专利名称：爆气板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及蚀刻设备技术领域，尤其涉及一种爆气板。
技术背景目前，蚀刻机主要应用于航空、机械、标牌工业中，蚀刻机技术广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工的薄形工件等的加工。在半导体和线路版制程上，蚀刻更是不可缺的技术。玻璃蚀刻加工时，一般是将玻璃浸泡在蚀刻池中，利用蚀刻池中的蚀刻液对玻璃进行蚀刻，但是蚀刻池的液体一般都是静态的，蚀刻速度慢，蚀刻后的玻璃渣会残留在玻璃表面，使得玻璃蚀刻不均匀，影响蚀刻产品的质量
实用新型内容
本实用新型的目的就是针对现有技术存在的不足而提供一种能够促进蚀刻液翻滚、加快蚀刻速度的爆气板。为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是爆气板，它包括有爆气板本体，爆气板本体内部设有气腔，爆气板本体上表面开设有多个出气孔，多个出气孔分别与气腔连通，爆气板本体外部设有与气腔连通的进气孔。所述多个出气孔成矩阵方式排布。所述爆气板本体的前后两端上分别设有多个进气孔。所述出气孔的直径为O. 5 2mm。所述进气孔的直径为10 20mm。所述爆气板本体为矩形结构。本实用新型有益效果在于本实用新型包括有爆气板本体，爆气板本体内部设有气腔，爆气板本体上表面开设有多个出气孔，多个出气孔分别与气腔连通，爆气板本体外部设有与气腔连通的进气孔，使用时将本实用新型放在蚀刻池中，高压气体由进气孔进入气腔中，然后通过多个出气孔喷出，喷出的气体能够促进蚀刻池中的蚀刻液翻滚，加快蚀刻速度，蚀刻后的玻璃渣不会残留在玻璃表面，使得玻璃蚀刻均匀，蚀刻产品的质量好。
图I是本实用新型的结构示意图。图2是本实用新型的前视图。图3是本实用新型的局部剖视图。
具体实施方式
、[0015]
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明，见图I 3所示，爆气板，包括有爆气板本体1，爆气板本体I为矩形结构，结构简单，加工方便。爆气板本体I内部设有气腔2，爆气板本体I上表面开设有多个出气孔3，多个出气孔3分别与气腔2连通，爆气板本体I外部设有与气腔2连通的进气孔4。多个出气孔3成矩阵方式排布，喷气均匀，提高蚀刻液翻滚效果。爆气板本体I的前后两端上分别设有多个进气孔4，多方位进气，喷气更均匀。出气孔3的直径为O. 5 2mm,出气速度快。进气孔4的直径为10 20mm。使用时，将本实用新型放在蚀刻池中，高压气体由进气孔4进入气腔2中，然后通过多个出气孔3喷出，喷出的气体能够促进蚀刻池中的蚀刻液翻滚，加快蚀刻速度，蚀刻后的玻璃渣不会残留在玻璃表面，使得玻璃蚀刻均匀，蚀刻产品 的质量好。当然，以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。
权利要求1.爆气板，它包括有爆气板本体(I)，其特征在于所述爆气板本体(I)内部设有气腔(2)，爆气板本体(I)上表面开设有多个出气孔(3)，多个出气孔(3)分别与气腔(2)连通，爆气板本体(I)外部设有与气腔(2)连通的进气孔(4)。
2.根据权利要求I所述的爆气板，其特征在于所述多个出气孔(3)成矩阵方式排布。
3.根据权利要求I所述的爆气板，其特征在于所述爆气板本体(I)的前后两端上分别设有多个进气孔(4)。
4.根据权利要求I所述的爆气板，其特征在于所述出气孔(3)的直径为O.5 2mm。
5.根据权利要求I所述的爆气板，其特征在于所述进气孔⑷的直径为10 20mm。
6.根据权利要求I 5任意一项所述的爆气板，其特征在于所述爆气板本体(I)为矩形结构。
专利摘要本实用新型涉及蚀刻设备技术领域，尤其涉及爆气板，其包括有爆气板本体，爆气板本体内部设有气腔，爆气板本体上表面开设有多个出气孔，多个出气孔分别与气腔连通，爆气板本体外部设有与气腔连通的进气孔，使用时将本实用新型放在蚀刻池中，高压气体由进气孔进入气腔中，然后通过多个出气孔喷出，喷出的气体能够促进蚀刻池中的蚀刻液翻滚，加快蚀刻速度，蚀刻后的玻璃渣不会残留在玻璃表面，使得玻璃蚀刻均匀，蚀刻产品的质量好。
文档编号C03C15/00GK202529988SQ20122011739
公开日2012年11月14日 申请日期2012年3月23日 优先权日2012年3月23日
发明者李庆春 申请人:宏达光电玻璃(东莞)有限公司