靶材缝隙清洁装置和方法
【专利摘要】本发明公开了一种靶材缝隙清洁装置和方法，涉及半导体制造领域，能够避免缝隙清洁过程中粉尘的散落。该靶材缝隙清洁装置，包括：靶材正面吹气单元、靶材侧面吹气单元和靶材侧面吸尘器。该靶材缝隙清洁方法，包括：向靶材正面的缝隙吹气；向靶材第一侧面的缝隙吹气；从靶材第二侧面的缝隙吸取粉尘，所述第一侧面为与所述第二侧面相对的面。
【专利说明】靶材缝隙清洁装置和方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种靶材缝隙清洁装置和方法。
【背景技术】
[0002]在半导体制造领域，特别是在液晶显示器领域，采用磁控溅射技术制作薄膜的工艺非常普及。随着液晶面板尺寸越来越大，因此采用的玻璃尺寸也越来越大，对于磁控溅射靶材的尺寸要求更大，但受靶材制成工艺的限制，一般靶材需要分块拼接起来使用，但是靶材拼接处会有缝隙，缝隙一般为1_左右，在使用一段时间之后靶材缝隙中会由于工艺过程而积聚粉尘颗粒，需要对靶材的缝隙进行清洁，以防止缝隙内的粉尘在磁控溅射工艺过程中造成产品的不良。
[0003]现有的靶材缝隙清洁方法是采用较薄的纸片或钢片插入缝隙将粉尘清理出来，但是这样粉尘会散落在磁控溅射的工艺腔室中，仍然会在工艺过程中造成产品的不良，同时缝隙中的颗粒可能含有重金属粒子，容易被人体吸入而对人的健康造成危害。
【发明内容】
[0004]本发明提供一种靶材缝隙清洁装置和方法，能够避免缝隙清洁过程中粉尘的散落。
[0005]为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案:
[0006]一方面，提供一种靶材缝隙清洁装置，包括:
[0007]靶材正面吹气单元、靶材侧面吹气单元和靶材侧面吸尘器。
[0008]具体地，还包括:封闭罩，所述靶材正面吹气单元、靶材侧面吹气单元和靶材侧面吸尘器设置于所述密封罩中。
[0009]具体地，所述封闭罩为U型结构，所述U型结构的内侧为开放空间。
[0010]优选地，所述封闭罩由橡胶材料制成。
[0011]具体地，所述靶材正面吹气单元连接有第一通气管道，所述靶材侧面吹起单元连接有第二通气管道，所述第一通气管道和第二通气管道分别设置有气阀。
[0012]另一方面，提供一种靶材缝隙清洁方法，包括:
[0013]向靶材正面的缝隙吹气；
[0014]向靶材第一侧面的缝隙吹气；
[0015]从靶材第二侧面的缝隙吸取粉尘，所述第一侧面为与所述第二侧面相对的面。
[0016]本发明提供的靶材缝隙清洁装置和方法，通过向缝隙内吹气清除粉尘并使用吸尘器将从缝隙内清除的粉尘直接收集，缝隙清洁效果好且不会对靶材造成损伤；另外，避免了缝隙清洁过程中粉尘的散落，从而避免散落在工艺腔室中的粉尘在磁控溅射工艺过程中造成产品不良，同时避免了散落在空中的重金属粒子被人体吸入而对人的健康造成危害。
【专利附图】
【附图说明】[0017]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图 。
[0018]图1为本发明实施例中一种靶材的结构示意图；
[0019]图2为本发明实施例中一种靶材缝隙清洁装置的结构示意图；
[0020]图3为图2中AA’向的截面示意图；
[0021]图4为本发明实施例中一种封闭罩的结构示意图；
[0022]图5为图4中封闭罩罩在靶材上时的结构示意图；
[0023]图6为本发明实施例中一种靶材缝隙清洁方法的流程图。
【具体实施方式】
[0024]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0025]如图1所示，磁控溅射技术中使用的靶材由多块靶材1拼接在背板2上形成，多块靶材1之间具有缝隙3，目前通过薄纸片或钢片插入靶材的缝隙3将粉尘清理出来，但是这样粉尘会散落在磁控溅射的工艺腔室中，仍然会在工艺过程中造成产品的不良，同时缝隙中的颗粒可能含有重金属粒子，容易被人体吸入而对人的健康造成危害。另外，由于纸片较软，无法将缝隙清理干净，而钢片较硬，容易对靶材本身造成损伤。本发明实施例正是基于上述拼接靶材提出的一种新的靶材缝隙清洁装置和方法。
[0026]如图2和图3所示，本发明实施例提供一种靶材缝隙清洁装置，包括:靶材正面吹气单元4、靶材侧面吹气单元5和靶材侧面吸尘器6。
[0027]具体地，靶材1设置在背板2上，靶材1上背板2所在的面为背面，与背面相对的面为靶材1的正面，当对靶材1进行缝隙清洁时，靶材正面吹气单元4放置于靶材1的正面并对准缝隙，靶材侧面吹气单元5放置于靶材1具有缝隙的第一侧面并对准缝隙，靶材侧面吸尘器6放置于靶材1的第二侧面并对准缝隙，第二侧面为与第一侧面相对的面，这样靶材正面吹气单元4、靶材侧面吹气单元5、靶材侧面吸尘器6和背板2就将缝隙包围起来，之后靶材正面吹气单元4和靶材侧面吹气单元5向缝隙3内吹气，将缝隙3中的粉尘吹到第二侧面的靶材侧面吸尘器6处，同时靶材侧面吸尘器6从第二侧面的缝隙处吸取并收集粉尘。
[0028]本发明实施例中的靶材缝隙清洁装置，通过向缝隙内吹气清除粉尘并使用吸尘器将从缝隙内清除的粉尘直接收集，缝隙清洁效果好且不会对靶材造成损伤；另外，避免了缝隙清洁过程中粉尘的散落，从而避免散落在工艺腔室中的粉尘在磁控溅射工艺过程中造成产品不良，同时避免了散落在空中的重金属粒子被人体吸入而对人的健康造成危害。
[0029]具体地，上述靶材缝隙清洁装置还可以包括:封闭罩7，靶材正面吹气单元4、靶材侧面吹气单元5和靶材侧面吸尘器6设置于封闭罩7中。
[0030]具体地，如图4和图5所示，封闭罩7为U型结构，U型结构的内侧为开放空间，用于罩住上述的正面吹气单元、靶材侧面吹气单元、靶材侧面吸尘器和靶材的缝隙；封闭罩?与靶材1和背板2形成封闭空间，进一步防止缝隙清洁过程中粉尘散落到工艺腔室内。
[0031]优选地，封闭罩7由橡胶材料制成，具有较佳的密封性能。
[0032]具体地，如图3所示，靶材正面吹气单元5连接有第一通气管道51，靶材正面吹气单元5通过第一通气管道51连接至磁控派射设备的压缩干燥空气(Compressed Dry Air,CDA)装置，CDA装置用于提供干燥气体，靶材侧面吹起单元6连接有第二通气管道61，革巴材侧面吹起单元6通过第二通气管道61连接至CDA装置，第一通气管道51和第二通气管道61分别设置有气阀8，靶材缝隙清洁时，可以通过气阀8可以控制靶材正面吹气单元5和靶材侧面吹起单元6同时吹气，或者祀材正面吹气单元5先吹气,祀材侧面吹起单元6后吹气。当然，也可以不设置气阀8，直接通过CDA装置控制靶材正面吹气单元5和靶材侧面吹起单元6同时吹气。
[0033]本发明实施例中的靶材缝隙清洁装置，通过向缝隙内吹气清除粉尘并使用吸尘器将从缝隙内清除的粉尘直接收集，缝隙清洁效果好且不会对靶材造成损伤；另外，避免了缝隙清洁过程中粉尘的散落，从而避免散落在工艺腔室中的粉尘在磁控溅射工艺过程中造成产品不良，同时避免了散落在空中的重金属粒子被人体吸入而对人的健康造成危害。
[0034]如图6所示，本发明实施例提供一种靶材缝隙清洁方法，可以用于上述的靶材缝隙清洁装置，该靶材缝隙清洁方法包括:
[0035]步骤101、向靶材正面的缝隙吹气；
[0036]步骤102、向靶材第一侧面的缝隙吹气；
[0037]步骤103、从靶材第二侧面的缝隙吸取粉尘，所述第一侧面为与所述第二侧面相对的面。
[0038]需要说明的是，上述步骤101和步骤102可以是同时进行的，也可以先进行步骤101，然后再进行步骤102。
[0039]本发明实施例中的靶材缝隙清洁方法，通过向缝隙内吹气清除粉尘并使用吸尘器将从缝隙内清除的粉尘直接收集，缝隙清洁效果好且不会对靶材造成损伤；另外，避免了缝隙清洁过程中粉尘的散落，从而避免散落在工艺腔室中的粉尘在磁控溅射工艺过程中造成产品不良，同时避免了散落在空中的重金属粒子被人体吸入而对人的健康造成危害。
[0040]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种靶材缝隙清洁装置，其特征在于，包括:靶材正面吹气单元、靶材侧面吹气单元和靶材侧面吸尘器。
2.根据权利要求1所述的靶材缝隙清洁装置，其特征在于，还包括:封闭罩，所述靶材正面吹气单元、靶材侧面吹气单元和靶材侧面吸尘器设置于所述密封罩中。
3.根据权利要求2所述的靶材缝隙清洁装置，其特征在于，所述封闭罩为U型结构，所述U型结构的内侧为开放空间。
4.根据权利要求1或2所述的靶材缝隙清洁装置，其特征在于，所述封闭罩由橡胶材料制成。
5.根据权利要求1所述的靶材缝隙清洁装置，其特征在于，所述靶材正面吹气单元连接有第一通气管道，所述靶材侧面吹起单元连接有第二通气管道，所述第一通气管道和第二通气管道分别设置有气阀。
6.一种靶材缝隙清洁方法，其特征在于，包括:向靶材正面的缝隙吹气；向靶材第一侧面的缝隙吹气；从靶材第二侧面的缝隙吸取粉尘，所述第一侧面为与所述第二侧面相对的面。
【文档编号】B08B5/02GK103639153SQ201310686918
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年12月13日 优先权日:2013年12月13日
【发明者】邢宏伟, 穆慧慧, 吴斌, 张鹤群 申请人:合肥京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司