示意图。主要组件符号说明
I 吸嘴
II 反射板
12 吸管
13 接合件
2 通针
3 吸嘴清洁冶具 31 框架组
311 第一框架312 第二框架
311a、 312a 框条
311b、 312b 中空区域 3111 把手
3112、 3121 支架
3113、 3122 开孔 32 密封层 321 孔洞
4 螺丝
5 超音波槽
6 清洗液
具体实施例方式
下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式
做进一步详细的说明，但不应 以此限制本发明的保护范围。
请参考图2本发明实施例的吸嘴清洁冶具的组件爆炸图。如图所示，此吸嘴清 洁冶具至少包含框架组31以及密封层32。框架组31包含第一框架311与第二框架 312,所述两框架311、 312分别由多支框条311a、 312a所组成，其中间形成一中 空区域311b、 312b。
而密封层32的四周边缘夹合于第一框架311与第二框架312间，且其中间区域 透过框架组31的中空区域311b、 312b露出，并设有孔洞321，可容许吸嘴l自密 封层32的第一表面32a插入而穿出至其第二表面32b。在较佳实施例中，密封层 32的材质选用橡胶。
其中，框架组31为矩形框架，第一框架311设置于第二框架312上方，并具有 把手3111设置于第一框架311其中一边的框条311a上。值得注意的是，在较佳实
8施例中，第一框架311的相对两框条311a上均设置有把手3111 ,提供使用者一较 为便利的握持方式。然而，把手的设置位置、方式及数量仅以达到此目的为已足， 并不欲以上述实施例为限。另外，第一框架与第二框架为一体成形的构件，且均为 金属框架。
进一步说明，第二框架312还具有支架3121 ，且支架的端点连接于第二框架312， 而将中空区域312b分隔成多个区块。如图所示，在较佳实施例中，第二框架312 与支架3121为一次成形的构件，且支架3121为十字形支架，而将第二框架312的 中空区域312b分隔成四个区块。然而必须说明的是，设置支架3121的其中一个用 途用以支撑密封层32的中间区域，使其不易塌陷而产生缝隙，而使得清洗液渗入， 但其结构形状及其可能分隔的区块数目并不以的为限。另外，第一框架311也可设 置有一支架3112，且第一框架的支架的结构形状及设置位置对应于第二框架312 的支架3121。
请继续参考图2所示，第一框架311的每一框条311a均设有开孔3113。而第 二框架312的每一框条312a也设有开孔3122，其位置对应于第一框架311的开孔 3113，可透过开孔3113、 3122以螺丝4锁固所述两框架311、 312，并将密封层32 夹合于其中，组装图3所示。
根据以上描述，便可清楚了解各组件的结构与相对设置关系，而这些组件所构 成的清洁冶具3及其使用方法均可进一步参考图3搭配图4的示意图说明如下。
首先，请参考图3本发明实施例的吸嘴清洁冶具3的组装示意图。图3根据图 2中所介绍的各组件所组装而成，相关组件如第一框架311、第二框架312以及密 封层32的细部结构及配置方式均已说明如前文，在此不再赘述。
如图所示，在较佳实施例中，密封层32中经前述的第一框架311的支架3112 所划分出的多个区块，分别具有间隔排列的多个孔洞321，可容纳多个吸嘴l插置 于其中。其中，如前所述，吸嘴l由反射板ll以及直立于其上的吸管12而组成， 当吸管12插入密封层32的孔洞321中时，反射板11平贴于密封层32的第一表面 32a。值得注意的是，密封层32的厚度视吸嘴1的吸管12的长度而设置，可以将 密封层32的厚度设置为略短于吸管12的长度，而使其露出一截直接浸泡于清洗液 6中，或密封层32的厚度也可刚好等于吸管12的长度。再者，密封层32上的孔洞321的设置方式与数目端视使用者的需要而设置，并不以此为限。
接着，如图4所示，提供超音波槽5，并注入清洗液6至超音波槽5。接着，将 多个吸嘴1的吸管12插入密封层32的孔洞(未绘示)中，使其自所述密封层的第二 表面32b穿出，再将上述装载有吸嘴1的清洁冶具3浸入超音波槽5内的清洗液6 中。最后，开启超音波槽5的电源以超音波震荡的方式清洗吸嘴1的吸管12的管 壁。在较佳实施例中，上述清洗步骤中所使用的超音波频率可控制为一定值。另外， 必须注意的是当清洁冶具3浸入清洗液6时，清洗液6的液面低于框架组31的上 缘。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明的实施范围。即凡依 本发明申请专利范围的内容所作的等效变化与修饰，都应为本发明的技术范畴。
权利要求
1.一种吸嘴清洁冶具，其特征在于包含框架组，包含第一框架以及第二框架，所述两框架分别由多个支框条所组成，其中间形成中空区域；密封层，其四周边缘夹合于所述第一框架与所述第二框架间，且其中间区域透过所述框架组的中空区域露出；其中，所述密封层的中间区域设有至少一孔洞，可容许一吸嘴自所述密封层的第一表面插入而穿出至其第二表面。
2. 根据权利要求1所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述框架组为矩形框架，且 所述第一框架设置于所述第二框架上方，并具有至少一把手设置于所述第一框架其 中一边的所述框条上。
3. 根据权利要求1所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述第二框架还具有一支架， 且所述支架的端点连接于所述第二框架，而将所述中空区域分隔成多个区块。
4. 根据权利要求3所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述第二框架与所述支架为 一次成形的构件。
5. 根据权利要求3所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述支架为十字形支架。
6. 根据权利要求3所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述密封层的区块中分别具 有间隔排列的多个孔洞。
7. 根据权利要求3所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述第一框架也具有一支架， 且所述第一框架的支架正对着所述第二框架的支架。
8. 根据权利要求1所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述第一框架的每一框条设 有至少一个开孔。
9. 根据权利要求8所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述第二框架的每一框条也 设有一个开孔，其位置对应于所述第一框架的所述开孔，可透过所述开孔以螺丝锁 固所述两个框架。
10. 根据权利要求1所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述吸嘴由一板块以及直立于其上的一吸管组成，当所述吸管插入所述密封层的孔洞中时，所述板块平贴于所 述密封层的第一表面。
11. 根据权利要求1所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述框架组为金属框架。
12. 根据权利要求1所述的吸嘴清洁冶具，其特征在于所述密封层为橡胶。
13. 上述权利要求1 12所述的吸嘴清洁冶具的使用方法，其特征在于包括下列步 骤提供一超音波槽； 注入清洗液至所述超音波槽； 将所述吸嘴插入所述密封层的孔洞；将装载有所述吸嘴的清洁冶具浸入所述超音波槽内的清洗液中；以及 清洗所述吸嘴的管壁。
14. 根据权利要求13所述的吸嘴清洁冶具的使用方法，其特征在于所述清洗步骤 中所使用的超音波频率可控制为一定值。
15. 根据权利要求13所述的吸嘴清洁冶具的使用方法，其特征在于将所述清洁冶 具浸入清洗液的步骤中，所述清洗液的液面低于所述框架组的上缘。
全文摘要
本发明公开了一种吸嘴清洁冶具，包含框架组，包含第一框架以及第二框架，所述两框架分别由多个支框条所组成，其中间形成中空区域；密封层，其四周边缘夹合于所述第一框架与所述第二框架间，且其中间区域透过所述框架组的中空区域露出；其中，所述密封层的中间区域设有孔洞，可容许吸嘴自所述密封层的第一表面插入而穿出至其第二表面。本发明还公开了一种吸嘴清洁冶具的使用方法。利用本发明的清洁冶具的处理时间大大减少。而且，本发明中已利用框架组将吸嘴托起，并利用密封层避免清洗液沾到吸嘴的反射板，达到减少吸嘴损耗的目的，同时也减少了通针耗材的使用成本。
文档编号B08B3/12GK101658849SQ200810042108
公开日2010年3月3日 申请日期2008年8月27日 优先权日2008年8月27日
发明者周飞舟 申请人:英华达(上海)科技有限公司