专利名称：一种铂金坩埚的制作方法
技术领域：
一种铂金坩埚
技术领域：
本实用新型涉及一种铂金坩埚。
背景技术：
低熔点玻璃粉的熔解采用铂金坩埚的熔解方式。铂金坩埚在使用时，外表面与耐 火材料直接接触，高温条件下，受周围气氛影响，会形成氧化挥发，从而降低铂金坩埚的使 用周期，加大铂金消耗，引起制造成本的升高。 因铂金具有较高的价格，它的消耗量的多少直接影响到低熔点玻璃粉的制造成 本。因此必须控制铂金消耗量来降低生产成本。
实用新型内容
本实用新型目的是克服现有技术中的不足，提供一种在外表面设有的保护层，以
减少高温条件下铂金的氧化挥发，从而减少坩埚的铂金损耗。 本实用新型是通过以下技术方案实现的 —种铂金坩埚，用于熔解低熔点玻璃粉，包括上端开口的坩埚本体，所述的坩埚本 体安装在坩埚座上，其特征在于所述的坩埚本体外表面设有防止铂金坩埚高温条件下氧化 挥发的保护层。 如上所述的铂金坩埚，其特征在于所述的保护层为三氧化二铝涂层。 如上所述的铂金坩埚，其特征在于所述的保护层为二氧化硅涂层。 如上所述的铂金坩埚，其特征在于所述的保护层为二氧化硅和三氧化二铝混合物涂层。 如上所述的铂金坩埚，其特征在于所述的所述的坩埚本体底部放置在坩埚座内，
所述的保护层设置在坩埚本体的外表面上。 与现有技术相比，本实用新型有如下优点 本实用新型在坩埚本体外表面设有保护层，减少高温条件下铂金的氧化挥发，从 而起到保护铂金坩埚本体，减少铂金损耗，降低成本。
图1是本实用新型结构剖面图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行详细说明 —种铂金坩埚，用于熔解低熔点玻璃粉，包括上端开口的坩埚本体l，所述的坩埚 本体1安装在坩埚座2上，所述的坩埚本体1外表面设有防止铂金坩埚高温条件下氧化挥 发的保护层3。 所述的保护层3为三氧化二铝涂层或为二氧化硅涂层或为二氧化硅和三氧化二铝混合物涂层。 所述的坩埚本体1底部放置在坩埚座2内，坩埚座2两侧设置有加热元件，可以对 铂金坩埚进行加热，所述的保护层3设置在坩埚本体1的外表面上。 本实用新型在坩埚本体外表面设有保护层，涂层粉是一种高温陶瓷材料，其主要 成份八1203和Si(^，具有耐高温、耐化学侵蚀能力强等特点。将它与纯水调合后，涂抹在铂 金坩埚本体的外表面，减少高温下铂金的氧化挥发，从而起到保护铂金，减少铂金损耗之作
用，降低成本。
权利要求一种铂金坩埚，用于熔解低熔点玻璃粉，包括上端开口的坩埚本体(1)，所述的坩埚本体(1)安装在坩埚座(2)上，其特征在于所述的坩埚本体(1)外表面设有防止铂金坩埚高温条件下氧化挥发的保护层(3)。
2. 根据权利要求l所述的铂金坩埚，其特征在于所述的保护层(3)为三氧化二铝涂层。
3. 根据权利要求l所述的铂金坩埚，其特征在于所述的保护层(3)为二氧化硅涂层。
4. 根据权利要求2或3所述的铂金坩埚，其特征在于所述的所述的坩埚本体(1)底部 放置在坩埚座(2)内，所述的保护层(3)设置在坩埚本体(1)的外表面上。
专利摘要本实用新型公开了种铂金坩埚，用于熔解低熔点玻璃粉，包括上端开口的坩埚本体，所述的坩埚本体安装在坩埚座上，其技术方案的要点是，所述的坩埚本体外表面设有防止铂金坩埚高温条件下氧化挥发的保护层。本实用新型目的是克服现有技术中的不足，提供一种在外表面设有的保护层，以减少高温条件下铂金的氧化挥发，从而减少坩埚的铂金损耗。
文档编号C03B5/06GK201534815SQ200920059420
公开日2010年7月28日 申请日期2009年6月23日 优先权日2009年6月23日
发明者时东霞, 李珍 申请人:珠海彩珠实业有限公司