一种二氧化硅清洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种二氧化硅清洗装置，包括圆锥体料斗和筛网，所述料斗上连接供水管所述料斗底部侧壁连接有风机的风管，风机出风口的水位高于料斗内的水位；风管设有两根支管，支管I和支管II，支管I和支管II伸入料斗内部，且该伸入部分垂直料斗直径。本实用新型涉及的这种二氧化硅清洗装置，比传统的清洗设备清洗的效率高，效果好，只需一次即可将石料中的杂质及石料上的污物去除。
【专利说明】 一种二氧化硅清洗装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种二氧化硅清洗装置，所述清洗装置包括料斗和筛网，所述料斗上连接供水管。
【背景技术】
[0002]沉淀水合二氧化硅，又称白炭黑，其化学式为Si02.η Η20。白炭黑是橡胶工业重要的补强材料，将白炭黑用于轮胎胎面，可以显著降低轮胎的滚动阻力，同时能保持较好的抗冰滑性和抗湿滑性，其耐磨性仅有稍许降低。
[0003]二氧化硅原石在加工前需要将其上的土砂等洗净采用使用。现在厂家清洗二氧化硅原石时都是人工使用水龙头直接冲洗，其清洗不干净，工人劳动强度大，费时费力，清洗速度慢。现也有使用简单的仪器设备对二氧化硅进行清理，但该设备技术陈旧，无法实现高效率，清洁的效果也不好，往往需要清洗一次之后再次清洗，反而，降低了效率。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的是提供一种二氧化硅清洗装置，能够有效的清洗二氧化硅，清洗的效果好，效率闻，只需清洗一次，无需返工。
[0005]为解决以上技术问题，本实用新型提供如下技术方案:一种二氧化硅清洗装置，所述清洗装置包括圆锥体料斗和筛网，所述料斗上连接供水管所述料斗底部侧壁连接有风机的风管，风机出风口的水位高于料斗内的水位；所述风管设有两根支管，支管I和支管II，支管I和支管II伸入料斗内部，且该伸入部分垂直料斗直径。
[0006]进一步地，所述料斗上部侧壁设有溢流口。
[0007]进一步地，所述料斗底部设有泄流口，泄流口上连接泄流阀。
[0008]本实用新型涉及的这种二氧化硅清洗装置，比传统的清洗设备清洗的效率高，效果好。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型一种二氧化硅清洗装置结构示意图。
【具体实施方式】
[0010]如图1所示，二氧化硅清洗装置包括料斗I和筛网4，所述料斗I上连接供水管23，所述料斗I底部侧壁连接有风机3的风管，风机出风口的水位高于料斗I内的水位。所述风管设有两根支管，支管I和支管II，支管I和支管II伸入料斗内部，且该伸入部分垂直料斗直径。在底部连接风管，且两个支管在共同作用下，在料斗内形成旋风，依靠风的力量对料斗内的二氧化硅进行旋转清洗，清洗效果更佳。
[0011]所述料斗I上部侧壁设有溢流口 5，该溢流口的设计，可以使石料中的杂质通过溢流从料斗内流出。
[0012]所述料斗16底部设有泄流口，泄流口上连接泄流阀，泄流阀的设计在于，将二氧化硅清洗完毕后，需要先将料斗内的水泄流掉，然后再将二氧化硅收集，并推入下一道工序。
[0013]所述供水管23连接于料斗底部侧壁，用于水箱供水，设在底部有利于清洗。
[0014]所述供水管23由可自动供水的水箱2供水，水箱底部连接水源22进行对水箱供水。
[0015]所述水箱2壁面上设有水位指示管21、水位报警装置和电磁阀或手动阀，可实现自动供水。
[0016]本实用新型所述的【具体实施方式】并不构成对本申请范围的限制，凡是在本实用新型构思的精神和原则之内，本领域的专业人员能够作出的任何修改、等同替换和改进等均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种二氧化硅清洗装置，所述清洗装置包括圆锥体料斗和筛网，所述料斗上连接供水管，其特征在于，所述料斗底部侧壁连接有风机的风管，风机出风口的水位高于料斗内的水位；所述风管设有两根支管，支管I和支管II，支管I和支管II伸入料斗内部，且该伸入部分垂直料斗直径。
2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅清洗装置，其特征在于，所述料斗上部侧壁设有溢流口。
3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅清洗装置，其特征在于，所述供水管连接于料斗底部侧壁。
4.根据权利要求1或3所述的一种二氧化硅清洗装置，其特征在于，所述供水管由可自动供水的水箱供水。
5.根据权利要求4所述的一种二氧化硅清洗装置，其特征在于，所述水箱壁面上设有水位指示管、水位报警装置和电磁阀或手动阀，水箱底部连接水源进行对水箱供水。
6.根据权利要求1所述的一种二氧化硅清洗装置，其特征在于，所述料斗底部设有泄流口，泄流口上连接泄流阀。
【文档编号】B08B3/10GK204093772SQ201420395400
【公开日】2015年1月14日 申请日期:2014年7月17日 优先权日:2014年7月17日
【发明者】王永庆 申请人:确成硅化学股份有限公司