一种x射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法
【专利摘要】本发明公开了一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，具体步骤包括：先用洗涤剂把衬底先清洗，然后再用离子水冲干净；将浓硫酸：双氧水按2：1的比例混合配置；将第一次冲洗好的衬底放到piranha溶液里侵泡；将浸泡好的衬底取出，用大量去离子水冲干净；将第二次冲洗好的衬底用酒精冲洗，最后用氮气吹干。通过上述方式，本发明一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法可以将衬底彻底的清洗干净，使得溅射后薄膜与衬底具有足够的结合力。
【专利说明】一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及衬底的清洁方法，尤其涉及一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法。
【背景技术】
[0002]在工业及医疗行业中X射线探测器被广泛的应用，作为X射线探测器必不可少的闪烁体部分也越来越重要。对于一些新型的医用闪烁体，制备单晶时十分困难，发展多晶陶瓷闪烁体是目前最重要的研究方向，多晶陶瓷闪烁体具有成本低、加工性能好，易于进行性能裁剪等优点，是目前医用闪烁体的首选。
[0003]作为闪烁层常用的材料通常有掺杂钠的碘化铯(Cs1:Na)、掺杂铊的碘化铯(Cs1:TL)、碘化钠(NaI)、硫氧化礼(Gd2O2S)等。然而在制造过程中衬底的清洗往往达不到要求，丙酮、无水乙醇超声清洗过的衬底，表面还是会有油污，溅射后薄膜与衬底的结合力不够。如在衬底上面打Ni/Cr缓冲层，然后再打Au电极，做完的薄膜拿到压焊机去拉引线的时候，引线经常会把电极膜给带出来。如何把衬底清洗干净成了一个不得不解决的难题。
【发明内容】
[0004]本发明主要解决的技术问题是提供一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法。
[0005]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，具体步骤包括:
第一次冲洗衬底:先用洗涤剂把衬底先清洗，然后再用离子水冲干净；
配置piranha溶液:将浓硫酸:双氧水按2:1的比例混合配置；
浸泡衬底:将第一次冲洗好的衬底放到piranha溶液里侵泡；
第二次冲洗衬底；将浸泡好的衬底取出，用大量去离子水冲干净；
吹干衬底:将第二次冲洗好的衬底用酒精冲洗，最后用氮气吹干。
[0006]在本发明一个较佳实施例中，所述衬底的材质为S1、SiO2, TiO2和Pt中的任意一种。在本发明一个较佳实施例中，所述浸泡衬底的时间大于10分钟。
[0007]在本发明一个较佳实施例中，所述piranha溶液需即配即用，用完稀释后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危险。
[0008]本发明的有益效果是:本发明一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法可以将衬底彻底的清洗干净，使得溅射后薄膜与衬底具有足够的结合力。
【具体实施方式】
[0009]下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0010]本发明实施例包括:一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，具体步骤包括: 第一次冲洗衬底:先用洗涤剂把衬底先清洗，然后再用离子水冲干净。
[0011]配置piranha溶液:将浓硫酸:双氧水按2:1的比例混合配置,所述piranha溶液需即配即用，用完稀释后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危险。
[0012]浸泡衬底:将第一次冲洗好的衬底放到piranha溶液里侵泡,所述浸泡衬底的时间大于10分钟。
[0013]第二次冲洗衬底；将浸泡好的衬底取出，用大量去离子水冲干净。
[0014]吹干衬底:将第二次冲洗好的衬底用酒精冲洗，最后用氮气吹干。
[0015]所述衬底的材质为S1、SiO2, TiO2和Pt中的任意一种。
[0016]下面对本发明的一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法的工作原理进行详细介绍。
[0017]清洁时首先用洗涤剂把衬底先清洗，然后再用离子水冲干净，然后配置piranha溶液，将浓硫酸:双氧水按2:1的比例混合配置，将第一次冲洗好的衬底放到piranha溶液里侵泡，浸泡时间大于10分钟，将浸泡好的衬底取出，用大量去离子水冲干净，最后将第二次冲洗好的衬底用酒精冲洗，最后用氮气吹干。
[0018]与现有技术相比，本发明一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法可以将衬底彻底的清洗干净，使得溅射后薄膜与衬底具有足够的结合力。
[0019]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的【技术领域】，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，其特征在于，具体步骤包括: 第一次冲洗衬底:先用洗涤剂把衬底先清洗，然后再用离子水冲干净； 配置piranha溶液:将浓硫酸:双氧水按2:1的比例混合配置； 浸泡衬底:将第一次冲洗好的衬底放到piranha溶液里侵泡； 第二次冲洗衬底；将浸泡好的衬底取出，用大量去离子水冲干净； 吹干衬底:将第二次冲洗好的衬底用酒精冲洗，最后用氮气吹干。
2.根据权利要求1所述的一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，其特征在于:所述衬底的材质为S1、Si02、Ti02和Pt中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，其特征在于:所述浸泡衬底的时间大于IO分钟。
4.根据权利要求1所述的一种X射线碘化铯闪烁屏衬底的清洁方法，其特征在于:所述piranha溶液需即配即用，用完稀释后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危险。
【文档编号】B08B3/02GK103706592SQ201310628611
【公开日】2014年4月9日 申请日期:2013年12月2日 优先权日:2013年12月2日
【发明者】范波 申请人:江苏龙信电子科技有限公司