专利名称：一种新型西瓦的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种新型西瓦，尤其涉及一种具有隔热保温功能的西瓦。
背景技术：
西瓦即琉璃瓦，现有的使用于建筑中的西瓦多是单层结构，主要起到阻挡 阳光和风雨的作用，但这种单层结构的普通西瓦在夏季炎热的时候不能有效地 起到隔热的作用，在冬季寒冷的时候也不能有效地起到保温的作用。市面上， 亦有一些能起保温功能的瓦，如在施工方法上，采取在瓦与瓦之间的接触空间
置入由保温材料制成的材料层，起到一定的保温作用，但这种施工方法较为繁 杂，且不具备隔热的功能；亦发现有些瓦在制作过程中添加了保温材料，与瓦 同时烧制成型，这种瓦的保温效果有限，亦不能起到隔热的作用。
发明内容
为了弥补上述内容之不足，本实用新型提供一种新型西瓦，它结构简单， 施工方便，能有效地达到隔热和保温的目的。
为了达到上述之目的，本实用新型采用如下具体技术方案 一种新型西瓦， 其特征在于瓦体本身呈双层结构，上层与下层之间有一定空间的间隔，上层的 四侧与下层的四侧相连接，四侧中的某一側面上开有通气孔，上层的表面可以 喷涂各种装饰颜色和图案，下层的底面设置有多个凹孔，该凹孔的作用是增加 附着力，防止本实用新型在铺设完毕后因外力出现松动而掉落。
正是由于本实用新型采取了上述双层结构，在炎热的季节，由于照射在上 层所产生的热量被上层与下层之间所间隔的空间阻挡，使热量无法全部传导给 下层，这样就能有效地达到隔热的效果；在冬季里，本实用新型所采用的双层
3结构能有效地储存阳光照射所产生的热量，能有效地达到保温的效果。
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型顶面立体结构示意图； 图2为本实用新型底面立体结构示意图； 图3为本实用新型底面立体剖析结构示意图。
具体实施方式
如图1、图2、图3所示， 一种新型西瓦，其特征在于瓦体本身呈双层结构， 上层1与下层2之间有一定空间的间隔，上层1的四侧与下层2的四侧相连接， 后侧面上开有一通气孔3，下层2的底面设置有五个凹孔21 。
本实用新型结构简单，施工方便，能有效地达到隔热和保温的目的。
权利要求1、一种新型西瓦，其特征在于瓦体本身呈双层结构，上层(1)与下层(2)之间有一定空间的间隔，上层(1)的四侧与下层(2)的四侧相连接，四侧中的某一侧面上开有通气孔(3)，下层(2)的底面设置有多个凹孔(21)。
专利摘要一种新型西瓦，其特征在于瓦体本身呈双层结构，上层与下层之间有一定空间的间隔，上层的四侧与下层的四侧相连接，四侧中的某一侧面上开有通气孔，上层的表面可以喷涂各种装饰颜色和图案，下层的底面设置有多个凹孔。本实用新型结构简单，施工方便，能有效地达到隔热和保温的目的。
文档编号E04D1/02GK201326248SQ200820229278
公开日2009年10月14日 申请日期2008年12月2日 优先权日2008年12月2日
发明者王卫清 申请人:王卫清