专利名称：防断电保护的硅片清洗机的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体清洗技术领域，特别涉及一种防断电保护的硅片清洗机。
背景技术：
在半导体行业，需要对硅片后道エ艺铜互连阶段后，多孔性介质材料进行超精细清洗，Chuck (卡盘)夹持的硅片高速旋转进行清洗时在エ艺腔室内完成，清洗包括药液漂洗、超纯水冲洗和凡甩干等エ艺。在清洗的过程为了实现对化学药液的回收利用，エ艺腔室采用分层设计，Up/down单元带动Chuck至各エ艺位置，由伺服电机带动Chuck做高速旋转运动，通过离心カ将化学药液甩到专用的回收槽里面。为了防止化学液向下发生滴漏，需要在エ艺腔室底背部向上吹N2，从而在硅片底部形成ー层自下而上的气体保护膜。一般情况下，如果设备突然发生断电，化学液将会残留在硅片上面，此时如果硅片底部N2保护气发生中断，液体将可能通过硅片边缘滴漏到エ艺腔室里面，严重污染清洗环境的清洁度。整个 设备如果采用UPS断电保护，成本较高。
发明内容
(一)要解决的技术问题本发明要解决的技术问题是，针对现有技术的不足，提供一种防断电保护的硅片清洗机，对N2管路进行双通道设计，从而保证整个清洗过程N2通道始終处于畅通状态。(ニ)技术方案本发明提供一种防断电保护的硅片清洗机，包括エ艺腔室和位于エ艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常开N2管路和常闭N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。其中，当所述常开波纹密封阀打开时，所述闭波纹密封阀关闭；当所述常开波纹密封阀关闭时，所述闭波纹密封阀打开。其中，所述常开波纹密封阀和常闭波纹密封阀通过电磁阀岛气动控制。其中，防断电保护的硅片清洗机还包括位于常闭波纹密封阀前端管路上的压カ针阀。其中，防断电保护的硅片清洗机还包括位于常闭波纹密封阀后端管路上的单向阀。其中，防断电保护的硅片清洗机还包括位于常开波纹密封阀后端管路上的超声波流量计和过滤器，所述超声波流量计位于所述过滤器的前端管路上。(三)有益效果本发明提供的防断电保护的硅片清洗机，采用双通道互锁并联设计，当设备主电源发生断电时候，两个互锁的波纹密封阀通过相反控制动作，使N2通路不会因为断电而发生中断，保证清洗机环境清洁。
图I为本发明防断电保护的硅片清洗机管路结构示意图；图2为本发明防断电保护的硅片清洗机的エ艺腔室结构示意图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式
作进ー步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。如图I所示，本发明提供一种防断电保护的硅片清洗机，包括エ艺腔室8和位于エ艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常开N2管路9和常闭N2管路10，所述常开N2管路9与常闭N2管路10并联设置，所述常开N2管路9上设有常开波纹密封阀4，所述常闭N2管路10上设有常闭波纹密封阀3。当所述常开波纹密封阀4打开时，所述闭波纹密封阀3关闭，当所述常开波纹密封阀4关闭时，所述闭波纹密封阀3打开。所述常开波纹密封阀4 和常闭波纹密封阀3通过电磁阀岛气动控制。防断电保护的硅片清洗机还包括位于常闭波纹密封阀3前端管路上的压カ针阀2、位于常闭波纹密封阀3后端管路上的单向阀7以及位于常开波纹密封阀4后端管路上的超声波流量计5和过滤器6，所述超声波流量计5位于所述过滤器6的前端管路上。工作原理设备启动后，通过高清度数字压カ开关1，将系统设定到所需要的气体压力，通过电磁阀岛控制的干洁气源(CDA)气体对常开波纹密封阀4和常闭波纹密封阀3进行气动控制，常开波纹密封阀4打开构成常开N2管路9 ;常闭波纹密封阀3打开构成常闭N2管路10，在常闭波纹密封阀3前端的管路上设置ー个可以手动调节的压カ针阀2，设备启动后手动打开压カ针阀2，保证断电时候N2能够顺利通过。所述常闭波纹密封阀3由开放切换到关闭状态，常闭N2管路10断开；常开波纹密封阀4则由关闭状态切換到打开状态，常开N2管路9保持畅通，N2经过超声波流量计5和过滤器6，进入エ艺腔室8。如图2所示，所述エ艺腔室内气道采用变径、流线型设计，在エ艺腔室8顶部硅片正下方边缘地方开设有均匀间隔的斜圆孔，保证气流有足够的压カ从斜孔喷出，在硅片底部形成一层自底向上流动的N2保护膜。以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
权利要求
1.一种防断电保护的硅片清洗机，其特征在于，包括エ艺腔室和位于エ艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常开N2管路和常闭N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。
2.如权利要求I所述的硅片清洗机，其特征在干，当所述常开波纹密封阀打开时，所述闭波纹密封阀关闭；当所述常开波纹密封阀关闭时，所述闭波纹密封阀打开。
3.如权利要求I或2所述的硅片清洗机，其特征在于，所述常开波纹密封阀和常闭波纹密封阀通过电磁阀岛气动控制。
4.如权利要求I所述的硅片清洗机，其特征在干，防断电保护的硅片清洗机还包括 位于常闭波纹密封阀前端管路上的压カ针阀。
5.如权利要求I所述的硅片清洗机，其特征在干，防断电保护的硅片清洗机还包括 位于常闭波纹密封阀后端管路上的单向阀。
6.如权利要求I所述的硅片清洗机，其特征在干，防断电保护的硅片清洗机还包括位于常开波纹密封阀后端管路上的超声波流量计和过滤器，所述超声波流量计位于所述过滤器的前端管路上。
全文摘要
本发明公开了一种防断电保护的硅片清洗机，包括工艺腔室和位于工艺腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常开N2管路和常闭N2管路，所述常开N2管路与常闭N2管路并联设置，所述常开N2管路上设有常开波纹密封阀，所述常闭N2管路上设有常闭波纹密封阀。本发明提供的防断电保护的硅片清洗机，采用双通道互锁并联设计，当设备主电源发生断电时候，两个互锁的波纹密封阀通过相反控制动作，使N2通路不会因为断电而发生中断，保证清洗机环境清洁。
文档编号B08B3/00GK102861745SQ20121034835
公开日2013年1月9日 申请日期2012年9月18日 优先权日2012年9月18日
发明者张绍国, 何金群, 裴立坤, 吴仪, 王好肖 申请人:北京七星华创电子股份有限公司