专利名称：一种承载布槽的制作方法
技术领域：
本实用新型是与染布机有关，是在提供ー种可降低织物的浴比，以大量节省染布时染液的用量的改良式承载布槽。
背景技术：
按，长型染布机如依布匹运行的方式，可分为两种一为导布管12在胴身11上方，如图I所示，一般称之为上走式染布机。而另ー种导布管12在胴身11下方，则如图2所示，一般称之为下走式染布机。
现有的长型染布机无论是属于何种形式，其胴身11底部设有承载布槽13，如图3所示，该承载布槽13是盛装有染液14，使织物20通过导布管12后可随即进入承载布槽13底层的染液14中进行水浴处理以稳定其染剂。而为了让织物20均能沉浸于染液14内，使得其染液14需装填至足以供织物20之浸泡高度Hl ;该承载布槽13底部的断面是为呈一平面状，而该胴身11底部的断面为呈ー圆弧状，其圆弧状凹陷断面仍需由染液14加以填满，但其织物因受该承载布槽13的承载，而无法浸泡至圆弧状凹陷断面中的染液14范围中，因此将造成染液14使用的浪费，致针对此ー缺失，而有必要再加以改良，以求尽善尽美。
实用新型内容有鉴于此，本实用新型即在提供ー种可降低织物的浴比，以大量节省染布时染液的用量的改良式承载布槽，为其主要目的。为达到上述目的，本实用新型的改良式承载布槽是设于一染布机的胴身底部，用以承载染液，并可供织物通过；其中，该承载布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部。当织物承置于该承载布槽时，利用该下沉部的设置可让织物下沉接近该胴身底部，以大为降低染液的用量。依据上述主要结构特征，所述的下沉部可以为U型结构体。上述的U型结构体可以为ー弧面形式；或者可以为多个弧面相互连接而成；或者可以为多个平面相互连接而成。依据上述主要结构特征，所述的下沉部可以为W型结构体。上述的W型结构体可以为弧面形式；或者可以为多个平面相互连接而成。依据上述主要结构特征，所述的W型结构体顶面的中央处进ー步设有ー隔板，而将该承载布槽分为两个空间以供两条织物通过，而可在同一时间内，进行对ニ条织物的染色工作，大幅增加染色的效率。依据上述主要结构特征，所述的承载布槽设有多个排水孔。本实用新型的有益效果是所述ー种承载布槽是设于一染布机的胴身底部，用以承载染液，并可供织物通过；其中，该承载布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部，当织物承置于该承载布槽时，利用该下沉部的设置可让织物下沉接近该胴身底部，以大为降低染液的用量。
图I是一般上走式染布机的结构示意图。图2是一般下走式染布机的结构示意图。图3是现有承载布槽的使用配置參考图。图4是本实用新型中承载布槽一较佳实施例的使用配置參考图。图5是本实用新型中承载布槽第二实施例的使用配置參考图。图6是本实用新型中承载布槽第三实施例的使用配置參考图。主要组件符号说明 浸泡高度Hl浸泡高度H2胴身11导布管12承载布槽13染液14织物20承载布槽30下沉部31隔板3具体实施方式
本实用新型的特点，可參阅本案图式及实施例的详细说明而获得清楚地了解。如图4本实用新型承载布槽一较佳实施例的使用配置參考图所示，本实用新型的改良式承载布槽30主要设于染布机的胴身11底部，用以承载染液14，并可供织物20通过。其中，该承载布槽30的底部是朝胴身11底部凹伸有下沉部31，使该承载布槽30底部更为接近该胴身11底部，如图所示的实施例中，该下沉部31可以为W型结构体，且可以为弧面形式所构成；当然，也可如图5的第二实施例所示，可以为多个平面相互连接而成。当织物20承置于该承载布槽30时，利用该下沉部31的设置可让织物20下沉接近该胴身11底部，可降低该织物20的浸泡高度H2，可降低织物的浴比，以大量节省染布时染液的用量。再者，该W型结构体形式的下沉部31顶面的中央处进ー步设有ー隔板32，而将该承载布槽30分为两个空间以供两条织物20通过，而可在同一时间内，进行对ニ条织物20的染色工作，大幅増加染色的效率；另外，该承载布槽也设有多个排水孔(图未示)，增加排水效能。如图6的第三实施例所示，该承载布槽的下沉部31可以为U型结构体，且可以为一弧面形式所构成，或者可以为多个弧面相互连接而成；或者可以为多个平面相互连接而成。综上所述，本实用新型的技术内容及技术特点已掲示如上，然而熟悉本项技术的人士仍可能基于本实用新型的掲示而作各种不背离本案创作精神的替换及修饰。因此，本实用新型的保护范围应不限于实施例所掲示，而应包括各种不背离本实用新型的替换及修饰，并为以下的申请专利范围所涵盖。
权利要求1.ー种承载布槽,设于染布机的胴身底部,其特征在于,该承载布槽的底部为向胴身底部凹伸的下沉部。
2.根据权利要求I所述承载布槽，其特征在于，该下沉部为U型结构体。
3.根据权利要求2所述承载布槽，其特征在于，该U型结构体为ー弧面形式。
4.根据权利要求2所述承载布槽，其特征在干，该U型结构体为多个弧面相互连接而成。
5.根据权利要求2所述承载布槽，其特征在于，该U型结构体为多个平面相互连接而成。
6.根据权利要求I所述承载布槽，其特征在于，该下沉部为W型结构体。
7.根据权利要求6所述承载布槽，其特征在干，该W型结构体为弧面形式。
8.根据权利要求6所述承载布槽，其特征在干，该W型结构体为多个平面相互连接而成。
9.根据权利要求6所述承载布槽，其特征在干，该W型结构体的中央处顶部设有ー隔板。
10.根据权利要求1-9任一所述承载布槽,其特征在于,该承载布槽设有多个排水孔。
专利摘要本实用新型主要提供一种可降低织物的浴比，以大量节省染布时染液的用量的承载布槽。所述改良式承载布槽是设于一染布机的胴身底部，用以承载染液，并可供织物通过；其中，该承载布槽的底部是朝胴身底部凹伸有下沉部，当织物承置于该承载布槽时，利用该下沉部的设置可让织物下沉接近该胴身底部，以大为降低染液的用量。
文档编号D06B23/14GK202595486SQ20122026820
公开日2012年12月12日 申请日期2012年6月8日 优先权日2012年6月8日
发明者林韦廷 申请人:林韦廷