一种反应室清扫装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种反应室清扫装置，涉及液晶显示器制造领域。为解决由于清扫反应室碎片使得产能下降以及产品不良率上升的问题而发明。本发明提供的一种反应室清扫装置，包括壳体、吸附体卷辊、固定架、第一驱动机构、第二驱动机构以及静电发生器，壳体内设有真空空间，壳体的侧壁上设有对接门；吸附体卷辊设置于真空空间内，吸附体卷辊包括转轴和套设于转轴上的吸附体卷；固定架设置于真空空间内，吸附体卷的起始端固定于固定架上；第一驱动机构与转轴连接；第二驱动机构与固定架连接，可带动固定架与吸附体卷辊整体沿第一直线往复移动，对接门位于第一直线上；静电发生器与吸附体卷连接。本发明可用于清扫干法刻蚀机反应室的玻璃碎片。
【专利说明】一种反应室清扫装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及一种反应室清扫装置。
【背景技术】
[0002]在液晶显示器的制造工艺中，干法刻蚀工艺是把基板上无光刻胶掩蔽的金属膜或非金属膜刻蚀掉，使有光刻胶掩蔽的区域保存下来，从而在基板上形成所需要的图形。对基板进行刻蚀是在干法刻蚀设备的真空反应室内进行的，参照图1，图1为反应室中玻璃基板的受力示意图，把玻璃基板03放置在反应室01的下部电极02上，在下部电极02的表面凸头施加静电，对玻璃基板03产生向下的吸附力F，同时，下部电极02上分布着大小均匀的氦气孔眼021，氦气向上吹出，冷却玻璃基板03的背部，且对玻璃基板03产生向上的升力F’ ；由于下部电极02的凸头上易于堆积附着物，使得吸附力下降且不均匀，在氦气的作用下，玻璃基板03容易发生局部翘起，则玻璃基板03的边沿部会泄露氦气，由此，玻璃基板03发生振动，从而导致玻璃基板03破碎。另一方面，在刻蚀反应结束后，为了去除残留在玻璃基板03背部的静电荷，通常采用2000瓦特的射频功率对氧气进行轰击产生等离子体气团来去除，由于等离子体的充电效应，使得静电难以完全去除，因而，在除电步骤中会发生玻璃基板03破碎，实际生产中，大约90%以上的玻璃基板03破碎发生在除电步骤，由于玻璃基板03破碎后在下部电极02等部位上产生了碎片和碎粒，影响了下一个玻璃基板03进行刻蚀反应，因此，需对反应室内01的玻璃碎片进行清理。
[0003]现有技术中，必须打开反应室01对碎片进行清理，清理前需排出尾气、降温以及大气处理，然后打开反应室01清理碎片，由于大气和水汽进入了反应室01，再次生产需要温度上升预热、真空处理以及等离子体对电极表面处理等过程，则最少需停机21小时才可恢复生产，使得产能大幅度下降。另一方面，一旦反应室01被打开，大气中的水汽会吸附在下部电极02上，短时间内很难去除，容易在反应中造成下部电极02异常放电和附生物溶解分化，造成工艺不良，同时，反应室01的设备特性和内部表面活性以及生成物吸附等特性发生突变，使得生产的基板性能不一致，从而产品不良率上升。
【发明内容】
[0004]本发明的实施例提供一种反应室清扫装置，在反应室状态不变的情况下，对碎片进行清扫，缩短了恢复生产的时间，从而提升了产能，同时，维持了反应室设备状态的一致性，保证了基板性能的一致性，从而提升了良品率。
[0005]为达到上述目的，本发明实施例提供了一种反应室清扫装置，包括:壳体，所述壳体内设有真空空间，所述壳体的侧壁上设有对接门；吸附体卷辊，所述吸附体卷辊设置于所述真空空间内，所述吸附体卷辊包括转轴和套设于所述转轴上的吸附体卷，所述吸附体卷可带静电；固定架，所述固定架设置于所述真空空间内，所述吸附体卷的起始端固定于所述固定架上；第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述转轴连接，且可带动所述吸附体卷辊相对于所述固定架移动；第二驱动机构，所述第二驱动机构与所述固定架连接，且可带动所述固定架与所述吸附体卷辊整体沿第一直线往复移动，所述对接门位于所述第一直线上；静电发生器，所述静电发生器与所述吸附体卷连接。
[0006]进一步地，所述第一驱动机构包括齿轮、齿条、第一连接臂、第二连接臂以及第一气缸，所述第一气缸的活塞杆与所述齿条固定连接，所述齿轮与所述齿条相啮合，所述齿轮通过齿轮旋转轴固定于所述固定架上，所述第一连接臂的一端与所述齿轮固定连接，另一端与所述第二连接臂的一端铰接，所述第二连接臂的另一端与所述转轴固定连接。
[0007]进一步地，所述第一气缸设置于所述壳体外部，所述第一气缸的活塞杆穿过所述壳体的侧壁后与所述齿条固定连接。
[0008]进一步地，述第一连接臂和第二连接臂之间设有复位弹簧。
[0009]更进一步地，所述第二驱动机构包括第二气缸，所述第二气缸的活塞杆与所述固定架固定连接。
[0010]进一步地，所述第二气缸设置于所述壳体外部，所述第二气缸的活塞杆穿过所述壳体的侧壁后与所述固定架固定连接。
[0011]进一步地，所述吸附体卷由橡胶制成。
[0012]进一步地，所述静电发生器可发出正电荷和负电荷。
[0013]进一步地，所述对接门连接有驱动电机，所述驱动电机可带动对接门开启和闭合。
[0014]本发明实施例提供的一种反应室清扫装置，包括壳体、吸附体卷辊、固定架、第一驱动机构、第二驱动机构以及静电发生器；壳体内设置了真空空间，且壳体的侧壁上设置了对接门，在清扫反应室内的玻璃碎片时，通过打开对接门将壳体和反应室连通，则壳体内和反应室内均为真空状态，在第二驱动机构的带动下，将固定架与吸附体卷辊整体沿着第一直线向对接门处移动，当吸附体卷棍到达对接门处时，第一驱动机构带动着吸附体卷棍上的转轴转动，由于吸附体卷的起始端固定于固定架上，则吸附体卷辊上的吸附体卷可逐圈展开并覆盖到反应室玻璃碎片上，通过静电发生器使吸附体卷表面带有静电，对玻璃碎片进行静电吸附，再通过第二驱动机构，将吸附有玻璃碎片的吸附体卷辊沿着第一直线移动到壳体内，对接门关闭，静电发生器再发出相反的静电电荷，中和了吸附体卷表面的静电，此时，碎片失去吸附力而掉在壳体内，吸附体卷辊上的吸附体卷在第一驱动机构的带动下逐圈的卷到转轴上，为下次清理做好准备。由于清扫碎片的过程中，壳体内和反应室内均为真空状态，反应室的大气状态和温度均未发生改变，无需温度上升预热、真空处理以及等离子体对电极表面处理等过程，对接门关闭后即可继续投入生产，大大缩短了恢复生产的时间，从而提升了产能，同时，由于无水汽进入反应室，维持了反应室设备状态的一致性，避免了反应室内设备的异常，保证了基板性能的一致性，从而提升了良品率。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为现有技术中干法刻蚀反应室中玻璃基板的受力示意图；
[0017]图2为本发明实施例反应室清扫装置的结构示意图；
[0018]图3为本发明实施例反应室清扫装置和干法刻蚀反应室连接后的结构示意图。
【具体实施方式】
[0019]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0020]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此夕卜，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
[0021]在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0022]图2为本发明实施例反应室清扫装置的一个具体实施例；参照图2，本实施例中反应室清扫装置，包括壳体1、吸附体卷辊2、固定架3、第一驱动机构4、第二驱动机构5以及静电发生器6，壳体I内设有真空空间，壳体I的侧壁上设置了对接门7 ;吸附体卷辊2设置于真空空间内，吸附体卷辊2包括转轴21和套设于转轴21上的吸附体卷22，同时，吸附体卷22可带静电10 ;固定架3设置于真空空间内，吸附体卷22的起始端固定于固定架3上；第一驱动机构4与转轴21连接，且可带动吸附体卷辊2相对于固定架3移动；第二驱动机构5与固定架3连接，且可带动固定架3与吸附体卷辊2整体沿第一直线往复移动，对接门7位于所述第一直线上；静电发生器6与吸附体卷22连接。
[0023]参照图2和图3，本发明实施例提供的一种反应室清扫装置，包括壳体1、吸附体卷辊2、固定架3、第一驱动机构4、第二驱动机构5以及静电发生器6;在清扫反应室01内的玻璃碎片时，通过打开对接门7将壳体I和反应室01连通，则壳体I内和反应室01内均为真空状态，在第二驱动机构5的带动下，将固定架3与吸附体卷辊2整体沿着第一直线向对接门7处移动，当吸附体卷棍2到达对接门7处时,第一驱动机构4带动着吸附体卷棍2上的转轴21转动，由于吸附体卷22的起始端固定于固定架3上，则吸附体卷辊2上的吸附体卷22可逐圈展开并覆盖到反应室01玻璃碎片上，通过静电发生器6使吸附体卷22表面带有静电10，对玻璃碎片进行静电吸附，再通过第二驱动机构5，将吸附有玻璃碎片的吸附体卷辊2沿着第一直线移动到壳体I内，对接门7关闭，静电发生器6再发出相反的静电电荷，中和了吸附体卷22表面的静电10，此时，碎片失去吸附力而掉在壳体I内，吸附体卷辊2上的吸附体卷22在第一驱动机构4的带动下逐圈的卷到转轴21上，为下次清理做好准备。参照图3，由于清扫碎片的过程中，壳体I内和反应室01内均为真空状态，反应室01的大气状态和温度均未发生改变，无需温度上升预热、真空处理以及等离子体对电极表面处理等过程，对接门7关闭后即可继续投入生产，大大缩短了恢复生产的时间，从而提升了产能，同时，由于无水汽进入反应室OI，维持了反应室OI设备状态的一致性，避免了反应室OI内设备的异常，保证了基板性能的一致性，从而提升了良品率。此外，对于大片的玻璃碎片，因吸附面积大可较轻易吸走，对于小的碎粒，可通过调节吸附体卷22到碎粒的距离或增大静电10电压来增加吸附力，从而将碎粒完全吸走。
[0024]另一方面，在没有发生破片时，可对反应室01内下部电极02表面的生成物、颗粒物、细小异物以及电极陶瓷的细微脱落物进行吸附，以完成对下部电极02的清洁。当下部电极02表面的生成物附着紧密时，可通过第一驱动机构4将吸附体卷22覆盖在下部电极02上，再在第二驱动机构5的带动下，吸附体卷22整体往复运动，通过吸附体卷22擦拭下部电极02表面的生成物，之后再通过第一驱动机构4将吸附体卷22收缩，将吸附体卷22离开下部电极02 —定距离，通过吸附体卷22上的静电10吸附走擦拭下的生成物，从而完成了下部电极02表面上生成物的清洁。同时，由于下部电极02长期使用后存在一定的静电残留，可通过吸附体卷22接触下部电极02的表面，以去除下部电极02的静电残留。由于下部电极02长期受玻璃磨损和等离子体轰击，表面活性易发生变化，可通过吸附体卷22对下部电极02表面进行静电处理，从而改善和改变下部电极02的表面活性。此外，由于下部电极02的氦气孔直径非常细小，如果部分氦气孔被气路带来的细小颗粒阻塞，将导致基板的冷却效果差异，从而产品刻蚀率变化，因此，可将吸附体卷22接触下部电极02后，在第一驱动机构4的带动下，吸附体卷22快速的往复展开和收缩，对下部电极02形成振动冲击波，将氦气孔的阻塞物振松而被静电10吸走，以保证产品刻蚀率一致。
[0025]为了实现吸附体卷辊2上的吸附体卷22逐圈的展开和收缩，第一驱动机构4可采用电机带动齿轮和伸缩臂的结构、气缸带动伸缩臂的结构等多种结构，也可选择如图2所示的结构，第一驱动机构4由齿轮41、齿条42、第一连接臂43、第二连接臂44以及第一气缸45组成,第一气缸45的活塞杆与齿条42固定连接，同时，齿轮41与齿条42相卩齿合,齿轮41通过齿轮旋转轴固定于固定架3上，第一连接臂43的一端与齿轮41固定连接，另一端与第二连接臂44的一端铰接，第二连接臂44的另一端与转轴21固定连接，由此，第一气缸45的活塞杆可带动着齿条42向靠近对接门7方向或者远离对接门7方向移动，齿条42移动带动着齿轮41转动，随着齿轮41的转动，第一连接臂43可带动着第二连接臂44向靠近对接门7方向或者远离对接门7方向移动，当第二连接臂44向靠近对接门7方向移动时，则吸附体卷22可展开，相反，当第二连接臂44向远离对接门7方向移动，则吸附体卷22可卷到转轴21上。
[0026]第一气缸45可设置于壳体I内部，也可设置于壳体I外部，为了节省制作壳体I的材料，优选第一气缸45设置于壳体I外部，且第一气缸45的活塞杆穿过壳体I的侧壁后与齿条42固定连接，由此，节省了壳体I制作成本，同时，减小了壳体I的体积，节省了空间。
[0027]第一连接臂43和第二连接臂44之间可设置有复位弹簧8，也可不设置复位弹簧8，若设置复位弹8簧，则第二连接臂44向前移动时，复位弹簧8展开，第二连接臂44向后移动时，复位弹簧8收缩，由于复位弹簧8的收缩增加了第二连接臂44向后移动的力，从而使得第二连接臂44更易于向后移动，进而吸附体卷22更易于收缩，因此，优选第一连接臂43和第二连接臂44之间设置有复位弹簧8，由此，使得吸附体卷22更易于收缩。
[0028]为了实现固定架3与吸附体卷辊2整体沿第一直线往复移动，第二驱动机构5可包括气缸、液压缸等可直线推动或者拉回的结构，由于气缸操作简单、易于安装，因此，优选第二驱动机构5包括第二气缸5,同时,第二气缸5的活塞杆与固定架3固定连接,又由于吸附体卷22的起始端固定于固定架3上，由此，第二气缸5的活塞杆可推动或者拉回固定架3与吸附体卷辊2整体沿第一直线往复移动。
[0029]第二气缸5和第一气缸45相同，既可设置于壳体I内部，也可设置于壳体I外部，为了节省制作壳体I的材料，优选第二气缸5设置于壳体I外部，同时，第二气缸5的活塞杆穿过壳体I的侧壁后与齿条42固定连接，由此，节省了制作壳体I的材料，同时，壳体I体积较小，节省了空间。
[0030]吸附体卷22可采用橡胶、塑料等绝缘材料制成，由于橡胶的绝缘性较好，橡胶表面更易于带有静电10，且不易损耗，因此，优选吸附体卷22由橡胶制成，由此，可使得吸附体卷22上易于带有静电10,且静电10量保持不变。
[0031]为了使吸附体卷22既可吸附玻璃碎片，又可在吸附后将玻璃碎片掉落到壳体I内，优选静电发生器6既可发出正电荷，也可发出负电荷，由此，吸附体卷22表面可带有正电荷静电10或者负电荷静电10，例如，吸附体卷22覆盖在玻璃碎片上时，静电发生器6使吸附体卷22表面带有正电荷静电10，完成对玻璃碎片的吸附并回到壳体I后，静电发生器6发出负电荷，中和了吸附体卷22表面上的正电荷静电10，则玻璃碎片失去吸附性而掉落到壳体I内；也可使吸附体卷22表面先带有负电荷静电10进行吸附碎片，再通过正电荷以中和负电荷，使附体卷表面失去吸附力，从而玻璃碎片掉落下来。
[0032]对接门7可手动开启和关闭，也可在对接门7上连接驱动电机9，驱动电机9带动着对接门7开启和闭合，为了操作方便，优选在对接门7上连接驱动电机9，通过驱动电机9带动着对接门7开启和闭合，方便操作。
[0033]在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0034]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种反应室清扫装置，其特征在于，包括: 壳体，所述壳体内设有真空空间，所述壳体的侧壁上设有对接门； 吸附体卷辊，所述吸附体卷辊设置于所述真空空间内，所述吸附体卷辊包括转轴和套设于所述转轴上的吸附体卷，所述吸附体卷可带静电； 固定架，所述固定架设置于所述真空空间内，所述吸附体卷的起始端固定于所述固定架上； 第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述转轴连接，且可带动所述吸附体卷辊相对于所述固定架移动； 第二驱动机构，所述第二驱动机构与所述固定架连接，且可带动所述固定架与所述吸附体卷辊整体沿第一直线往复移动,所述对接门位于所述第一直线上； 静电发生器，所述静电发生器与所述吸附体卷连接。
2.根据权利要求1所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述第一驱动机构包括齿轮、齿条、第一连接臂、第二连接臂以及第一气缸，所述第一气缸的活塞杆与所述齿条固定连接，所述齿轮与所述齿条相啮合，所述齿轮通过齿轮旋转轴固定于所述固定架上，所述第一连接臂的一端与所述齿轮固定连接，另一端与所述第二连接臂的一端铰接，所述第二连接臂的另一端与所述转轴固定连接。
3.根据权利要求2所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述第一气缸设置于所述壳体外部，所述第一气缸的活塞杆穿过所述壳体的侧壁后与所述齿条固定连接。
4.根据权利要求2或3所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述第一连接臂和第二连接臂之间设有复位弹簧。
5.根据权利要求1所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述第二驱动机构包括第二气缸，所述第二气缸的活塞杆与所述固定架固定连接。
6.根据权利要求5所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述第二气缸设置于所述壳体外部，所述第二气缸的活塞杆穿过所述壳体的侧壁后与所述固定架固定连接。
7.根据权利要求1所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述吸附体卷由橡胶制成。
8.根据权利要求1所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述静电发生器可发出正电荷和负电荷。
9.根据权利要求1所述的反应室清扫装置，其特征在于，所述对接门连接有驱动电机，所述驱动电机可带动对接门开启和闭合。
【文档编号】B08B6/00GK104148333SQ201410313221
【公开日】2014年11月19日 申请日期:2014年7月2日 优先权日:2014年7月2日
【发明者】张定涛, 陈程, 郑云友, 宋泳珍, 李伟 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司