Hdd用玻璃基板的制造方法、hdd用玻璃基板以及hdd用磁记录介质的制作方法

Hdd用玻璃基板的制造方法、hdd用玻璃基板以及hdd用磁记录介质的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种HDD用玻璃基板的制造方法，使清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部不会残留缺陷。HDD用玻璃基板的制造方法包括用清洗液(31)清洗玻璃基板(50)的清洗工序，在清洗工序中，针对玻璃基板(50)使清洗液(31)沿着与玻璃基板(50)的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便进行清洗。在清洗槽(30)的上下设置清洗液供给排出装置(32、33)，使清洗液(31)在清洗槽(30)内，相对于玻璃基板(50)沿着上下方向中的从下向上的1个方向和从上向下的1个方向依次切换流动。
【专利说明】HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质。
【背景技术】
[0002]近年来,伴随着在HDD (hard disk drive:硬盘驱动器)用磁记录介质中存储的信息的高密度化，磁头的悬浮高度日益减小，即使是数百nm的附着物也会引起头碰撞(headcrash)或热粗糙(thermal asperity)。尤其在搭载了 DFH(dynamic flying height:动态飞行高度)机构的磁头的情况下，磁头的悬浮高度微小至数nm，从而强烈要求HDD用磁记录介质的清洁性。此外，伴随着记录区域的扩大，记录区域将扩展到记录介质的最外周部。因此，要求直至记录介质的最外周部为止的高清洁性。
[0003]用于HDD用磁记录介质的基板的HDD用玻璃基板，在其制造过程中，在检查工序之前被用清洗液清洗。在该清洗工序中，玻璃基板例如在收容于称为清洗支架的专用容器内的状态下被放入清洗槽，在清洗槽内用清洗液冲洗。
[0004]如专利文献I的记载所述，清洗支架的结构为:多个支撑用杆以指定的间隔相互平行地架设在一对对置壁之间。在各支撑用杆的周面，沿着周方向形成有凹槽。玻璃基板的两侧端部和下端部被3根支撑用杆支撑而被嵌入凹槽，以竖立的状态收容于清洗支架。清洗后，玻璃基板保持着收容于清洗支架的状态被加以干燥。
[0005]先行技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本专利公开公报特开2009-87472号
【发明内容】

[0008]但是，如果在清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部留下缺陷(defect)，则在玻璃基板的主表面上形成记录层而制成磁记录介质时，记录区域会出现障碍。
[0009]因此，本发明的目的在于提供一种在清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部不会残留缺陷的HDD用玻璃基板的制造方法、利用该制造方法制得的HDD用玻璃基板、以及利用了该HDD用玻璃基板的HDD用磁记录介质。
[0010]本发明的一个方面涉及HDD用玻璃基板的制造方法，该制造方法包括用清洗液清洗玻璃基板的清洗工序，在清洗工序中，针对玻璃基板使清洗液沿着与玻璃基板的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动以便进行清洗。
[0011]本发明的另一个方面涉及利用上述的HDD用玻璃基板的制造方法制得的HDD用玻
璃基板。
[0012]本发明的另外一个方面涉及在上述的HDD用玻璃基板的主表面上形成记录层而制得的HDD用磁记录介质。[0013]上述的内容以及其他的本发明的目的、特征及优点从以下详细的记载和附图中，将显而易见。
【专利附图】

【附图说明】
[0014]图1是本发明的实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的立体图。
[0015]图2是本发明的实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的制造工序图。
[0016]图3是表示二次抛光工序中所使用的双面抛光机的主要部结构的概略侧视图。
[0017]图4是表示最终清洗工序之后在玻璃基板的外周端部发现的缺陷的一例的图纸代用照片。
[0018]图5是最终清洗工序中所使用的清洗支架的立体图。
[0019]图6是上述清洗支架的侧视图。
[0020]图7是上述清洗支架的主视图。
[0021]图8是表示在最终清洗工序中相对于玻璃基板清洗液流动的方向的一例的说明图。
[0022]图9是表示在最终清洗工序中相对于玻璃基板清洗液流动的方向的另一例的说明图。
【具体实施方式】
[0023]下面，参照附图来说明本发明的实施方式。但本发明并不限定于该实施方式。
[0024]以往，在清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部会残留缺陷，因此，存在在玻璃基板的主表面上形成记录层而制成磁记录介质时，记录区域会出现障碍的问题。
[0025]本发明人通过发现如下内容而创造了本发明，S卩:以往，由于在清洗槽内清洗液只沿I个方向流动，因此，在玻璃基板的外周端部产生被遮在支撑用杆的后面(相对于清洗液的液流为后面)的部分，该部分成为清洗不到的部分，该清洗不到的部分在玻璃基板的外周端部成为缺陷而残留下来。
[0026]另外，本实施方式在玻璃基板的清洗工序等中，当提到上、下、左、右、前、后、横等方向时，只要没有特别预先说明，就是指相对于以玻璃基板的主表面与重力方向平行的方式将所述玻璃基板竖立时的所述主表面而言的方向。
[0027]〈HDD用玻璃基板的制造方法>
[0028]参照图1所示的玻璃基板50和图2所示的制造工序图来说明HDD用玻璃基板的制造方法。
[0029]在本实施方式中，HDD用玻璃基板50经过圆盘加工工序、研磨(lapping)工序、一次抛光(polishing)(粗抛光)工序、二次抛光(精密抛光)工序、化学强化工序、最终清洗工序、检查工序等而被制成。
[0030]玻璃基板50所使用的玻璃原材料由以二氧化硅(SiO2)为主成分的玻璃组合物构成。玻璃组合物可以包含镁、钙及/或铈，也可以不包含。具有代表性的玻璃组合物例如包含 Si02、Al2O3' B2O3> Li20、Na2O, K2O, Mg。、CaO、BaO、SrO, ZnO 等。
[0031][圆盘加工工序]
[0032]在圆盘加工工序中、通过使熔融的玻璃原材料流入模具并进行冲压成形来制作圆盘状的玻璃基板(将其称为坯料)。此时的玻璃基板的大小例如外径为2.5英寸、1.8英寸、I英寸、0.8英寸等、板厚为2mm、lmm、0.8mm、0.63mm等。在所得到的玻璃基板的中心部用例如金刚石芯钻等形成圆孔，制成环形的玻璃基板。
[0033][研磨工序]
[0034]研磨工序包括第I研磨工序和第2研磨工序。在第I研磨工序中，研磨玻璃基板的表面和背面两面，对玻璃基板的整体形状即玻璃基板的平行度、平坦度以及厚度等进行预调。在第2研磨工序中，接着第I研磨工序再次研磨玻璃基板的表面背面两面，对玻璃基板的整体形状即玻璃基板的平行度、平坦度以及厚度等进行进一步微调。在研磨工序中，使用具备粘贴有例如金刚石丸(diamond pellet)的上下平板的双面研磨机(grindingmachine)。
[0035][一次抛光工序]
[0036]在一次抛光工序中，对玻璃基板的表面和背面两面进行粗抛光，以便在接下来的二次抛光工序中能高效地获得最终所要求的表面粗糙度。在该一次抛光工序中，使用具备粘贴有例如作为抛光垫的聚氨酯泡沫垫的上下一对平板的双面抛光机(polishingmachine)。作为抛光液，例如含有二氧化铈作为磨粒的泥浆(slurry)态的抛光液被加以使用。但并非限定于此。
[0037][ 二次抛光工序]
[0038]在二次抛光工序中，接着一次抛光工序对玻璃基板的表面和背面两面进行精密抛光，以便获得最终所要求的表面粗糙度。在该二次抛光工序中，使用如图3所示能够同时对玻璃基板50的表面和背面两面进行抛光的双面抛光机10。
[0039]双面抛光机10具备相互平行地上下隔开距离而配置的沿彼此相反的方向可旋转的圆板状的上平板11和下平板12。该上下一对的平板11、12的各对置面粘贴有用于抛光玻璃基板的表面和背面两面的抛光垫(本实施方式中为聚氨酯制的绒面革(suede)垫)P。在平板11、12之间配置多个可旋转的支架13，多个玻璃基板50被嵌入安装在各支架13中。支架13在支撑着玻璃基板50的状态下，一边自转一边相对于平板11、12的旋转中心公转。针对正在进行这种动作的上下平板11、12以及支架13，将含有磨粒(本实施方式中为胶体硅(colloidal silica))的泥浆状的抛光液分别提供到上平板11的抛光垫P与玻璃基板50之间以及下平板12的抛光垫P与玻璃基板50之间，由此对玻璃基板50的表面和背面两面进行精密抛光。
[0040]另外,在图3中,符号14为抛光液回收装置,符号15为抛光液储存罐,符号16为抛光液供应管，符号17为润滑液储存罐，符号18为润滑液供应管。
[0041][化学强化工序]
[0042]在化学强化工序中，在玻璃基板的表面形成化学强化层。例如，通过将玻璃基板浸溃于存在钠离子或钾离子的化学强化处理液中，玻璃基板的表层所存在的锂离子与化学强化处理液中的钠离子进行置换、或者钠离子与钾离子进行置换，使玻璃基板的表层成为化学强化层。化学强化层产生压缩应力。通过形成这样的化学强化层，可提高最终获得的玻璃基板的耐冲击性、耐振动性以及耐热性等。
[0043][最终清洗工序]
[0044](总论)[0045]在最终清洗工序中，将附着在玻璃基板上的异物用例如包含有过滤后的纯水、离子交换水、超纯水、酸性洗涤剂、中性洗涤剂、碱性洗涤剂、有机溶剂、界面活性剂等各种清洗液进行清洗而去除。然后，对玻璃基板进行干燥。
[0046](以往的最终清洗工序)
[0047]以往，将玻璃基板收容于清洗支架，并以此状态放入清洗槽，通过使清洗液在清洗槽内流动对玻璃基板进行清洗。此时，由于在清洗槽内清洗液只沿I个方向(例如上下方向中的从下向上的I个方向)流动，因此，存在如下问题，即在玻璃基板的外周端部产生被遮在清洗支架的支撑用杆的后面(相对于清洗液的液流为后面)的部分，该部分成为清洗不到的部分，该清洗不到的部分如图4所示在玻璃基板的外周端部成为缺陷而残留下来。
[0048](本实施方式的最终清洗工序)
[0049]在本实施方式中，使清洗液针对玻璃基板50沿着与玻璃基板50的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便清洗玻璃基板50。
[0050]如图5至图7所示，清洗支架20具有多个(图例中为5个)支撑用杆23以指定的间隔相互平行地架设在前后一对对置壁21、22之间的结构。在各支撑用杆23的周面，沿着周方向形成有凹槽。玻璃基板50的两侧端部和下端部被3根支撑用杆23支撑着而嵌入凹槽，以竖立的状态收容于清洗支架20中。清洗支架20 —次可收容多个玻璃基板50。
[0051]本实施方式在最终清洗工序中，将玻璃基板50用多个支撑用杆23支撑着进行清洗，清洗后，玻璃基板50在该状态下、即保持着被多个支撑用杆23支撑着的状态被加以干燥。支撑玻璃基板50的3根支撑用杆23相对于所支撑的玻璃基板50的中心彼此大致各相隔90°。通过在支撑用杆23彼此大致各相隔90°的状态下对玻璃基板50进行干燥，可以降低清洗液残留在支撑玻璃基板50的外周端部的支撑用杆23和玻璃基板50之间而附着于玻璃基板50的外周端部。
[0052]如图8、图9所示，将玻璃基板50以收容于清洗支架20的状态放入清洗槽30，通过使清洗液31在清洗槽30内流动来清洗玻璃基板50。此时，玻璃基板50以其主表面与清洗液31的流动方向平行的方式被配置在清洗槽30内。
[0053]图8示出在清洗槽30的上下设置清洗液供给排出装置(所谓将清洗液31提供给清洗槽30或从清洗槽30排出的装置)32、33，使清洗液31在清洗槽30内沿着玻璃基板50的主表面的上下2个方向流动的情况。其结果，清洗液31可以沿着玻璃基板50的上下方向中的从下向上的I个方向(称为喷流)和从上向下的I个方向(称为降流)依次进行切换流动(上下2个方向)。可以先进行喷流和降流的其中之一，也可以反复若干次喷流和降流。此外，也可以将玻璃基板50交换移至喷流专用的清洗槽和降流专用的清洗槽。
[0054]图9示出在清洗槽30的左右设置清洗液供给排出装置34、35，使清洗液31在清洗槽30内沿着玻璃基板50的主表面的左右2个方向流动的情况。其结果，清洗液31可以沿着玻璃基板50的左右横方向中的从左向右的I个方向(称为左层流)和从右向左的I个方向(称为右层流)依次进行切换流动(左右2个方向)。可以先进行左层流和右层流的其中之一，也可以反复若干次左层和右层流。此外，也可以将玻璃基板50交换移至左层流专用的清洗槽和右层流专用的清洗槽。
[0055]虽然未进行图示，但也可以在清洗槽30的上下左右设置清洗液供给排出装置32至35，使清洗液31相对于玻璃基板50以从下向上的喷流、从上向下的降流、从左向右的左层流、从右向左的右层流都可以流动。而且，可以将这些方向中的2种以上任意组合依次进行切换，使清洗液31相对于玻璃基板50流动。
[0056](本实施方式的作用)
[0057]在本实施方式中，由于清洗液31针对玻璃基板50沿着与玻璃基板50的主表面平行且彼此不同的多个方向依次切换流动，所以即使相对于某方向的清洗液31的液流而言是被遮在支撑用杆23的后面的部分，而该部分相对于其他方向的清洗液31的液流则成为不是被遮在支撑用杆23的后面的部分。因此，玻璃基板50的外周端部的清洗不到的部分被解消，在清洗、干燥后的玻璃基板50的外周端部残存缺陷得以抑制。
[0058]在本实施方式中，将玻璃基板50在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗。即，3个支撑用杆23中，一个支撑玻璃基板50的左侧端部，一个支撑玻璃基板50的右侧端部，一个支撑玻璃基板50的下端部。由此，可以在清洗中稳定地支撑玻璃基板50。此外，由于3个支撑部相对于玻璃基板50的中心各相隔90°，因此，降低清洗液31残留在支撑用杆23和玻璃基板50之间而附着于玻璃基板50的外周端部。
[0059]本实施方式中，在玻璃基板50的所有的支撑部，玻璃基板50与支撑用杆23必定接触。由此，能够防止在玻璃基板50的干燥时发生在玻璃基板50上的颗粒附着或清洗液31的干燥斑痕。即，由于3个支撑用杆23各自与玻璃基板50必定接触，因此，可避免清洗液31滞留在玻璃基板50和支撑用杆23之间。假如玻璃基板50与支撑用杆23分离，则清洗液31因表面张力而滞留在玻璃基板50和支撑用杆23之间，导致在干燥时，该滞留的清洗液31所包含的颗粒向玻璃基板50侧移动并附着于玻璃基板50而残留下来，并且清洗液31本身也向玻璃基板50侧移动而成为干燥斑痕残留于玻璃基板50。这些颗粒的附着或清洗液31的干燥斑痕也成为缺陷。而在本实施方式中，由于在玻璃基板50的所有的支撑部，玻璃基板50和支撑用杆23必定接触而不分离，因此，上述的不良情况得以抑制。即，能够避免在玻璃基板50的外周端部与支撑用杆23分离时可产生的玻璃基板50的外周端部和支撑用杆23之间的清洗液31的膜，抑制在玻璃基板50的干燥后，因清洗液31的膜干燥而引起的附着物等的缺陷残留于玻璃基板50的外周端部。
[0060]在本实施方式中，优选使清洗液31沿着玻璃基板50的主表面的上下方向和横向方向流动。由此，尤其在将玻璃基板50在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗的情况下，干燥时不会发生清洗液31在支撑部的残留，从而可防止在玻璃基板51上的清洗液31的干燥斑痕或颗粒的附着。此外，遮在支撑用杆23的后面的部分可靠地消失，从而可靠地抑制清洗、干燥后的玻璃基板50的外周端部残留缺陷。
[0061]在本实施方式中，优选使清洗液31沿着玻璃基板50的主表面的上下方向彼此相反的2个方向(喷流和降流)以及横向方向彼此相反的2个方向(左层流和右层流)流动。即，使清洗液31沿着上下左右4个方向依次切换流动。由此，尤其在将玻璃基板50在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗的情况下，干燥时不会发生清洗液31在支撑部的残留，从而能够可靠地防止在玻璃基板51上的清洗液31的干燥斑痕或颗粒的附着。此外，遮在支撑用杆23的后面的部分更进一步可靠地消失，从而更进一步可靠地抑制清洗、干燥后的玻璃基板50的外周端部残留缺陷。
[0062]另外，从清洗槽30内的清洗液31的置换率增大等的观点、基于支撑用杆23的玻璃基板50的支撑稳定性等的观点出发，需要对提供给清洗槽30并从清洗槽30排出(即通过清洗槽30)的清洗液31的流量(L/分钟)或流速(m/分钟)进行研讨。
[0063](检查工序)
[0064]在检查工序中，检查玻璃基板的平坦度或厚度、或者表面粗糙度或是否有缺陷。然后，只将检查合格的玻璃基板在干净的环境中收纳于专用收纳盒以免在表面附着异物等，在进行真空包装之后作为HDD用玻璃基板出厂。
[0065]〈HDD用玻璃基板〉
[0066]接着，说明以如上所述的方式制造的HDD用玻璃基板。如图1所示，本实施方式所涉及的HDD用玻璃基板50由于在其制造过程的清洗工序中，外周端部的清洗不到的部分被解消，因此是外周端部残留缺陷得到抑制的高质量的HDD用玻璃基板。
[0067]〈HDD用磁记录介质>
[0068]接着，说明用所述HDD用玻璃基板50制造的HDD用磁记录介质。本实施方式所涉及的HDD用磁记录介质是在所述HDD用玻璃基板50的主表面上形成作为记录层的磁性膜而制得的。磁性膜可以直接或间接地形成在主表面上。磁性膜可以形成于玻璃基板50的单面或双面。
[0069]作为磁性膜的形成方法，可以使用以往公知的方法，可举出例如通过将分散磁性粒子而成的热固化性树脂旋涂在玻璃基板50上形成的方法、通过溅射或无电解镀形成的方法等。旋涂法中的膜厚为约0.3μπι~1.2μπι左右，溅射法中的膜厚为0.Ο?μπι~ 0.08 μ m左右，无电解镀法中的膜厚为0.01 μ m~0.1 μ m左右，从薄膜化和高密度化的观点出发，优选通过溅射法、无电解镀法形成膜。
[0070]作为用于磁性膜的磁性材料并没有特别限定，可以使用以往公知的材料。其中，优选使用为了得到高保持力而以结晶各向异性高的Co为基本材料并以调整残留磁通密度为目的添加了 Ni或Cr的Co系合金等。具体而言，优选使用以Co为主成分的CoPt、CoCr、CoN1、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTaXoCrPtTa,CoCrPtB,CoCrPtSiO
坐寸ο
[0071]磁性膜可以为用非磁性膜(例如Cr、CrMo、CrV等)分割而实现了噪声降低的多层结构(例如 CoPtCr/CrMo/CoPtCr、CoCrPtTa/CrMo/CoCrPtTa 等)。
[0072]除了上述磁性材料以外，也可以是铁氧体系或稀土铁系材料、或将Fe、Co、FeCo,CoNiPt等磁性粒子分散于由Si02、BN等构成的非磁性膜中结构的颗粒等。
[0073]磁性膜可以是内面型和垂直型中的任何的记录形式。
[0074]为了使磁头的滑行良好，可以在磁性膜的表面涂上薄的润滑剂。作为润滑剂，可举出例如将作为液体润滑剂的全氟聚醚(PFPE)用氟氯烷系(Freon-based)等溶媒进行稀释而成的润滑剂等。
[0075]在本实施方式中，根据需要，除了形成作为记录层的磁性膜以外，还可以形成基底层或保护层。HDD用磁记录介质中的基底层根据磁性膜来选择。作为基底层的材料，可举出例如选自由Cr、Mo、Ta、T1、W、V、B、Al、Ni等非磁性金属构成的组中的至少一种以上的材料。在以Co为主成分的磁性膜的情况下，从磁特性的提高等观点出发，优选为Cr单体或Cr合金。基底层不限于单层，也可以为层叠了相同或不同种类的层的多层结构。例如可以为Cr/Cr, Cr/CrMo、Cr/CrV, NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV 等多层基底层。
[0076]保护层是为了防止磁性膜的磨损或腐蚀而形成的。作为保护层，可举出例如Cr层、Cr合金层、碳层、氢化碳层、氧化锆层、二氧化硅层等。这些保护层能够与基底层或磁性膜等一起通过直列型溅射装置连续地形成。另外，这些保护层可以是单层，或者可以是包含相同或不同种类的层的多层结构。
[0077]可以在所述保护层上或代替所述保护层而形成其它保护层。例如，可以代替所述保护层，通过将胶体硅微粒子分散于用乙醇系的溶媒稀释了四烷氧硅烷而成的溶液中并涂布在Cr层上，再进行烧制，由此形成二氧化硅(SiO2)层。
[0078]如上所述，通过将使用本实施方式所涉及的HDD用玻璃基板50作为基板而制造的HDD用磁记录介质用于HDD，能够使HDD的高速旋转时的磁头的动作稳定。
[0079]此外，本实施方式所涉及的HDD用磁记录介质因为使用了外周端部残留缺陷得到抑制的HDD用玻璃基板50，所以是直至最外周部为止清洁性高的高质量的HDD用磁记录介质。因此，即使记录区域扩展到记录介质的外周端部，也能抑制记录区域出现障碍。
[0080]另外，在本实施方式中，抛光工序分两次进行，但是并不限于此，也可以只进行一次。此外，化学强化工序是在抛光工序之后进行的，但也可以根据状况在抛光工序之前进行。此外，根据状况也可以省略化学强化工序。
[0081]并且，作为坠落强度对策，可以将玻璃基板的主表面以外的外周端面或内周端面进行强化，作为玻璃基板中产生的伤痕的边沿缓和处理，可以对玻璃基板进行HF浸溃处理。
[0082]本实施方式所涉及的HDD用玻璃基板并不限定于HDD用磁记录介质的制造用途，例如还能够用于光磁盘、光盘等的制造用途。
[0083]汇总本实施方式的技术特征如下。
[0084]本实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的制造方法，包括用清洗液31清洗玻璃基板50的清洗工序，在清洗工序中，针对玻璃基板50使清洗液31沿着与玻璃基板50的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便进行清洗。
[0085]根据本实施方式，由于针对玻璃基板50使清洗液31沿着与玻璃基板50的主表面平行且彼此不同的多个方向依次切换流动，所以即使相对于某方向的清洗液31的液流而言是被遮在支撑用杆23的后面的部分，而该部分相对于其他方向的清洗液31的液流则变成不是被遮在支撑用杆23的后面的部分。因此，玻璃基板50的外周端部的清洗不到的部分被解消，在清洗、干燥后的玻璃基板50的外周端部残存缺陷得以抑制。
[0086]本实施方式在清洗工序中，将玻璃基板50在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗，清洗后，在该状态下对玻璃基板进行干燥，所述支撑部相对于玻璃基板50的中心各相隔90° ο
[0087]根据本实施方式，可以在清洗中稳定地支撑玻璃基板50。此外，由于3个支撑部相对于玻璃基板50的中心各相隔90°，因此，降低清洗液31残留在支撑用杆23和玻璃基板50之间而附着于玻璃基板50的外周端部。
[0088]本实施方式在清洗工序中，将玻璃基板50用多个支撑用杆23支撑着进行清洗，清洗后，在该状态下对玻璃基板50进行干燥，在对于玻璃基板50的所有支撑部，玻璃基板50与支撑用杆23必定接触。
[0089]根据本实施方式，能够避免在玻璃基板50的外周端部与支撑用杆23分离时可产生的玻璃基板50的外周端部和支撑用杆23之间的清洗液31的膜，抑制在玻璃基板50的干燥后，因清洗液31的膜干燥而引起的附着物等的缺陷残留于玻璃基板50的外周端部。
[0090]在本实施方式中，使清洗液31沿着玻璃基板50的主表面的上下方向和横向方向流动。
[0091]根据本实施方式，尤其在将玻璃基板50在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗的情况下，干燥时不会发生清洗液31在支撑部的残留，从而可防止在玻璃基板51上的清洗液31的干燥斑痕或颗粒的附着。此外，遮在支撑用杆23的后面的部分可靠地消失，从而可靠地抑制清洗、干燥后的玻璃基板50的外周端部残留缺陷。
[0092]在本实施方式中，使清洗液31沿着玻璃基板50的主表面的上下方向彼此相反的2个方向以及横向方向彼此相反的2个方向流动。
[0093]根据本实施方式，尤其在将玻璃基板50在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗的情况下，干燥时不会发生清洗液31在支撑部的残留，从而可防止在玻璃基板51上的清洗液31的干燥斑痕或颗粒的附着。此外，遮在支撑用杆23的后面的部分更进一步可靠地消失，从而更进一步可靠地抑制清洗、干燥后的玻璃基板50的外周端部残留缺陷。
[0094]本实施方式所涉及的HDD用玻璃基板50是利用上述的HDD用玻璃基板的制造方法而制得的。
[0095]根据本实施方式，由于在其制造过程的清洗工序中，外周端部的清洗不到的部分被解消，因此，可得到外周端部残留缺陷被抑制的高质量的HDD用玻璃基板50。
[0096]本实施方式所涉及的HDD用磁记录介质是在所述HDD用玻璃基板50的主表面上形成记录层而制得的。
[0097]根据本实施方式，因为使用了外周端部残留缺陷得到抑制的HDD用玻璃基板50，所以可得到直至最外周部为止清洁性高的高质量的HDD用磁记录介质。因此，即使记录区域扩展到记录介质的外周端部，也能抑制记录区域出现障碍。
[0098]根据本实施方式，由于能够使清洗、干燥后的HDD用玻璃基板50的外周端部不残留缺陷，因此，不但可以充分地应对近年的磁记录介质的信息高密度化，而且可以充分地应对磁头的悬浮高度的微小化。
[0099]实施例
[0100]以下，通过实施例和比较例进一步详细地说明本发明。但是，本发明并不限定于该实施例。
[0101]〈HDD用玻璃基板的制造>
[0102]按照图2所示的制造工序，使用下述的组份(质量％)的玻璃原材料，制造出外径为65mm(2.5英寸)、内径(圆孔的直径)约为20mm、板厚为Imm的环形的招娃酸盐制玻璃基板。
[0103](玻璃原材料的组份)
[0104].SiO2AO ?70%
[0105].Al2O3:0.I ?20%
[0106].B2O3:0 ?5%
[0107]但是，Si02+Al203+B203= 60 ?85 %，此外，Li20+Na20+K20 = 0.1 ?20 %，此外，MgO+CaO+BaO+SrO+ZnO = 2 ?20%。
[0108]另外，在最终清洗工序中，如表I所示，实施例1使清洗液的流动方向为上下2个方向(喷流和降流依次切换流动)，实施例2使清洗液的流动方向为左右2个方向(左层流和右层流依次切换流动)，实施例3使清洗液的流动方向为上下左右4个方向(喷流和降流以及左层流和右层流依次切换流动)。此外，比较例I使清洗液的流动方向仅为上下I个方向(仅为喷流或降流)，实施例2使清洗液的流动方向仅为左右I个方向(仅为左层流或右层流)。
[0109]在实施例1~4以及比较例1、2中，清洗支架、清洗支架的玻璃基板收容张数、清洗槽的大小、清洗液的种类、清洗液的流量或流速以及其他的清洗条件全部相同一致。
[0110]〈HDD用玻璃基板的评价>
[0111][缺陷的有无]
[0112]利用从日本机械销售公司商业性地可得到的缺陷可视化/外观检查装置“Micro-MAX”检查了所得到的玻璃基板的外周端部是否有图4所示的缺陷。取样数目在实施例I~4以及比较例1、2中分别为100张。表1示出结果。
[0113]〈HDD用磁记录介质的制造>
[0114]在所得到的HDD用玻璃基板的主表面上形成磁性膜(记录层)而制成了磁记录介质。即，从玻璃基板侧起依次层叠了由N1-Al构成的基底层(厚度约IOOnm)、由Co-Cr-Pt构成的记录层(厚度20nm)、由DLC (Diamond Like Carbon)构成的保护层(厚度5nm)。
[0115]〈HDD用磁记录介质的评价>
[0116][读写试验]
[0117]对所得到的磁记录介质用搭载了 DHl机构的磁头进行读写试验，记录了错误发生张数。取样数目在实施例1~4以及比较例1、2中分别为50张。表1示出结果。
[0118]表1
[0119]
【权利要求】
1.一种HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于包括: 清洗工序，用清洗液清洗玻璃基板，其中， 在清洗工序中，针对玻璃基板使清洗液沿着与玻璃基板的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便进行清洗。
2.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使清洗液沿着玻璃基板的主表面的上下方向和横向方向流动。
3.根据权利要求2所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使清洗液沿着玻璃基板的主表面的上下方向彼此相反的2个方向和横向方向彼此相反的2个方向流动。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在清洗工序中，将玻璃基板在其两侧端部和下端部的3处支撑着进行清洗，清洗后，在该状态下对玻璃基板进行干燥，所述支撑部相对于玻璃基板的中心各相隔90°。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在清洗工序中，将玻璃基板用多个支撑用杆支撑着进行清洗，清洗后，在该状态下对玻璃基板进行干燥，在对于玻璃基板的所有支撑部，玻璃基板与支撑用杆必定接触。
6.一种HDD用玻璃基板，其特征在于，利用权利要求1至5中任一项所述的HDD用玻璃基板的制造方法制得。
7.—种HDD用磁记录介质，其特征在于，在权利要求6所述的HDD用玻璃基板的主表面上形成记录层而制得。
【文档编号】B08B3/04GK103988257SQ201280042049
【公开日】2014年8月13日 申请日期:2012年6月27日 优先权日:2011年6月30日
【发明者】岛津典子, 福本直之 申请人:Hoya株式会社