专利名称：一种抛光砖及其生产方法
技术领域：
本发明涉及一种瓷砖及其生产方法。
背景技术：
现有的抛光砖是采用传统配方作为基础浆加色制粉后，经压制成型为瓷砖坯体，然后经干燥、烧成、抛光而成。采用传统配方作为基础浆加色制粉虽然经过特定的布料工艺可生产出表面图案类似天然石材纹理的抛光砖，但抛光砖的表面图案与天然石材相比，缺乏立体效果，质感较差，缺乏玉石感觉，没有天然石材立体的、玉石般的那种天然效果。
发明内容
本发明的发明目的在于提供一种所制造出来的瓷砖表面图案具有天然石材所具有的玉石般质感的、立体效果的抛光砖及其生产方法。
本发明的抛光砖是这样实现的，由主要含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O的粉料经布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光制成，其中SiO2的含量为66-75％wt，Al2O3的含量为16-25％wt，MgO的含量为0.6-2.5％wt，K2O的含量为0.5-2.5％wt，Na2O的含量为4.5-10％wt。SiO2、Al2O3是制成玻璃体的主要成分，Na2O的作用是提升玻璃体的透明程度，Na2O的含量越高，玻璃体的透明性就越好，所制成的抛光砖的质感、立体感更好，但是，随着Na2O的含量的提升，玻璃体的脆性加大，为了解决产品的脆性问题，本发明采用了加大Al2O3的用量，并配以适量的MgO、K2O，从而使产品既具有天然石材所具有的玉石般的良好的质感、立体感，同时，又不容易脆裂。
这里，为了丰富抛光砖表面的图案，抛光砖上设有由色料经多管布料形成的色斑。
粉料采用的是超细粉。采用超细粉，可有效地降低抛光砖表面毛细孔的生成，减小毛细孔的孔径。
为了降低成本，抛光砖下面设有由传统陶瓷粉料构成的底层。
本发明的抛光砖的生产方法是这样实现的，依次包括粉料配制、布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光工序，其特别之处在于粉料配制中透明配方粉料主要由含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O中的一种或一种以上化学成分的一种或一种以上的物料经球磨、过筛除铁、制粉、陈腐、磨微粉制成，其中，制成的粉料中SiO2的含量为66-75％wt，Al2O3的含量为16-25％wt，MgO的含量为0.6-2.5％wt，K2O的含量为0.5-2.5％wt，Na2O的含量为4.5-10％wt。
为了丰富瓷砖表面的图案色彩，在布料工序中通过多管布料往透明配方粉料混入一种或一种以上的陶瓷色粉。
在布料工序中，先往模框内布设传统基体陶瓷粉料，然后再布设透明配方粉料。这样，制成的抛光砖就由底层和具有天然石材所具有的玉石般的良好的质感、立体感面层构成。
本发明与已有技术相比，所制造出来的瓷砖表面图案具有天然石材所具有的玉石般质感的、立体效果的优点。
图1为本发明抛光砖的结构示意图。
具体实施例方式现结合附图和实施例对本发明作进一步详细描述本发明的抛光砖的生产方法是这样实现的，依次包括粉料配制、布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光工序，其特别之处在于粉料配制中透明配方粉料主要由含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O中的一种或一种以上化学成分的一种或一种以上的物料经球磨、过筛除铁、制粉、陈腐、磨微粉制成，其中，制成的粉料中SiO2的含量为66-75％wt，Al2O3的含量为16-25％wt，MgO的含量为0.6-2.5％wt，K2O的含量为0.5-2.5％wt，Na2O的含量为4.5-10％wt，在布料工序中通过多管布料往透明配方粉料混入一种或一种以上的陶瓷色粉，在布料工序中，先往模框内布设传统基体陶瓷粉料，然后再布设透明配方粉料。多管布料是将两种或两种以上的陶瓷粉料通过各自的输送管道同时落入到一料斗上，然后料斗将这些粉料铺设在输送皮带或刮板上，再从输送皮带或刮板送到压机的模框内或直接从料斗将混有多种粉料的混合粉料布设到压机的模框内，由于没有经过搅拌，因此，混合陶瓷粉料中各种陶瓷粉料会形成无数的粉团，这样，所制造出来的抛光砖会因各种不同陶瓷粉料的物理性质不同而显现出不同的视觉效果，使抛光砖表面具有如天然石材般的花纹。
下表为各种实施例用料比例实施例1
所制成的抛光砖表面具有逼真的天然石材所具有的玉石般的良好的质感、立体感。
实施例2
所制成的抛光砖表面具备了天然石材所具有的玉石般的良好的质感、立体感。
实施例3
所制造出来的抛光砖表面具备了很好的天然石材所具有的玉石般的良好的质感、立体感。
上述的IL为烧出成分，在烧成工序中这部分会挥发掉，Fe2O3、TiO2、CaO是一些杂质。
由上述方法制造出来的抛光砖由主要含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O的粉料经布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光制成的面层1，其中SiO2的含量为66-75％wt，Al2O3的含量为16-25％wt，MgO的含量为0.6-2.5％wt，K2O的含量为0.5-2.5％wt，Na2O的含量为4.5-10％wt，在抛光砖上设有由色料经多管布料形成的色斑2，抛光砖面层1下面设有由传统陶瓷粉料构成的底层3。
权利要求
1.一种抛光砖，其特征在于由主要含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O的粉料经布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光制成，其中SiO2的含量为66-75％wt，Al2O3的含量为16-25％wt，MgO的含量为0.62.5％wt，K2O的含量为0.5-2.5％wt，Na2O的含量为4.5-10％wt。
2.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于抛光砖上设有由色料经多管布料形成的色斑。
3.根据权利要求1或2所述的抛光砖，其特征在于抛光砖下面设有由传统陶瓷粉料构成的底层。
4.根据权利要求1或2所述的抛光砖，其特征在于粉料采用的是超细粉。
5.一种抛光砖的生产方法，依次包括粉料配制、布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光工序，其特征在于粉料配制中透明配方粉料主要由含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O中的一种或一种以上化学成分的一种或一种以上的物料经球磨、过筛除铁、制粉、陈腐、磨微粉制成，其中，制成的粉料中SiO2的含量为66-75％wt，Al2O3的含量为16-25％wt，MgO的含量为0.6-2.5％wt，K2O的含量为0.5-2.5％wt，Na2O的含量为4.5-10％wt。
6.根据权利要求5所述的抛光砖的生产方法，其特征在于在布料工序中通过多管布料往透明配方粉料混入一种或一种以上的陶瓷色粉。
7.根据权利要求5或6所述的抛光砖的生产方法，其特征在于在布料工序中，先往模框内布设传统基体陶瓷粉料，然后再布设透明配方粉料。
8.根据权利要求5或6所述的抛光砖的生产方法，其特征在于含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O中的一种或一种以上化学成分的物料是湖南钠砂、水洗石粉、烧滑石粒、B2#水洗坭、A2洗坭。
全文摘要
一种抛光砖及其生产方法，其特别之处在于由主要含有SiO
文档编号C04B35/622GK1834057SQ20051010012
公开日2006年9月20日 申请日期2005年9月27日 优先权日2005年9月27日
发明者林家生, 文迪田, 刘汉津, 魏明东, 贾平, 刘建辉, 黄金宝, 周玉球, 汪海应, 杨文华 申请人:广东博华陶瓷有限公司