专利名称：高透可钢化低辐射镀膜玻璃及其制造方法
技术领域：
本发明涉及高透低辐射玻璃，尤其是一种后续热处理效果好的高透可钢化低辐射
镀膜玻璃及其制造方法。
背景技术：
住宅节能中空玻璃更多的是采用高透玻璃，而高透可钢化低辐射镀膜玻璃，在近 几年的推广使用中，一直存在诸多问题 1、玻璃钢化后颜色不稳定，使玻璃在后续加工中、在使用中存在较大的质量风险。 2、钢化后产品颜色混浊，可视效果差，影响了产品的推广使用。 3、钢化前、钢化后外观缺陷多，如脱膜、膜层易氧化等，使产品在后续使用中，造成
大量的废品，给使用者和生产者带来较大的经济损失，并影响了公司声誉。 4、玻璃钢化后辐射率升高超过0. 15，超过国家标准，节能效果不理想等问题。 由于以上问题的存在，使高透可钢化低辐射镀膜玻璃推广遇到了较大的障碍，很
多客户使用一次后，不敢继续推广使用。国外产品乘机占领了市场。国内镀膜玻璃公司只有
解决了高透可钢化低辐射存在的以上问题，才能更好地促进住宅节能低辐射玻璃的推广，
更好地占领市场，更好地为客户、社会创造更好的效益。
发明内容
本发明针对上述现有高透可钢化低辐射镀膜玻璃的不足，提供一种耐热性能更好 的高透可钢化低辐射镀膜玻璃及其制造方法，该玻璃可在6S(TC 71(TC之间的温度条件 下进行钢化，且钢化后膜层牢固，颜色稳定，产品厚度从以前的不超过8mm，提高到12mm。
为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案为 —种高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板向外依次镀制有 抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、金属隔离膜层、低辐射功能膜层、金属隔离膜层、抗反射膜 层、耐高温阻燃膜层、保护层。 —种高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法，包括玻璃基板的清洗、烘干、镀膜、 包装，所述镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为5X10—6mbar以下的环境内，按以 下次序自玻璃基板向外依次镀制， (1)、在玻璃基板上镀制抗反射膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，ZnSn 靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为55 60nm。所制得的抗反射膜层为 氧化锌锡(ZnSnOx)。 (2)、镀制耐高温阻燃膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Sb靶在氧气氛 下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为45 50nm。所制得的耐高温阻燃膜层为氧化锑 (SbOx)。 (3)、镀制金属隔离膜层利用平面阴极，在直流电源的控制下，NiCr靶在氩氧气 氛中，其中氧气比重为5% ，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为4 5nm。所制得的金属隔离膜层为镍铬合金(NiCr0x)。 (4)、镀制低辐射功能膜层利用平面阴极，在直流电源的控制下，Ag靶在氩气氛 中，溅射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm。所制得的低辐射功能膜层为金属银(Ag)。
(5)、镀制金属隔离膜层利用平面阴极，在直流电源的控制下，NiCr靶在氩氧气 氛中，其中氧气比重为5% ，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为5 6nm。所制得的金属 隔离膜层为镍铬合金(NiCrOx)。 (6)、镀制抗反射膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，ZnSn靶在氧气氛下 溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为55 60nm。所制得的抗反射膜层为氧化锌锡 (ZnSnOx)。 (7)、镀制耐高温阻燃膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Sb靶在氧气氛 下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为45 50nm。所制得的耐高温阻燃膜层为氧化锑 (SbOx)。 (8)、镀制保护层，利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Si靶在氧气氛下溅射沉
积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为35 40nm。所制得的保护层为氧化硅(SiOx)。 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法，其镀膜工艺采用真空磁控溅射方
式，在真空度为5X10—6mbar以下的环境内，利用高压电离工艺气体，轰击靶材表面，获得的
耙材离子沉积在玻璃表面上，膜层厚度通常在几纳米 几十纳米范围内。 本发明设计原理如下 本发明选用性能更优异的镀膜材料作为保护材料，提高了产品耐高温的能力，对 低辐射功能层起到了更好的保护作用。 早期的介质保护材料通常选用SnOx、 ZnOx、 TiOx，由于其微观结构为柱体多孔结 构，对空气中的水和硫化物有很强的渗透性和扩散效果，从而导致薄膜的耐久性、耐高温性 能退化，常导致膜层易氧化。耐腐蚀、耐磨性差，膜层与玻璃表面的附着力下降，导致产品的 使用寿命短，钢化后颜色不稳定等性能缺陷。 选用性能更优越的镀膜介质保护材料，如ZnSnOx、 SbOx，由于其材料结构致密、平 滑，新材料具有更好的物理性能和抗化学腐蚀性能。镀出来的膜层具有很强的抗腐蚀、抗机 械划伤、抗高温的性能，从而提高了产品的后续加工性能和使用寿命。 采用纯氧对介质保护材料进行溅射，确保了膜层材料的纯度，减少了膜层掺杂的 杂质，使膜层结构更完整，结合力更高，有效地保证了膜层的致密度，有效地保证了产品生 产的稳定性。 由于镀膜材料结构致密、平滑，提高了产品耐高温的能力，钢化前、后膜层牢固，对 低辐射功能层起到了更好的保护作用，钢化后低辐射功能层Ag不易氧化。从而提高了产品 钢化前、钢化后的颜色的稳定性，且产品钢化后通透性更高，产品颜色更清澈、更炫丽，提升 玻璃幕墙外观品质。 另外，低辐射膜层两边的金属隔离膜层镍铬合金(NiCrOx)，在加热过程中，对部分 渗透的氧具有较好的亲合力，有效的捕捉了氧分子，更好的保护了低辐射功能层Ag，另外由 于部分与氧化合，形成NiCrOx有效地提高了产品的可见光透过率，提高了产品的通透性。
由于使用阻燃材料氧化锑作为镀膜材料，提高了膜层耐高温的冲击能力，提高 了膜层对功能层Ag的保护能力，使其耐热性能优于传统的镀膜材料，解决了高透可钢化后颜色变化较大的问题；钢化后外观缺陷多的问题；玻璃辐射率偏高的问题。
以下结合附图和具体实施方式
对本发明作进一步说明。
图1为本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
具体实施例方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步说明，但本发明并不受以下实施例所限定。 各实施例请参见附图l。
实施例1 : 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板l，玻璃基板1向外依次镀制有 抗反射膜层2、耐高温阻燃膜层3、金属隔离膜层4、低辐射功能膜层5、金属隔离膜层6、抗反 射膜层7、耐高温阻燃膜层8、保护层9。 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法如下
—、玻璃基板1的清洗、烘干。 二、在玻璃基板1上进行镀膜。该镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为 5X10—6mbar以下的环境内，按以下次序自玻璃基板1向外依次镀制 (1)、在玻璃基板1上镀制抗反射膜层2 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下， ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为55nm。所制得的抗反射膜层2 为ZnSn03。 (2)、在抗反射膜层2上镀制耐高温阻燃膜层3 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为50nm。所制得的耐高温阻燃 膜层3为Sb203。 (3)、在耐高温阻燃膜层3上镀制金属隔离膜层4 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为 5nm。所制得的金属隔离膜层4为NiCr03，且NiCr03部分氧化。 (4)、在金属隔离膜层4上镀制低辐射功能膜层5 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，Ag靶在氩气氛中，溅射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm。所制得的低辐射功能 膜层5为金属Ag。 (5)、在低辐射功能膜层5上镀制金属隔离膜层6 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为 6nm。所制得的金属隔离膜层6为NiCr03，且NiCr03部分氧化。 (6)、在金属隔离膜层6上镀制抗反射膜层7 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为60nm。所制得的抗反射膜 层7为ZnSn03。 (7)、在抗反射膜层7上镀制耐高温阻燃膜层8 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为50nm。所制得的耐高温阻燃 膜层8为Sb203。
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(8)、在耐高温阻燃膜层8上镀制保护层9，利用旋转阴极，在中频电源的控制下， Si靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为40nm。所制得的保护层9为Si02。
三、成品检验、包装。
实施例2 : 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板l，玻璃基板1向外依次镀制有 抗反射膜层2、耐高温阻燃膜层3、金属隔离膜层4、低辐射功能膜层5、金属隔离膜层6、抗反 射膜层7、耐高温阻燃膜层8、保护层9。 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法如下
—、玻璃基板1的清洗、烘干。 二、在玻璃基板1上进行镀膜。该镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为 5X10—6mbar以下的环境内，按以下次序自玻璃基板1向外依次镀制 (1)、在玻璃基板1上镀制抗反射膜层2 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下， ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为60nm。所制得的抗反射膜层2 为ZnSn04。 (2)、在抗反射膜层2上镀制耐高温阻燃膜层3 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为45nm。所制得的耐高温阻燃 膜层3为Sb205。 (3)、在耐高温阻燃膜层3上镀制金属隔离膜层4 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为 4nm。所制得的金属隔离膜层4为NiCr04，且NiCr04部分氧化。 (4)、在金属隔离膜层4上镀制低辐射功能膜层5 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，Ag靶在氩气氛中，溅射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm。所制得的低辐射功能 膜层5为金属Ag。 (5)、在低辐射功能膜层5上镀制金属隔离膜层6 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为 5nm。所制得的金属隔离膜层6为NiCr04，且NiCr04部分氧化。 (6)、在金属隔离膜层6上镀制抗反射膜层7 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为55nm。所制得的抗反射膜 层7为ZnSn04。 (7)、在抗反射膜层7上镀制耐高温阻燃膜层8 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为45nm。所制得的耐高温阻燃 膜层8为Sb205。 (8)、在耐高温阻燃膜层8上镀制保护层9，利用旋转阴极，在中频电源的控制下， Si靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为35nm。所制得的保护层9为Si03。
三、成品检验、包装。
实施例3: 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板l，玻璃基板1向外依次镀制有 抗反射膜层2、耐高温阻燃膜层3、金属隔离膜层4、低辐射功能膜层5、金属隔离膜层6、抗反 射膜层7、耐高温阻燃膜层8、保护层9。
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本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法如下
—、玻璃基板1的清洗、烘干。 二、在玻璃基板1上进行镀膜。该镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为 5X10—6mbar以下的环境内，按以下次序自玻璃基板1向外依次镀制 (1)、在玻璃基板1上镀制抗反射膜层2 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下， ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为56nm。所制得的抗反射膜层2 为ZnSn04、 ZnSn03的混合物。 (2)、在抗反射膜层2上镀制耐高温阻燃膜层3 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为49nm。所制得的耐高温阻燃 膜层3为Sb205、 Sb203的混合物。 (3)、在耐高温阻燃膜层3上镀制金属隔离膜层4 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为
4. 7nm。所制得的金属隔离膜层4为NiCr04、NiCr03的混合物，且NiCr04、NiCr03部分氧化。
(4)、在金属隔离膜层4上镀制低辐射功能膜层5 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，Ag靶在氩气氛中，溅射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm。所制得的低辐射功能 膜层5为金属Ag。 (5)、在低辐射功能膜层5上镀制金属隔离膜层6 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为
5. 8nm。所制得的金属隔离膜层6为NiCr04、NiCr03的混合物，且NiCr04、NiCr03部分氧化。
(6)、在金属隔离膜层6上镀制抗反射膜层7 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为59nm。所制得的抗反射膜 层7为ZnSn04、 ZnSn03的混合物。 (7)、在抗反射膜层7上镀制耐高温阻燃膜层8 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为46nm。所制得的耐高温阻燃 膜层8为Sb205、 Sb203的混合物。 (8)、在耐高温阻燃膜层8上镀制保护层9，利用旋转阴极，在中频电源的控制下，
Si靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为37nm。所制得的保护层9为Si03、
Si02的混合物。 三、成品检验、包装。 实施例4 : 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板l，玻璃基板1向外依次镀制有 抗反射膜层2、耐高温阻燃膜层3、金属隔离膜层4、低辐射功能膜层5、金属隔离膜层6、抗反 射膜层7、耐高温阻燃膜层8、保护层9。 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法如下
—、玻璃基板1的清洗、烘干。 二、在玻璃基板1上进行镀膜。该镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为 5X10—6mbar以下的环境内，按以下次序自玻璃基板1向外依次镀制 (1)、在玻璃基板1上镀制抗反射膜层2 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下， ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为57nm。所制得的抗反射膜层2为ZnSn04。 (2)、在抗反射膜层2上镀制耐高温阻燃膜层3 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为48nm。所制得的耐高温阻燃 膜层3为Sb205。 (3)、在耐高温阻燃膜层3上镀制金属隔离膜层4 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为
4. 2nm。所制得的金属隔离膜层4为NiCr03，且NiCr03部分氧化。 (4)、在金属隔离膜层4上镀制低辐射功能膜层5 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，Ag靶在氩气氛中，溅射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm。所制得的低辐射功能 膜层5为金属Ag。 (5)、在低辐射功能膜层5上镀制金属隔离膜层6 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为
5. 5nm。所制得的金属隔离膜层6为NiCr04，且NiCr04部分氧化。 (6)、在金属隔离膜层6上镀制抗反射膜层7 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为57nm。所制得的抗反射膜 层7为ZnSn03。 (7)、在抗反射膜层7上镀制耐高温阻燃膜层8 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为48nm。所制得的耐高温阻燃 膜层8为Sb203。 (8)、在耐高温阻燃膜层8上镀制保护层9，利用旋转阴极，在中频电源的控制下， Si靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为38nm。所制得的保护层9为Si02。
三、成品检验、包装。
实施例5 : 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板l，玻璃基板1向外依次镀制有 抗反射膜层2、耐高温阻燃膜层3、金属隔离膜层4、低辐射功能膜层5、金属隔离膜层6、抗反 射膜层7、耐高温阻燃膜层8、保护层9。 本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法如下
—、玻璃基板1的清洗、烘干。 二、在玻璃基板1上进行镀膜。该镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为 5X10—6mbar以下的环境内，按以下次序自玻璃基板1向外依次镀制 (1)、在玻璃基板1上镀制抗反射膜层2 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下， ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为58nm。所制得的抗反射膜层2 为ZnSn04、 ZnSn03的混合物。 (2)、在抗反射膜层2上镀制耐高温阻燃膜层3 :利用旋转阴极，在中频电源的控制 下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为47nm。所制得的耐高温阻燃 膜层3为Sb203。 (3)、在耐高温阻燃膜层3上镀制金属隔离膜层4 :利用平面阴极，在直流电源的控 制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为 4. 5nm。所制得的金属隔离膜层4为NiCr04、NiCr03的混合物，且NiCr04、NiCr03部分氧化。
(4)、在金属隔离膜层4上镀制低辐射功能膜层5 :利用平面阴极，在直流电源的控制下，Ag靶在氩气氛中，溅射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm。所制得的低辐射功能膜层5为金属Ag。 (5)、在低辐射功能膜层5上镀制金属隔离膜层6 :利用平面阴极，在直流电源的控制下，NiCr耙在氩氧气氛中，其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为5. 3nm。所制得的金属隔离膜层6为NiCr03，且NiCr03部分氧化。 (6)、在金属隔离膜层6上镀制抗反射膜层7 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下，ZnSn靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为58nm。所制得的抗反射膜层7为ZnSn04。 (7)、在抗反射膜层7上镀制耐高温阻燃膜层8 :利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Sb靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为47nm。所制得的耐高温阻燃膜层8为Sb205、 Sb203的混合物。 (8)、在耐高温阻燃膜层8上镀制保护层9，利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Si靶在氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为39nm。所制得的保护层9为Si03、Si02的混合物。
三、成品检验、包装。 采用上述方法制造的高透可钢化低辐射镀膜玻璃的光学性能和热学性能如下 辐射率低《0. 12，钢化后可见光透过率为70 85%，可见光反射率为11%，产品
结构为6Low-E+12A+6的传热系数U值为1. 75，产品有很好的隔热效果。 此高透可钢化低辐射镀膜玻璃还具有钢化前、后膜层牢固，对低辐射功能层起到
了更好的保护作用，钢化后低辐射功能层Ag不易氧化。从而提高了产品钢化前、钢化后的
颜色的稳定性，且产品钢化后通透性更高，产品颜色更清澈、更炫丽，提升玻璃幕墙外观品
质，具有非常好的推广前景。 总之，本发明采用独特的膜层结构，新型阻燃膜层材料氧化锑(SbOx)，提高了膜层产品的耐高温的性能，制造出的高透可钢化低辐射产品，能够在68(TC 71(rC的条件下进行钢化、热弯处理，钢化前后膜层牢固，光学性能稳定，膜层使用寿命提高等优点。成功解决了高透可钢化低辐射产品玻璃钢化后颜色不稳定；钢化后产品颜色混浊，可视效果差；钢化前、后易脱膜、氧化等外观缺陷。
权利要求
一种高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于所述玻璃基板向外依次镀制有抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、金属隔离膜层、低辐射功能膜层、金属隔离膜层、抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、保护层。
2. —种如权利要求1所述高透可钢化低辐射镀膜玻璃的制造方法，包括玻璃基板的 清洗、烘干、镀膜、包装，其特征在于所述镀膜工艺采用真空磁控溅射方式，在真空度为5X10—6mbar以下的环境内，按以下次序自玻璃基板向外依次镀制，(1) 、在玻璃基板上镀制抗反射膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，ZnSn靶在 氧气氛下溅射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为55 60nm ;(2) 、镀制耐高温阻燃膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Sb靶在氧气氛下溅 射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为45 50nm ;(3) 、镀制金属隔离膜层利用平面阴极，在直流电源的控制下，NiCr靶在氩氧气氛中， 其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为4 5nm ;(4) 、镀制低辐射功能膜层利用平面阴极，在直流电源的控制下，Ag靶在氩气氛中，溅 射沉积，功率为4Kw，沉积膜层厚度为8nm ;(5) 、镀制金属隔离膜层利用平面阴极，在直流电源的控制下，NiCr靶在氩氧气氛中， 其中氧气比重为5%，溅射沉积，功率为5Kw，沉积膜层厚度为5 6nm ;(6) 、镀制抗反射膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，ZnSn靶在氧气氛下溅射 沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为55 60nm ;(7) 、镀制耐高温阻燃膜层利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Sb靶在氧气氛下溅 射沉积，功率为60Kw，沉积膜层厚度为45 50nm ;(8) 、镀制保护层，利用旋转阴极，在中频电源的控制下，Si靶在氧气氛下溅射沉积，功 率为60Kw，沉积膜层厚度为35 40nm。
全文摘要
本发明涉及高透低辐射玻璃，尤其是一种后续热处理效果好的高透可钢化低辐射镀膜玻璃及其制造方法，包括玻璃基板，所述玻璃基板向外依次镀制有抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、金属隔离膜层、低辐射功能膜层、金属隔离膜层、抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、保护层。本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃能够在680℃～710℃的条件下进行钢化、热弯处理，钢化前后膜层牢固，光学性能稳定，膜层使用寿命提高等优点。成功解决了高透可钢化低辐射产品玻璃钢化后颜色不稳定；钢化后产品颜色混浊，可视效果差；钢化前、后易脱膜、氧化等外观缺陷。
文档编号C03C4/08GK101767939SQ20091015666
公开日2010年7月7日 申请日期2009年12月31日 优先权日2009年12月31日
发明者李文君 申请人:浙江东亚工程玻璃有限公司;李文君