专利名称：具有凹凸抛光釉中彩的陶瓷砖制造工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及建筑陶瓷的技术领域，特别是釉面装饰陶瓷砖改进工艺。
背景技术：
抛光砖是陶瓷墙地砖的主流产品之一，其表面光洁亮丽，质地坚硬耐磨而倍受广 大消费者的青睐与喜爱，市场认知度相当高。然而，亮丽的抛光砖背后，也隐藏着许多的危 机。1、是对原材料的要求相当高，特别是对优质粘土、高白度瓷砂(低含铁量长石)的选择 很苛刻；2、是冷加工切削量比较大，一般原料利用率只有85%，并且需要消耗庞大的电力 (抛光加工)、产生大量的固体废弃物；3、是产品花式比较少，目前一般只局限于渗花砖和 微粉砖两大系列，产品设计的空间比较窄；4、是容易吸脏，尽管经过加工后的防污剂处理， 有了很大的进步，然而未能彻底解决这一行业难题。而另一方面，仿古釉面砖是近几年发展 起来的新产品系列，一般采用釉面装饰，因此，花式品种丰富、创作空间大，对原材料要求较 低，甚至可以大量使用低品位原料和工业废渣，非常符合国家节能减排的政策导向，防污问 题也得到了彻底的解决。然而，釉面砖由于缺乏抛光砖的晶莹亮丽特点，虽然防滑效果好， 但其色彩、纹理氛围过于古旧、粗旷，一般消费者不太接受，在消费者心目中的受欢迎或使 用量的程度仍然比较低。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足之处，提出一种既有抛光砖的耐磨性，又有 釉面砖的多变花色和色泽感，又有较佳防滑、防污性能的具有凹凸抛光釉中彩的陶瓷砖制 造工艺，使陶瓷砖面具有抛光砖光洁亮丽装饰效果的同时，既有纹理细腻又带有细线条，质 感丰润又透浊交融，颜色明亮华丽且釉层下面的图案产生强烈的视觉立体效果。本发明采用的技术方案如下具有凹凸抛光釉中彩的陶瓷砖制造工艺，包括有传 统的砖坯成型工序，印花工序，施釉工序，高温烧成工序，抛光工序，其特征在于第一步，砖 坯成型、干燥后，先在砖坯表面施一层底釉和第一层透明釉，然后在第一层透明釉上进行印 花工序，辊筒或丝网套印印花4-7次，再在印花颜料上叠施厚度为0. 7-1. 2mm的第二层透 明釉，第二层透明釉为干粉釉料，按印花的图案、纹理对应布施形成具有凹凸起伏的轮廓纹 样；第二步，送入辊道窑1200-1230°C高温烧制50-60分钟；第三步，采用硬质磨头对烧成的 砖坯进行平面抛光磨削，抛光磨削的深度控制在0. 1-0. 3mm，然后再用弹性软质磨头对平面 抛光磨削无法加工到的凹陷下去的砖坯凹坑面进行微量抛光处理，磨边后得成品。进一步 地，第二层透明釉是采用1200°C高温一次烧成的高折射率的透明釉。经硬质磨头抛光磨削 的平面其光泽度大于等于85°，经弹性软质磨头抛光磨削的凹坑面其光泽度为35-45°。 凹坑面与釉面平面深度均在0. 4-0. 6mm,且深浅不一。砖面通过高光泽的平面和低光泽的 凹坑面相结合的釉面，对光线的反射、折射不一，而且使透明釉下面的图案产生强烈的立体 感，达到釉中出彩的立体效果。本发明的制造工艺具有如下优点
1、整个砖面具有抛光砖光洁亮丽装饰效果的同时，既有纹理细腻又带有细线条， 质感丰润、细腻、柔和又透浊交融，颜色明亮华丽。2、不规则凹面与平面相结合，部份图案随线条位置留下立体的凹坑，经过柔性抛 光后，凹坑自然、顺畅、逼真，不但视觉上有立体效果，而且手感触摸也有立体效果，与大自 然的石材如同一辙。3、砖的表面经抛光处理的面积比传统全抛光砖的要少，其防污性能大大提高，同 时砖表面具有的凹凸纹理，使其防滑性能也大大提高。4、减少了废弃物和污染物的排放量，节约了能源，降低了资源消耗，增加了效益， 达到节能减排清洁生产的目的。5、突破了现有仿古釉面砖和抛光砖的传统生产局限，在材料的研究和仿古砖施釉 印花、抛光技术方面为行业提供了新的工艺途径。
图1是本发明形成抛光平面的剖面结构示意图；图2是本发明形成抛光凹坑面的剖面结构示意图。
具体实施例方式本发明主要包括有砖坯成型工序，印花工序，施釉工序，高温烧成工序，抛光工序。 其中，砖坯成型工序通过常规的陶瓷生产工艺进行原料配方，球磨，喷雾干燥后制成粉料， 然后用成型模具压制砖坯。高温烧成工序是在辊道窑1200-123(TC高温烧制50-60分钟，这 些与传统技术类同。特别之处在于印花工序、施釉工序和抛光工序这三个工序的改进。印花工序和施釉工序的特点是在砖坯表面先施一层底釉和一层透明釉，接着进 行多次辊筒或丝网套印花一为保证花式效果，一般印花次数为4-7次，然后在印花颜料上 叠施一层厚度为0. 7-1. 2mm的第二层透明釉料，第二层透明釉为干粉釉料，按印花的图案、 纹理对应布施形成具有凹凸起伏的轮廓纹样，形成“立体面釉釉中彩”的釉层结构。接着砖坯进入高温烧成工序。其中，第二层透明釉是一种适合1200°C高温一次烧 成的高折射率的高透明釉。由于高温一次烧成，砖坯中的有机物、碳酸盐等的分解和挥发， 及多层釉多层印花颜料的工艺增加了克服釉面针孔和釉层气泡的难度，对釉料的要求更 高。通过釉料配方工艺的调整，在釉料中引入一种特殊的消泡材料(XP-R)。这种特殊的消 泡材料(XP-R)的使用是直接改善釉料的高温熔融性能，克服一次烧成时由于坯体中的有 机物、碳酸盐等的分解和挥发导致的釉层气泡，最终使釉层致密、无析晶、无微气泡，满足了 釉层对光泽、透明、硬度高的要求，适用于高温一次烧成。砖坯烧成后，进行抛光工序，参见图1和图2，核心是采用硬质磨头1刚性抛光平面 与弹性软质磨头2柔性抛光凹面相结合的方法。烧成的砖坯3外表面有一层光亮透明的透 明釉4，其厚度为0. 7-0. 8mm,釉面呈凹凸不一的坑纹纹理，其凹坑面41与釉面平面深度均 在0. 4-0. 6mm,且深浅不一。先通过硬质磨头1进行一次刚性平面釉层抛光处理，釉层的平 面抛光面积为100%，抛光磨削深度控制在0. 15-0. 25mm，保证抛光磨削掉的仅仅是部分第 二层透明釉4(如图1所示)，里层的印花颜料5不会被磨削，仍有透明釉4将其覆盖，而被抛 光后的平面的光泽度> 85° ；然后再用弹性软质磨头2对平面抛光磨削无法加工到的凹陷
4下去的凹坑面41进行微量抛光处理(如图2所示)，被抛后凹坑面的光泽度可达35-45°， 磨边后得成品。这样，使成品陶瓷砖表面分别具有经过抛光后的高光泽的透明釉层平面42、经过 抛光后的低光泽度的透明釉凹面43。通过高光泽的平面和低光泽的凹面相结合的釉面，对 光线的反射、折射不一，而且使釉层下面的图案产生强烈的视觉立体效果，达到光泽度高， 釉中彩立体感强，装饰性好的效果。实施例一(1)砖坯成型通过常规的成型模具把粉料压制出规定要求规格的砖坯，厚度要求为10士0. 3mm。(2)施釉印花砖坯干燥后，在坯体表面先喷一层底釉后，接着按照设定的图案采用丝网印刷进 行2次印花，再采用辊筒印刷进行2次印花，总共印花次数为4次，然后再叠施一层釉层厚 度为1.05mm的干粉透明釉料，在该层透明釉是印花图纹对应纹样印成凹凸轮廓明显的釉 层，凹面深度为0. 7-0. 8mm深浅不一。(3)砖坯烧成把已施釉印花的砖坯上一层地浆后，送到辊道窑经过1200°C高温烧成。(4)釉面抛光砖坯烧成后放入抛光机中，先通过硬质磨头进行一次刚性平面釉抛光处理，釉面 的平面抛光面积100%，抛光磨削深度控制在0. 15-0. 25mm，被抛后平面的光泽度> 85° ； 然后采用弹性软质磨头对凹进去的釉面进行微量抛光处理，被抛后凹面的光泽度可达 35-45°。然后通过分选检验、包装、入库成为产品。实施例二 (1)砖坯成型通过常规的成型模具把粉料压制出规定要求规格的砖坯，厚度要求为 11. 5 + 0. 3mm。(2)施釉印花砖坯干燥后，在坯体表面先喷一层底釉后，接着按照设定的图案采用丝网印刷进 行2次印花，再采用丝网印刷进行3次印花，总共印花次数为5次，然后再叠施一层釉层厚 度为0. 9mm的干粉透明釉料，在该层透明釉是按印花图纹对应纹样印成凹凸轮廓明显的釉 层，凹坑面深度为0. 6-0. 75mm深浅不一。(3)砖坯烧成把已施釉印花的砖坯送到辊道窑经过1220°C高温烧成。(4)釉面抛光砖坯烧成后放入抛光机中，先通过硬质磨头进行一次刚性平面釉抛光处理，釉面 的平面抛光面积100%，抛光磨削深度控制在0. 15-0. 20mm，被抛后平面的光泽度> 85° ； 然后采用弹性软质磨头对凹进去的釉面进行微量抛光处理，被抛后凹面的光泽度达35°以 上。然后通过分选检验、包装、入库成为产品。实施例三(1)砖坯成型
通过常规的成型模具把粉料压制出规定要求规格的平面砖坯，厚度要求为 10士0. 3mm。(2)施釉印花砖坯干燥后，在坯体表面先喷一层底釉后，接着按照设定的图案采用辊筒印刷进 行3次印花，接着再喷一层透明釉料，再采用辊筒印刷进行2次印花，总共印花次数为5次， 然后再叠施一层釉层厚度为1. Omm的干粉透明釉料干粉，在该层透明釉是按釉中彩图纹对 应纹样印成凹凸轮廓明显的釉层，凹坑面深度为0. 6-0. 7mm深浅不一。(3)砖坯烧成把已施釉印花的砖坯送到辊道窑经过1230°C高温烧成。(4)釉面抛光砖坯烧成后放入抛光机中，先通过硬质磨头进行一次刚性平面釉抛光处理，釉面 的平面抛光面积100%，抛光磨削深度控制在0. 1-0. 2mm，被抛后平面的光泽度> 85° ； 然后采用弹性软质磨头对凹进去的釉面进行微量抛光处理，被抛后凹面的光泽度可达 35-45°。然后通过分选检验、包装、入库成为产品。实施例四(1)砖坯成型通过常规的成型模具把粉料压制出规定要求规格的平面砖坯，厚度要求为 12士0. 3mm。(2)施釉印花砖坯干燥后，在坯体表面先喷一层底釉后，接着按照设定的图案采用辊筒印花工 艺进行3次印花，接着再喷一层透明釉料，再采用辊筒印花工艺进行3次印花，总共印花次 数为6次，然后再叠施一层釉层厚度为1. 05mm的干粉透明釉料，在该层透明釉是按印花图 纹对应纹样印成凹凸轮廓明显的釉层，凹坑面深度为0. 6-0. 8mm深浅不一。(3)砖坯烧成把已施釉印花的砖坯上一层地浆后，送到辊道窑经过1230°C高温烧成。(4)釉面抛光砖坯烧成后放入抛光机中，先通过硬质磨头进行一次刚性平面釉抛光处理，釉面 的平面抛光面积100%，抛光磨削深度控制在0. 15-0. 2mm，被抛后平面的光泽度> 85° ； 然后采用弹性软质磨头对凹进去的釉面进行微量抛光处理，被抛后凹面的光泽度可达 35-45°。然后通过分选检验、包装、入库成为产品。综上所述，以上仅列举了几种较佳的实施方式，其它等同、类同的工艺方法均应属 于本专利的保护范畴，这里不再赘述。
权利要求
一种起网机，其特征在于包括机架、牵引轮、定位轮和压轮机构，机架一侧安装牵引轮，牵引轮由安装在机架内的动力装置带动旋转，所述的牵引轮下方两旁各设一定位轮，压轮机构上的压轮压在牵引轮上。
2.根据权利要求1所述的一种起网机，其特征在于所述的渔网的纲绳从一定位轮下 方向牵引轮上方绕过后再经另一定位轮下方穿出，压轮压在纲绳上。
3.根据权利要求2所述的一种起网机，其特征在于所述的牵引轮圆周表面上设有凹 槽，所述的纲绳定位在凹槽内。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种起网机，其特征在于所述的牵引轮圆周表面套 有胶套。
5.根据权利要求4所述的一种起网机，其特征在于所述的牵引轮直径大于等于45cm。
6.根据权利要求1、2或3所述的一种起网机，其特征在于所述的动力装置是液压马达。
7.根据权利要求1、2或3所述的一种起网机，其特征在于所述的牵引轮为多边形柱 体，或者是圆柱体。
8.根据权利要求2或3所述的一种起网机，其特征在于所述的压轮机构包括压轮、曲 轴、牵引轮外罩，所述压轮与曲轴一端固定连接起来，在牵引轮的一侧、机架上安装有牵引 轮外罩，牵引轮外罩的外表面凸出若干个轴套，曲轴的中部套在轴套里面。
9.根据权利要求8所述的一种起网机，其特征在于所述的压轮机构还包括拉簧和横 杆，所述的曲轴的尾部的一端固定横杆，横杆的一端连接拉簧，拉簧的另一端连接到牵引轮 外罩上。
全文摘要
本发明涉及具有凹凸抛光釉中彩的陶瓷砖制造工艺，在传统工序的基础上，先在砖坯表面施一层底釉和第一层透明釉，然后在第一层透明釉上进行印花工序，印花4-7次，再在印花颜料上叠施厚度为0.7-1.2mm的干粉透明釉，并按印花的图案纹理对应布施形成具有凹凸起伏的轮廓纹样；1200-1230℃高温烧制后，采用硬质磨头对烧成的砖坯进行平面抛光磨削，抛光磨削的深度控制在0.1-0.3mm，然后再用弹性软质磨头对平面抛光磨削无法加工到的凹陷下去的砖坯凹坑面进行微量抛光处理，本工艺可使陶瓷砖面具有抛光砖光洁亮丽装饰效果的同时，既有纹理细腻又带有细线条，质感丰润又透浊交融，颜色明亮华丽且釉层下面的图案产生强烈的视觉立体效果，是对陶瓷砖产品风格的一种创新。
文档编号C04B33/34GK101905965SQ200910040070
公开日2010年12月8日 申请日期2009年6月3日 优先权日2009年6月3日
发明者李志林, 王伟, 黄海发 申请人:佛山市简一陶瓷有限公司