自清洁釉料及其制备工艺、搪瓷的制作工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种自清洁釉料、该自清洁釉料的制备工艺以及一种搪瓷的制作工艺，所述自清洁釉料包括有按重量比计的如下成分：长石，5-10%；石英，5-10%；氧化钴，1-3%；氢氧化铝，20-30%；二氧化锰，2-8%；粘土，5-10%；瓷釉，50-70%；和氧化钛，2-5%。根据本发明实施例的自清洁釉料，增加了氧化钛，基于氧化钛的高乳浊，较好的耐酸性能和较强的热解催化性能，当作为搪瓷的面釉时，增强了搪瓷面釉的吸油性，吸油效果良好。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种自清洁釉料、一种自清洁釉料的制备工艺和一种搪瓷的制作工 艺。 自清洁釉料及其制备工艺、搪瓷的制作工艺
【背景技术】
[0002] 自洁搪瓷有自身净化的能力，它主要由催化剂、耐热结合剂（即熔块）及无光形成 剂组成。这种搪瓷主要用于烤箱，微波炉等烹调器具的内壁，由于材料本身的催化作用，可 使烧菜时飞溅出来的油脂氧化燃烧变成水蒸气和二氧化碳而挥发，从而达到自洁的目的。
[0003] 自洁搪瓷是随着世界市场上烤箱、烤炉及微波炉的问世发展起来的。在这些烹调 器的使用中，油脂粘附壁的问题急需解决，于是欧美人首先开发了自洁涂层用于烹调器上。 初期开发的自洁涂层有两种，即不使用催化剂的燃烧式自洁涂层和使用催化剂的连续式自 洁涂层。
[0004] 无论是燃烧式自洁涂层，还是连续式自洁涂层，烹调和清洗都要分别进行，烹调器 每使用几次就要周期性地加热一次进行清洗，因此，对烹调器的耐热强度和绝热性要求很 严，这样不仅使烹调器成本提高，而且在安全和节能方面也存在一定问题。
【发明内容】
[0005] 本发明旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一。
[0006] 为此，本发明的一个目的在于提出一种吸油效果良好的、用于制作搪瓷的自清洁 轴料。
[0007] 本发明的另一目的在于提出一种自清洁釉料的制备工艺。
[0008] 本发明的又一目的在于提出一种搪瓷的制作工艺。
[0009] 根据本发明实施例的自清洁釉料，包括有按重量比计的如下成分：长石，5-10%; 石英，5 -10% ;氧化钻，1-3% ;氧氧化错，20-30% ;_氧化猛，2-8% ;粘土，5-10% ;瓷轴，50-70% ; 和氧化钛，2-5%。
[0010] 根据本发明实施例的自清洁釉料，增加了氧化钛，基于氧化钛的高乳浊性能，较好 的耐酸性能和较强的热解催化性能，当作为搪瓷的面釉时，增强了搪瓷面釉的吸油性，吸油 效果良好。
[0011] 另外，根据本发明上述实施例的自清洁釉料还可以具有如下附加的技术特征：
[0012] 根据本发明的一个示例，所述瓷釉包括萤石和钴镍低温瓷釉。
[0013] 根据本发明的一个示例，所述萤石的重量占所述自清洁釉料的重量的10-20% (重 量比）。
[0014] 根据本发明的一个示例，所述钴镍低温瓷釉的重量占所述自清洁釉料的重量的 40-50% (重量比）。
[0015] 根据本发明实施例的自清洁釉料的制备工艺，包括以下步骤：a)称取预定重量的 上述任一项所述的自清洁釉料；b)将所述预定重量的自清洁釉料置于研磨机中研磨预定时 间；和C)得到釉浆。
[0016] 根据本发明的一个示例，所述研磨机为容量1吨的球磨机。
[0017] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为4小时至6小时。
[0018] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为5小时。
[0019] 根据本发明实施例的搪瓷的制作工艺，包括以下步骤：1)将上述任一项所述的自 清洁釉料的制备工艺所制得的釉浆加压喷涂到经过湿法底釉烧成后的搪瓷半成品上以形 成预定厚度的面釉；2)对具有所述预定厚度的面釉的搪瓷半成品进行烘干；和3)将经烘干 的具有所述预定厚度的面釉的搪瓷半成品在预定温度下烧成预定时间。
[0020] 根据本发明的一个示例，采用压力罐对所述釉浆进行加压。
[0021] 根据本发明的一个示例，所述预定厚度为350微米至450微米。
[0022] 根据本发明的一个示例，所述预定厚度为400微米。
[0023] 根据本发明的一个示例，所述预定温度为810摄氏度至910摄氏度。
[0024] 根据本发明的一个示例，所述预定温度为860摄氏度。
[0025] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为3小时至4小时。
[0026] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为3. 5小时。
[0027] 本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变 得明显，或通过本发明的实践了解到。
【专利附图】
【附图说明】
[0028] 本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变 得明显和容易理解，其中：
[0029] 图1是根据本发明实施例的自清洁釉料的制备工艺的流程图；
[0030] 图2是根据本发明实施例的搪瓷的制作工艺的流程图。
【具体实施方式】
[0031] 下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终 相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附 图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0032] 在本发明的描述中，需要理解的是，术语"中心"、"纵向"、"横向"、"长度"、"宽度"、 "厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"坚直"、"水平"、"顶"、"底" "内"、"外"、"顺时 针"、"逆时针"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于 描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特 定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0033] 此外，术语"第一"、"第二"仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性 或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有"第一"、"第二"的特征可以明示或 者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，"多个"的含义是两个或两个以 上，除非另有明确具体的限定。
[0034] 在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语"安装"、"相连"、"连接"、"固定"等 术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机 械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元 件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发 明中的具体含义。
[0035] 在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之"上"或之"下" 可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它 们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征"之上"、"上方"和"上面"包括第一 特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征 在第二特征"之下"、"下方"和"下面"包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表 示第一特征水平高度小于第二特征。
[0036] 下面详细介绍根据本发明实施例的自清洁釉料。
[0037] 根据本发明实施例的自清洁釉料，包括有按重量比计的如下成分：长石，5-10%; 石英，5 -10% ;氧化钻，1-3% ;氧氧化错，20-30% ;_氧化猛，2-8% ;粘土，5-10% ;瓷轴，50-70% ; 和氧化钛，2-5%。
[0038] 根据本发明实施例的自清洁釉料，增加了氧化钛，基于氧化钛的高乳浊性能，较好 的耐酸性能和较强的热解催化性能，当作为搪瓷的面釉时，增强了搪瓷面釉的吸油性，吸油 效果良好。
[0039] 根据本发明的一个示例，所述瓷釉包括萤石和钴镍低温瓷釉。
[0040] 根据本发明的一个示例，所述萤石的重量占所述自清洁釉料的重量的10-20% (重 量比）。
[0041] 根据本发明的一个示例，所述钴镍低温瓷釉的重量占所述自清洁釉料的重量的 40-50% (重量比）。
[0042] 根据本发明实施例的自清洁釉料，其吸油扩散面积达到2cm2,而国外产品扩散面 积仅仅为lcm 2。
[0043] 采用根据本发明实施例的自清洁釉料作为搪瓷釉料时，施釉重量降至100g左右， 而国外产品施釉量在150g左右，因此无论从成本还是从品质方面都得到很大的提高，产品 的风险性大大降低。
[0044] 通过以上对比可以看出，增添了氧化钛后，可以显著增强搪瓷面釉的吸油性能，吸 油效果达到了国际领先水平。
[0045] 下面参考图1来详细描述根据本发明实施例的自清洁釉料的制备工艺。
[0046] 根据本发明实施例的自清洁釉料的制备工艺，包括以下步骤：a)称取预定重量的 上述任一项所述的自清洁釉料；b)将所述预定重量的自清洁釉料置于研磨机中研磨预定时 间；和c)得到釉浆。
[0047] 所述釉浆参数范围：细度：4格-5格(拜耳筛测量所得);比重：175-180g/100ml ;附 着：125-130g。
[0048] 根据本发明的一个示例，所述研磨机为容量1吨的球磨机。
[0049] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为4小时至6小时。有利地，所述预定时间 为5小时。
[0050] 下面参考附图2来详细描述根据本发明实施例的搪瓷的制作工艺。
[0051] 根据本发明实施例的搪瓷的制作工艺，包括以下步骤：1)将上述任一项所述的自 清洁釉料的制备工艺所制得的釉浆加压喷涂到经过湿法底釉烧成后的搪瓷半成品上以形 成预定厚度的面釉；2)对具有所述预定厚度的面釉的搪瓷半成品进行烘干；和3)将经烘干 的具有所述预定厚度的面釉的搪瓷半成品在预定温度下烧成预定时间。
[0052] 根据本发明的一个示例，采用压力罐对所述釉浆进行加压。有利地，压力罐的压力 为1. 5Mpa左右。
[0053] 根据本发明的一个示例，所述预定厚度为350微米至450微米。
[0054] 根据本发明的一个示例，所述预定厚度为400微米。
[0055] 根据本发明的一个示例，所述预定温度为810摄氏度至910摄氏度。
[0056] 根据本发明的一个示例，所述预定温度为860摄氏度。
[0057] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为3分钟-4分钟。
[0058] 根据本发明的一个示例，所述预定时间为3. 5分钟。
[0059] 换言之，称取根据本发明实施例的自清洁釉料于球磨机中，球磨至釉浆参数在要 求的范围内出料。采用两搪两烧的工艺条件，把经过湿法底釉烧成后的半成品，使用压力罐 人工喷涂：面釉的瓷层厚度控制在400微米左右，然后烘干、烧成，烧成条件为860度，烧成 时间为3. 5min。即完成了自清洁产品的生产加工。
[0060] 根据本发明实施例的搪瓷的制作工艺，采用两搪两烧的工艺条件，增强了搪瓷面 釉的吸油性，吸油效果达到了国际领先水平；改变烧成工艺有效的杜绝了瓷层脱落的问题； 底釉与面釉的膨胀系数基本匹配、基本杜绝烧成后瓷层外表的龟裂现象；利用压力罐代替 隔膜泵，有效的改善了操作性；通过改善大大降低了自清洁产品的报废率，提高了产品的品 质，一次合格率达到99% ;降低品质风险和市场风险等。成本降至6000元/吨，吸油性能也 达到了领先水平。
[0061] 在本说明书的描述中，参考术语"一个实施例"、"一些实施例"、"示例"、"具体示 例"、或"一些示例"等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特 点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不 一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何 的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0062] 尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例 性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨 的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
【权利要求】
1. 一种自清洁釉料，其特征在于，包括有按重量比计的如下成分： 长石，5-10% ; 石英，5-10% ; 氧化钻，1_3% ; 氢氧化错，20-30% ; 二氧化锰,2-8% ; 粘土，5-10% ; 瓷釉，50-70% ;和 氧化钛，2-5%。
2. 根据权利要求1所述的自清洁釉料，其特征在于，所述瓷釉包括萤石和钴镍低温瓷 轴。
3. 根据权利要求2所述的自清洁釉料，其特征在于，所述萤石的重量占所述自清洁釉 料的重量的10-20% (重量比）。
4. 根据权利要求2所述的自清洁釉料，其特征在于，所述钴镍低温瓷釉的重量占所述 自清洁釉料的重量的40-50% (重量比）。
5. -种自清洁釉料的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤： a) 称取预定重量的根据权利要求1-4中任一项所述的自清洁釉料； b) 将所述预定重量的自清洁釉料置于研磨机中研磨预定时间；和 c) 得到釉浆。
6. 根据权利要求5所述的自清洁釉料的制备工艺，其特征在于，所述研磨机为容量1吨 的球磨机。
7. 根据权利要求5所述的自清洁釉料的制备工艺，其特征在于，所述预定时间为4小时 至6小时。
8. 根据权利要求7所述的自清洁釉料的制备工艺，其特征在于，所述预定时间为5小 时。
9. 一种搪瓷的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤： 1) 将根据权利要求5-8中任一项所述的自清洁釉料的制备工艺所制得的釉浆加压喷 涂到经过湿法底釉烧成后的搪瓷半成品上以形成预定厚度的面釉； 2) 对具有所述预定厚度的面釉的搪瓷半成品进行烘干；和 3) 将经烘干的具有所述预定厚度的面釉的搪瓷半成品在预定温度下烧成预定时间。
10. 根据权利要求9所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，采用压力罐对所述釉浆进行 加压。
11. 根据权利要求10所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，所述预定厚度为350微米至 450微米。
12. 根据权利要求11所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，所述预定厚度为400微米。
13. 根据权利要求10所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，所述预定温度为810摄氏度 至910摄氏度。
14. 根据权利要求13所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，所述预定温度为860摄氏 度。
15. 根据权利要求10所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，所述预定时间为3分钟至4 分钟。
16. 根据权利要求15所述的搪瓷的制作工艺，其特征在于，所述预定时间为3. 5分钟。
【文档编号】C04B41/86GK104098348SQ201310118701
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2013年4月7日 优先权日:2013年4月7日
【发明者】杨隆银, 冯天兵, 白雅丽, 徐国华 申请人:美的集团股份有限公司, 广东美的厨房电器制造有限公司