一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉机，包括直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩包括第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池和位于第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池之间的釉液缓冲挡板；该淋釉机包括入釉装置和主体，主体上设置有上述直线淋釉部件。该直线淋釉部件在简化了现有的淋釉部件的同时，避免了现有的淋釉部件淋釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚现象的发生，同时也防止了边缘波浪纹的产生，并且该直线淋釉部件与现有技术相比可以极大的节约釉料和淋釉加工的时间，因而更为节能环保。
【专利说明】一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉机
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及瓷砖加工领域，具体涉及一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉 机。
【背景技术】
[0002] 在瓷砖加工领域淋釉机是一种十分常见的加工工具，主要用于为砖坯表面施底釉 及面釉。
[0003] 现有淋釉机的淋釉部件结构复杂、操作不便，同时在长时间使用后不易清洗，维护 成本也较高，并且目前淋釉机所普遍应用的钟罩式淋釉部件施釉效果不够理想，经常会出 现施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚，且会产生边缘波浪纹的现象。
[0004] 因此，如何简化淋釉机的淋釉部件，同时避免淋釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉 面厚和产生边缘波浪纹的现象发生，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。 实用新型内容
[0005] 本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种直线淋釉部件及采用该部 件的淋釉机，该直线淋釉部件在简化了现有的淋釉部件的同时，避免了现有的淋釉部件淋 釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚现象的发生，同时也防止了边缘波浪纹的产生，并且 该直线淋釉部件与现有技术相比可以极大的节约釉料和淋釉加工的时间，因而更为节能环 保。
[0006] 为实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：
[0007] -种直线淋釉部件，包括：
[0008] 依次连接的直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩包括第一釉液缓冲池、 第二釉液缓冲池和位于第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池之间的釉液缓冲挡板。
[0009] 一种采用该直线淋釉部件的淋釉机，包括：
[0010] 入釉装置和主体，其中入釉装置包括臂形支架、用于对臂形支架进行定位的臂形 支架立柱及用于对臂形支架进行调节的臂形支架调节装置，臂形支架上设有上釉斗。主体 包括支架和直线淋釉部件，支架上设置有接釉盘调节装置和直线淋釉部件调节装置，接釉 盘调节装置上设置有接釉盘，直线淋釉部件设置于直线淋釉部件调节装置顶部；该直线淋 釉部件包括直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩设置于所述直线淋釉下罩之上， 并与直线淋釉下罩相贴和，直线淋釉上罩中设置有釉液缓冲挡板，釉液缓冲挡板将直线淋 釉上罩分为第一釉液缓冲池和第二釉液缓冲池。
[0011] 从上述技术方案可以看出，本实用新型提供的直线淋釉部件通过设置直线淋釉上 罩和直线淋釉下罩，取代了现有的钟罩式淋釉机上复杂的淋釉部件，从而在简化了结构使 得清洗和使用更加方便的同时降低了维护的成本，并且弥补了现有的钟罩式淋釉部件在施 釉时釉面上会出现边缘波浪纹的不足，进而改善了施釉效果，该直线淋釉部件通过第一釉 液缓冲池、第二釉液缓冲池、釉液缓冲挡板及釉液溢流挡板的设置，可以对流入的釉液起到 很好的缓冲作用，进而消除了釉液中的气泡，并且可以使得出釉更为均匀，同时该直线淋釉 部件与现有技术相比可以极大地解决釉料和施釉时间，因此具有节能环保的优点。
[0012] 本实用新型还提供一种采用该直线淋釉部件的淋釉机，由于该直线淋釉部件具有 上述技术效果，因此采用该直线淋釉部件的淋釉机也同样具有上述技术效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0013] 此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这 些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明 用于解释本申请，并构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0014] 图1为直线淋釉部件的结构示意图。
[0015] 图2为淋釉机的结构示意图。
[0016] 图3为直线淋釉部件的左视图。
[0017] 图4为直线淋釉上罩的俯视图。
[0018] 其中：1、侧导流板；2、釉液流出口；3、第二釉液缓冲池；4、釉液缓冲挡板；5、第一 釉液缓冲池；6、后挡板；7、下板；8、直线淋釉上罩；9、上罩导流侧壁；10、釉液溢流挡板； 11、直线淋釉下罩；12、下罩导流板；13、臂形支架立柱；14、臂形支架调节装置；15、臂形支 架；16、上釉斗；17、直线淋釉部件；18、接釉盘；19、接釉盘调节装置；20、直线淋釉部件调节 装置；21、支架；22、入釉装置；23、主体。
【具体实施方式】
[0019] 为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本 申请作进一步地详细说明。
[0020] 在以下描述中，对" 一个实施例"、"实施例"、" 一个示例"、"示例"等等的引用表明 如此描述的实施例或示例可以包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度，但并非每个实 施例或示例都必然包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度。另外，重复使用短语"根据 本申请的一个实施例"虽然有可能是指代相同实施例，但并非必然指代相同的实施例。
[0021] 为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。
[0022] 请参阅图1至图4,图1为该直线淋釉部件的结构示意图；图2为采用该直线淋釉 部件的淋釉机的结构示意图；图3为该直线淋釉部件的左视图；图4为该直线淋釉部件的 直线淋釉上罩的俯视图。
[0023] 根据本申请的一个实施例，提供一种直线淋釉部件，如图1所示，包括直线淋釉上 罩8和直线淋釉下罩11，直线淋釉上罩8设置于所述直线淋釉下罩11之上，并与直线淋釉 下罩11相贴和，直线淋釉上罩8中设置有釉液缓冲挡板4,所述釉液缓冲挡板4将直线淋釉 上罩8分为第一釉液缓冲池5和第二釉液缓冲池3 ;该直线淋釉上罩8和直线淋釉下罩11 可以为不锈钢或铜制成，这样可以起到较好的防腐作用，并且表面光洁度也较高。
[0024] 该直线淋釉部件的直线淋釉上罩8底部可以设置有下板7,该下板7的前端即釉液 流出一端可以为直线形结构，该下板7的后端即釉液流入一端可以为直线形结构，也可以 为圆弧形结构，还可以为折线形结构。
[0025] 为进一步满足客户需要，直线淋釉上罩8两侧可以设置有上罩导流侧壁9,直线淋 釉上罩8后端可以设置有后挡板6,直线淋釉上罩8前端可以设置有釉液溢流挡板10,该釉 液溢流挡板10、后挡板6、上罩导流侧壁9及釉液缓冲挡板4均设置在所述下板7之上，釉 液溢流挡板10底部设置有长方形凹口状结构的釉液流出口 2,该釉液流出口 2的高度可以 为50mm,下板7为设有一处弯折的板状结构；釉液由上釉斗16中流入第一釉液缓冲池5,并 在第一釉液缓冲池5中，当油液填满第一釉液缓冲池5后就会沿釉液缓冲挡板4流入第二 釉液缓冲池3,并从第二釉液缓冲池3底部的釉液流出口 2均匀的流出，这个过程可以很好 的消除釉液流入时产生的气泡，进而改善施釉效果。
[0026] 如图4所示，该直线淋釉部件的后挡板6和上罩导流侧壁9的高度均高于釉液缓 冲挡板4的高度，釉液缓冲挡板4的高度高于釉液溢流挡板10的高度。
[0027] 该直线淋釉部件的直线淋釉下罩11两侧设置有侧导流板1 ;直线淋釉下罩11的 下罩导流板12表面可以采用静电抛光处理，这样可以使釉液流出得更加均匀，且不会产生 气泡；该直线淋釉下罩11的前后两段均可以设有向下弯曲90度的圆弧形结构，其中该直线 淋釉下罩11前端的圆弧形结构的半径可以为50至300mm。
[0028] 本实用新型还提供一种淋釉机，如图2所示，包括入釉装置22和主体23,主体23 上设置有上述任意一项所述的直线淋釉部件，因为上述直线淋釉部件具有上述技术效果， 因此采用上述直线淋釉部件的淋釉机也具有上述技术效果。
[0029] 该淋釉机的入釉装置22包括臂形支架立柱13,臂形支架立柱13上设置有臂形支 架调节装置14,臂形支架调节装置14上设置有臂形支架15,臂形支架15上悬挂有上釉斗 16,通过调节臂形支架调节装置14可以改变上釉斗16悬挂的高度，进而可以找到最佳的入 釉位置。
[0030] 该淋釉机的主体23包括支架21和直线淋釉部件17 ;支架21上设置有接釉盘调 节装置19和直线淋釉部件调节装置20,接釉盘调节装置19上设置有接釉盘18,直线淋釉 部件17设置于所述直线淋釉部件调节装置20顶部，通过调整直线淋釉部件调节装置20,可 以改变直线淋釉部件17的高度，通过调整接釉盘调节装置19可以进一步调整接釉盘18的 高度，通过调整直线淋釉部件17和接釉盘18的高度以找到最佳的淋釉位置。
[0031] 以上所述实施例仅表示本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但 并不能理解为对本实用新型范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说， 在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型 保护范围。因此本实用新型的保护范围应该以所述权利要求为准。
【权利要求】
1. 一种直线淋釉部件，其特征在于：包括直线淋釉上罩（8)和直线淋釉下罩（11)，所 述直线淋釉上罩（8)包括第一釉液缓冲池（5)、第二釉液缓冲池（3)和位于第一釉液缓冲池 (5 )、第二釉液缓冲池（3 )之间的釉液缓冲挡板（4 )。
2. 根据权利要求1所述的直线淋釉部件，其特征在于：所述直线淋釉上罩（8)包括下板 (7)、位于下板（7)上的上罩导流侧壁（9)、后挡板（6)，及釉液溢流挡板（10)，所述釉液溢流 挡板（10)底部设置有釉液流出口（2)。
3. 根据权利要求2所述的直线淋釉部件，其特征在于：所述釉液流出口（2)为长方形凹 口状结构。
4. 根据权利要求2所述的直线淋釉部件，其特征在于：所述后挡板（6)和所述上罩导流 侧壁（9)的高度均高于所述釉液缓冲挡板（4)的高度，所述釉液缓冲挡板（4)的高度高于所 述釉液溢流挡板（10 )的高度。
5. 根据权利要求1所述的直线淋釉部件，其特征在于：所述直线淋釉下罩（11)两侧设 置有侧导流板（1)。
6. -种淋釉机，其特征在于：包括入釉装置（22)和主体（23)，所述主体（23)上包含有 如权利要求1至5中任一所述的直线淋釉部件。
7. 根据权利要求6所述的淋釉机，其特征在于：所述入釉装置（22)包括臂形支架 (15)、用于对臂形支架（15)进行定位的臂形支架立柱（13)及用于对臂形支架（15)进行调 节的臂形支架调节装置（14)，所述臂形支架（15)上设有上釉斗（16)。
8. 根据权利要求6所述的淋釉机，其特征在于：所述主体（23)包括直线淋釉部件 (17)、用来固定直线淋釉部件（17)的支架（21)及设置于所述直线淋釉部件（17)下方的接 釉盘（18 );所述支架（21)上设置有接釉盘调节装置（19 )和直线淋釉部件调节装置（20 )，所 述接釉盘调节装置（19)与所述接釉盘（18)相连接，所述直线淋釉部件（17)设置于所述直 线淋釉部件调节装置（20 )顶部。
【文档编号】C04B41/86GK203999392SQ201420357295
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年7月1日 优先权日:2014年7月1日
【发明者】李小成, 周超 申请人:四川汉莫尼机械设备有限公司