专利名称：擦拭机构的制作方法
技术领域：
本实用新型是有关于一种擦拭机构，且特别是有关于一种较节省能源及可同时擦拭多个工件的擦拭机构。
背景技术：
随着电子资讯产品快速的发展，电路板的需求亦大幅地成长。在回焊制程中，为了增强电子元件与电路板上的焊垫的焊接效果，通常会在电路板的焊垫与电子元件之间加入助焊剂(flux)，例如:松香或活化松香等。但由于加热挥发后，助焊剂内的物质可能会残留而影响焊接效果，例如造成空焊等状况。为解决上述所指助焊剂内的物质残留而影响焊接品质的问题，目前有采用人工擦拭的方式来进行清洁，然而这种方法长期下来不但浪费了许多人力、时间的成本，并且容易因为不同擦拭方式、不同人员操作模式等人为因素的不确定性，而无法维持稳定且优良的焊接品质。为了避免上述状况，亦有部分产线是通过机械的方式进行清洁，将沾有溶剂的擦拭机构整个下移至与电路板接触之后在电路板上反复移动以进行电路板的清洁。然而，在电路板的清洁制程中，需要移动整个擦拭机构，相当耗费电力与空间。
实用新型内容本实用新型提供一种擦拭机构，其较为节省能源及空间。本实用新型提出一种擦拭机构，用以擦拭位于一擦拭区的一工件。擦拭机构包括一本体及一擦拭头。本体包括一输送装置，输送装置包括一放卷单元、一收卷单元及一擦拭巾，擦拭巾自放卷单元放出经过擦拭区且卷入收卷单元。擦拭头沿相互垂直的一第一轴线与一第二轴线可移动地配置于本体。擦拭头相对于本体沿第一轴线下移以使擦拭巾抵至工件并沿第二轴线进行往复运动以擦拭工件。在本实用新型的一实施例中，上述的本体包括一对移动件,这对移动件位于该擦拭巾于擦拭区的路径上且可沿第二轴线移动，以撑开擦拭巾或使擦拭巾垂下。在本实用新型的一实施例中，擦拭机构更包括位于同一水平面且相互垂直的一第一轨道及一第二轨道，本体适于沿第一轨道及第二轨道移动以使擦拭头移至擦拭区的上方。在本实用新型的一实施例中，第一轨道平行于第二轴线方向，第二轨道平行于第三轴线方向，第三轴线垂直于第一轴线与第二轴线。在本实用新型的一实施例中，擦拭机构更包括一第一驱动单元，用以驱动本体沿第一轨道与第二轨道移动。在本实用新型的一实施例中，擦拭机构更包括一第二驱动单元，用以驱动擦拭头相对于本体沿第一轴线与第二轴线移动。在本实用新型的一实施例中，上述的工件设置于一承载单元上，承载单元适于移动且顶升工件至擦拭区。在本实用新型的一实施例中，上述的承载单元受一第三驱动单元驱动而移动或顶升工件。在本实用新型的一实施例中，上述的擦拭头适于相对于本体转动，以改变第二轴线的方向。在本实用新型的一实施例中，擦拭机构更包括一液体供应单元，适于喷洒一液体至擦拭巾。在本实用新型的一实施例中，上述的工件为一电路板。基于上述，本实用新型的擦拭机构不需将整个本体全部下移来对工件进行擦拭，由于擦拭头可相对于本体沿第一轴线与第二轴线移动，操作时只要将擦拭头相对于本体沿第一轴线下移，并沿第二轴线进行往复运动以擦拭工件即可，相较于传统，本实用新型的擦拭机构除了较为节省操作的能源以及运作空间之外，本体上亦可设置多个擦拭头，以同时对多个工件进行清洁。此外，本实用新型的擦拭机构的擦拭头可相对于本体转动，以改变第二轴线的方向，若承载单元上的工件发生偏移的状况，擦拭头可对应地调整方向以进行擦拭。为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。
图1是依照本实用新型的一实施例的一种擦拭机构的示意图。
图2至图4是图1的擦拭机构作动的示意图。主要元件符号说明W:擦拭区Al:第一轴线A2:第二轴线A3:第二轴线10:工件20:承载单元30:第三驱动单元100:擦拭机构110:本体111:输送装置112:放卷单元114:收卷单元116:擦拭巾118:移动件120:擦拭头130:第一轨道140:第二轨道[0039]150:第一驱动单元160:第二驱动单元170:液体供应单元
具体实施方式
图1是依照本实用新型的一实施例的一种擦拭机构的示意图。请参阅图1，本实施例的擦拭机构100用以擦拭位于一擦拭区W的一工件10。在本实施例中，工件10为一电路板，但工件10的种类不以此为限制。本实施例的擦拭机构100包括一本体110、一擦拭头120、一第一轨道130、一第二轨道140、一第一驱动单元150、一第二驱动单元160及一液体供应单元170。本体110包括一输送装置111，输送装置111包括一放卷单元112、一收卷单元114及一擦拭巾116。擦拭巾116自放卷单元112放出经过擦拭区W且卷入收卷单元114。擦拭头120沿相互垂直的一第一轴线Al与一第二轴线A2可移动地配置于本体110。如图1所示，本实施例的第一轴线Al的方向为垂直方向，第二轴线A2的方向为往左右水平移动的方向，但在其他实施例中第一轴线Al与第二轴线A2的方向不以此为限制。第一驱动单元150用以驱动本体110沿第一轨道130与第二轨道140移动，如图1所示，第一轨道130与第二轨道140位于同一水平面且相互垂直地设置，在本实施例中，第一轨道130平行于第二轴线A2方向，第二轨道140平行于一第三轴线A3方向，其中第三轴线A3垂直于第一轴线Al与第二轴线A2，也就是图面上的前后方向。第一驱动单元150驱动本体110沿第一轨道130与第二轨道140移动以使擦拭头120移至擦拭区W的上方。第二驱动单元160用以驱动擦拭头120相对于本体110沿第一轴线Al(垂直方向)与第二轴线A2 (左右水平方向)移动。在本实施例中，第一驱动单元150与第二驱动单元160可分别为汽缸，但第一驱动单元150与第二驱动单元160的种类并不以此为限制。液体供应单元170用来喷洒一液体(例如是清洁剂)至擦拭巾116，以使擦拭巾116接触工件10时可去除工件上杂质。此外，如图1所示,工件10设置于一承载单元20上,在本实施例中，承载单元20受一第三驱动单元30驱动以移动工件10至本体110的下方后再将工件10顶升至擦拭区W。在本实施例中，第三驱动单元30可为汽缸，但第三驱动单元30的种类并不以此为限制。图2至图4是图1的擦拭机构作动的示意图。请先参阅图2，擦拭头120与工件10分别为在擦拭巾116的上下两侧。在本实施例中，本体110包括一对移动件118，这对移动件118位于该擦拭巾116于擦拭区W的路径上，如图2所示，一开始这对移动件118之间的距离较远以将擦拭巾116撑开拉平，以避免擦拭巾116被其他机构卷入或脱落。当要进行工件10的擦拭作业时，如图3所示，这对移动件118可沿第二轴线A2相互靠近，此时擦拭巾116不接触到这对移动件118而呈现放松下垂的状态。再来，如图4所示，擦拭头120相对于本体110沿第一轴线Al向下移动以隔着擦拭巾116对工件10沿着第二轴线A2进行往复运动，以擦拭工件10。擦拭完毕之后，擦拭头120沿第一轴线Al向上移动复位，使这对移动件118往远离彼此的方向移动以回到一开始的位置，此时，擦拭巾116再度被撑开拉平，被使用过的擦拭巾116往收卷单元114的方向转动而卷入收卷单元114中,连带地使未使用的擦拭巾116放出于放卷单元112且移动至擦拭区W的位置以等待其后的擦拭动作。第三驱动单元30再度移动承载单元20而使得工件10移出于擦拭区W。本实施例的擦拭机构100不需将整个本体110全部下移来对工件10进行擦拭，由于擦拭头120可相对于本体110沿第一轴线Al与第二轴线A2移动，操作时只要将擦拭头120相对于本体110沿第一轴线Al下移，并沿第二轴线A2进行往复运动以擦拭工件10即可。相较于传统将整个本体110全部下移需要提供较高的能源以及运作空间，本实施例的擦拭机构100除了较为节省操作的能源及空间之外，在本实施例中，虽本体110上仅配置一个擦拭头120，但在其他实施例中，本体110上亦可设置多个擦拭头120，以同时对多个工件10进行清洁。并且，这些擦拭头120之间的相对位置可配合工件10摆放的位置来配置，擦拭头120的数量并不以此为限制。此外，由于承载单元20上的工件10若在输送的过程中发生偏移的状况，也就是工件10虽仍维持水平但工件10的边缘并非与第二轴线A2与第三轴线A3平行。为了避免工件10偏移时，擦拭头120进行往复运动不能准确地对应到工件10上需要被擦拭的位置。在本实施例中，擦拭头120可相对于本体110略微转动至符合工件10上需要被擦拭位置的方向，也就是说，转动后擦拭头120仍然呈水平，但擦拭头120所沿第二轴线A2的运动方向可对应地被改变，例如第二轴线A2的方向由原本的左右方向变为左上右下的方向等。因此，若本体110上配置有多个擦拭头120，这些擦拭头120可分别相对于本体110转动，而在运作时分别依据所需沿着不同方向移动。综上所述，本实用新型的擦拭机构不需将整个本体全部下移来对工件进行擦拭，由于擦拭头可相对于本体沿第一轴线与第二轴线移动，操作时只要将擦拭头相对于本体沿第一轴线下移，并沿第二轴线进行往复运动以擦拭工件即可，相较于传统，本实用新型的擦拭机构除了较为节省操作的能源以及运作空间之外，本体上亦可设置多个擦拭头，以同时对多个工件进行清洁。此外，本实用新型的擦拭机构的擦拭头可相对于本体转动，以改变第二轴线的方向，若承载单元上的工件发生偏移的状况，擦拭头可对应地调整方向以进行擦拭。虽然本实用新型已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本实用新型的保护范围当视后附的权利要求所界定者为准。
权利要求1.一种擦拭机构，用以擦拭位于一擦拭区的一工件，其特征在于，该擦拭机构包括: 一本体，包括一输送装置，该输送装置包括一放卷单元、一收卷单元及一擦拭巾，该擦拭巾自该放卷单元放出经过该擦拭区且卷入该收卷单元；以及 一擦拭头，沿相互垂直的一第一轴线与一第二轴线可移动地配置于该本体，其中: 该擦拭头相对于该本体沿该第一轴线下移以使该擦拭巾抵至该工件并沿该第二轴线进行往复运动以擦拭该工件。
2.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，该本体包括一对移动件，该对移动件位于该擦拭巾于该擦拭区的路径上且可沿该第二轴线移动，以撑开该擦拭巾或使该擦拭巾垂下。
3.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，更包括位于同一水平面且相互垂直的一第一轨道及一第二轨道，该本体适于沿该第一轨道及该第二轨道移动以使该擦拭头移至该擦拭区的上方。
4.如权利要求3所述的擦拭机构，其特征在于，该第一轨道平行于该第二轴线方向，该第二轨道平行于一第三轴线方向，该第三轴线垂直于该第一轴线与该第二轴线。
5.如权利要求3所述的擦拭机构，其特征在于，更包括一第一驱动单元，用以驱动该本体沿该第一轨道与该第二轨道移动。
6.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，更包括一第二驱动单元，用以驱动该擦拭头相对于该本体沿该第一轴线与该第二轴线移动。
7.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，该工件设置于一承载单元上，该承载单元适于移动且顶升该工件至该擦拭区。
8.如权利要求7所述的擦拭机构，其特征在于，该承载单元受一第三驱动单元驱动而移动或顶升该工件。
9.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，该擦拭头适于相对于该本体转动，以改变该第二轴线的方向。
10.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，更包括一液体供应单元，适于喷洒一液体至该擦拭巾。
11.如权利要求1所述的擦拭机构，其特征在于，其特征在于，该工件为一电路板。
专利摘要一种擦拭机构，用以擦拭位于一擦拭区的一工件。擦拭机构包括一本体及一擦拭头。本体包括一输送装置，输送装置包括一放卷单元、一收卷单元及一擦拭巾，擦拭巾自放卷单元放出经过擦拭区且卷入收卷单元。擦拭头沿相互垂直的一第一轴线与一第二轴线可移动地配置于本体。擦拭头相对于本体沿第一轴线下移以使擦拭巾抵至工件并沿第二轴线进行往复运动以擦拭工件。相较于传统，本实用新型的擦拭机构除了较为节省操作的能源以及运作空间之外，本体上亦可设置多个擦拭头，以同时对多个电路板进行清洁。此外，本实用新型的擦拭机构的擦拭头可相对于本体转动。
文档编号B08B1/00GK203061457SQ20122070798
公开日2013年7月17日 申请日期2012年12月19日 优先权日2012年12月19日
发明者陈忠贤 申请人:金宝电子(中国)有限公司, 金宝电子工业股份有限公司