专利名称：地下室混凝土墙裂缝修补体的制作方法
技术领域：
地下室混凝土墙裂缝修补体技术领域-本实用新型涉及一种地下室混凝土墙裂缝修补结构。
技术背景现有的地下室混凝土墙裂缝，其修补一般采用水泥砂浆填充、抹平 的方法，工作效果不理想。 发明内容本实用新型的目的在于提供一种结构合理，修补效果好的地下室混 凝土墙裂缝修补体。本实用新型的技术解决方案是一种地下室混凝土墙裂缝修补体，包括具裂缝的基层，其特征是 在基层上涂布有4 5层聚氨酯涂膜层，在第二、第三层聚氨酯涂膜层之 间设置有2层玻璃丝布层。每层聚氨酯涂膜层的厚度为0.2 0.3mm。本实用新型结构合理，修补效果好，修补后再无渗漏现象发生。
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。 图1是本实用新型一个实施例的结构示图。
具体实施方式
一种地下室混凝土墙裂缝修补体，包括具裂缝的基层l，在基层上涂布有5层聚氨酯涂膜层2、 3、 4、 5、 6，在第二、第三层聚氨酯涂膜层3、 4之间设置有2层玻璃丝布层7、 8。每层聚氨酯涂膜层的厚度为 0.2 0.3mm。
权利要求1、一种地下室混凝土墙裂缝修补体，包括具裂缝的基层，其特征是在基层上涂布有4～5层聚氨酯涂膜层，在第二、第三层聚氨酯涂膜层之间设置有2层玻璃丝布层。
2、 根据权利要求1所述的地下室混凝土墙裂缝修补体，其特征是:每层聚氨酯涂膜层的厚度为0.2 0.3mm。
专利摘要本实用新型公开了一种地下室混凝土墙裂缝修补体，包括具裂缝的基层，在基层上涂布有4～5层聚氨酯涂膜层，在第二、第三层聚氨酯涂膜层之间设置有2层玻璃丝布层。本实用新型结构合理，修补效果好，修补后再无渗漏现象发生。
文档编号E04G23/02GK201169924SQ20082003218
公开日2008年12月24日 申请日期2008年3月18日 优先权日2008年3月18日
发明者叶士辉, 张家鹏, 朱海荣, 伟 陈 申请人:启东建筑集团有限公司