水基元件超声清洗剂的制作方法

文档序号:1487611阅读:274来源:国知局
专利名称:水基元件超声清洗剂的制作方法
技术领域
本发明属于清洗剂技术领域,特别涉及水基元件超声清洗剂。
背景技术
电子元件采用松香型助焊剂焊接后,松香残留的存在将影响元 件的功能测试或是装配困难,因此元件焊接后的残留松香需要进行 超声清洗,目前市面上采用的清洗剂为三氯乙烷或三氯乙烯。
用三氯乙烷进行清洗,三氯乙烷本身不具有可燃性,溶解能力 强,适用于超声制程清洗,是非常好的松香清洗剂,但是1987年关 于消耗臭氧层物质的《蒙特利尔议定书》规定要淘汰的ODS物质中, 在我国生产和消费的ODS包括六类94种,这六类物质是CFSs、 哈龙、四氯化碳、1, 1, l-三氯乙烷、HCFC和甲基溴,但是由于三 氯乙垸类清洗剂使用效果非常好,所以至今仍有生产和使用,09年 凡出口欧洲的清洗剂必须强制执行《蒙特利尔议定书》,所以三氯乙 烷类清洗剂必然被淘汰。
三氯乙烯为无色液体。由于它的溶脂性能好,是当前工业上应 用较广的有机溶剂之一,常被作为电子行业清洗线路板,五金行业 清洗金属材料的良好清洗剂使用。但是三氯乙烯挥发性强,对人体 有害;三氯乙烯可经呼吸道、消化道和皮肤吸收。
三氯乙烯职业危害以严重的过敏反应最为常见,患者多为接触三氯乙烯后30天左右发病,发病后来势凶猛,常常会致残、致死。
发明表现 一般有发热、严重皮肤损害和肝损害(肝昏迷),亦可累 及脑神经、消化道、心脏和眼睛等。皮肤损害表现为剥脱性皮炎、 重症多形红斑或大疱性表皮坏死松解症。该病呈散发,约有4%的人 对三氯乙烯高度敏感。该病病程长,难以治愈,常因肝昏迷、合并 感染而死亡。
虽然三氯乙垸、三氯乙烯对松香残留都有很好的溶解性,但由 于对环境,对人的危害,必需进行消减。

发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足研发对环境友好,对 人体无害的用于超声清洗制程的水基清洗剂。
本发明的目的是这样实现的本发明通过如下重量百分比的原 料组成,以简单的制备工艺得到清洗剂产品。
主要成份 含量
水 70%~830/0
二甲基甲酰胺 10%~20%
烷氧基醚胺氧化物 6°/。 8%
其它添加剂 1%~2% 本发明还可以通过下列配方组成
主要成份 含量
水 75%~80%
二甲基甲酰胺 15%~18%垸氧基醚胺氧化物 7%
其它添加剂 1.5%
其中垸氧基醚胺氧化物为十二烷基二甲基氧化胺。 其中其它添加剂为壬基酚聚氧乙烯醚。 本发明有益效果为
通过水的改性使水可以溶解松香,达到清洗松香的目的,通过 特殊的添加剂处理元件表面,使元件清洗后保存长时间不会发生氧 化现象, 一如刚清洗的状态,此类清洗剂由于不含破坏臭氧层的物 质,不会破坏环境,不含易挥发溶剂,在超声清洗制程中不存在危 险。
具体实施例方式
下面列举本发明的较佳实施例,这些实施例可以更好地理解本 发明,但不以任何形式限制本发明。 实施例1:
将以下重量百分比的原料依次加入反应容器中,搅拌均匀即得 本发明产品。
主要成份 含量
水 83% 二甲基甲酰胺 10% 十二烷基二甲基氧化胺6%
壬基酚聚氧乙烯醚 1%
实施例2:将以下重量百分比的原料依次加入反应容器中,搅拌均匀即得 本发明产品。
主要成份 含量
水 70%
二甲基甲酰胺 20% 十二烷基二甲基氧化胺8% 壬基酚聚氧乙烯醚 2% 实施例3:
将以下重量百分比的原料依次加入反应容器中,搅拌均匀即得 本发明产品。
主要成份 含量
水 76.5%
二甲基甲酰胺 15%
十二烷基二甲基氧化胺7%
壬基酚聚氧乙烯醚 1.5% 以上所述仅是本发明的较佳实施方式,故凡依本发明专利申请 范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本 发明专利申请范围内。
权利要求
1、水基元件超声清洗剂,其特征在于由如下重量百分比的原料组成水 70%~83%二甲基甲酰胺10%~20%烷氧基醚胺氧化物6%~8%其它添加剂 1%~2%其中,烷氧基醚胺氧化物为十二烷基二甲基氧化胺;其中,其它添加剂为壬基酚聚氧乙烯醚。
2、 根据权利要求1所述的水基元件超声清洗剂,其特征在于 由如下重量百分比的原料组成-水 75°/。~80%二甲基甲酰胺 15%~18%烷氧基醚胺氧化物 7%其它添加剂 1.5% 。
3、 根据权利要求2所述的水基元件超声清洗剂,其特征在于:所述的烷氧基醚胺氧化物为十二垸基二甲基氧化胺。
4、 根据权利要求2所述的水基元件超声清洗剂,其特征在于:所述的其它添加剂为壬基酚聚氧乙烯醚。
全文摘要
本发明属于清洗剂技术领域,尤其涉及水基元件超声清洗剂,它由如下重量百分比的原料组成水70%~83%、二甲基甲酰胺10%~20%、烷氧基醚胺氧化物6%~8%、其它添加剂1%~2%;本发明产品通过水的改性使水可以溶解松香,达到清洗松香的目的,通过特殊的添加剂处理元件表面,使元件清洗后保存长时间不会发生氧化现象,一如刚清洗的状态,此类清洗剂由于不含破坏臭氧层的物质,不会破坏环境,不含易挥发溶剂,在超声清洗制程中不存在危险。
文档编号C11D7/22GK101538515SQ20091003859
公开日2009年9月23日 申请日期2009年4月14日 优先权日2009年4月14日
发明者钟立新 申请人:东莞优诺电子焊接材料有限公司
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