本申请实施例涉及但不限于浸釉机，尤其涉及一种陶瓷上底釉装置。
背景技术：
1、陶瓷制品在生产过程中，坯体表面要上涂一层釉水，可分为内釉、外釉和底釉。现相关技术中上底釉多为机器或人工将整个产品浸泡上釉，难以实现底部和外部上不一样的釉；或者是人工双手拿着产品上底部釉，难控制均匀度的同时效率大大较低。因此，如何仅对陶瓷制品的底部进行上釉并提升底釉的上釉效率是亟待解决的技术问题。
技术实现思路
1、以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。本申请实施例提供了一种陶瓷上底釉装置，能实现仅对陶瓷制品的底部进行上釉并提升底釉的上釉效率。
2、根据本申请实施例提出的陶瓷上底釉装置，包括储釉组件、清洗组件和上釉组件，所述储釉组件用于存储釉水；所述上釉组件包括若干个釉罐以及第一驱动件，所述第一驱动件用于驱动釉罐翻转，所述釉罐的上表面设置为中部镂空的锥形曲面，所述釉罐的下方穿设有真空管，所述储釉组件还用于向各所述釉罐输送预设容量的釉水，所述清洗组件用于清洗所述锥形曲面。
3、因此，本申请上述实施例至少具有如下有益效果：通过对每一待上底釉的陶瓷制品各分配一个釉罐，并将釉罐的上表面设置为中部镂空的锥形曲面，此时通过对釉罐抽真空，从而使得陶瓷制品被吸附在对应的锥形曲面上，使得陶瓷制品的底部的边缘与锥形曲面抵接，此时通过第一驱动件翻转釉罐，从而使得陶瓷制品仅底部被流出的釉彩进行上釉。同时通过清洗组件，对每一上釉后的釉罐的锥形曲面进行清洗，从而可以去除锥形曲面上多余的釉水，从而降低下一待上底釉的陶瓷制品上沾上多余釉水的概率，因此，和相关技术相比，本申请实施例能实现仅对陶瓷制品的底部进行上釉并提升底釉的上釉效率。
4、根据本申请的一些实施例，所述清洗组件包括第一位移驱动组件、水槽、第二驱动件、若干压水轮以及若干海绵盘，所述海绵盘与所述釉罐、所述压水轮一一对应设置，所述第二驱动件的驱动端与所述海绵盘连接，所述压水轮位于所述水槽内；所述第一位移驱动组件用于驱动所述海绵盘在压水轮和所述釉罐之间移动，所述第二驱动件用于驱动所述海绵盘旋转以使所述海绵盘与对应的压水轮挤压。
5、根据本申请的一些实施例，所述清洗组件还包括清洗件安装架，所述海绵盘间隔分布在所述清洗件安装架上，所述第一位移驱动组件包括第一气缸以及第二气缸，所述第一气缸水平放置，所述第一气缸的驱动端与所述第二气缸的固定端连接，所述第二气缸的驱动端与所述清洗件安装架连接。
6、根据本申请的一些实施例，所述海绵盘上设置有上釉口，所述储釉组件设置有多个，所述储釉组件与所述釉罐、所述海绵盘一一对应设置，每个所述储釉组件均包括釉桶以及抽釉泵，所述抽釉泵与对应的所述上釉口之间连接有接釉管。
7、根据本申请的一些实施例，所述釉罐下方设置有与釉桶一一对应连通的回釉槽，所述釉桶上安装有流体气控阀；所述流体气控阀用于将所述釉罐内多余的釉水料输出到回釉槽，以通过所述回釉槽将釉彩回流至对应的釉桶中。
8、根据本申请的一些实施例，所述釉罐设置有多个，所述上釉组件还包括旋转件，多个所述釉罐间隔分布在所述旋转件上，所述第一驱动件用于驱动所述旋转件转动。
9、根据本申请的一些实施例，陶瓷上底釉装置还包括上下料组件，所述上下料组件用于将待上釉的工件放置在所述锥形曲面上，以及将上釉完成的所述工件进行下料。
10、根据本申请的一些实施例，所述釉罐设置有多个，所述上下料组件包括吸盘安装架、多个吸盘以及第二位移驱动组件，所述第二位移驱动组件的驱动端与安装架连接，多个所述吸盘间隔分布于所述吸盘安装架上，且所述吸盘与所述釉罐一一对应设置。
11、根据本申请的一些实施例，所述第二位移驱动组件包括第一伺服电机、同步带轮以及第三气缸，所述第一伺服电机用于驱动所述同步带轮旋转，从而使得所述第三气缸水平移动，所述第三气缸的驱动端与所述吸盘安装架连接，所述第三气缸用于驱动所述吸盘安装架上下移动。
12、根据本申请的一些实施例，陶瓷上底釉装置还包括机架，所述储釉组件、所述清洗组件和所述上釉组件均位于所述机架上，所述清洗组件位于所述上釉组件和所述储釉组件之间。
1.一种陶瓷上底釉装置，其特征在于，包括:
2.根据权利要求1所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述清洗组件包括第一位移驱动组件、水槽、第二驱动件、若干压水轮以及若干海绵盘，所述海绵盘与所述釉罐、所述压水轮一一对应设置，所述第二驱动件的驱动端与所述海绵盘连接，所述压水轮位于所述水槽内；所述第一位移驱动组件用于驱动所述海绵盘在所述压水轮和釉罐之间移动，所述第二驱动件用于驱动所述海绵盘旋转以使所述海绵盘与对应的压水轮挤压。
3.根据权利要求2所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述清洗组件还包括清洗件安装架，所述海绵盘间隔分布在所述清洗件安装架上，所述第一位移驱动组件包括第一气缸以及第二气缸，所述第一气缸水平放置，所述第一气缸的驱动端与所述第二气缸的固定端连接，所述第二气缸的驱动端与所述清洗件安装架连接。
4.根据权利要求2所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述海绵盘上设置有上釉口，所述储釉组件设置有多个，所述储釉组件与所述釉罐、所述海绵盘一一对应设置，每个所述储釉组件均包括釉桶以及抽釉泵，所述抽釉泵与对应的所述上釉口之间连接有接釉管。
5.根据权利要求4所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述釉罐下方设置有与釉桶一一对应连通的回釉槽，所述釉桶上安装有流体气控阀；所述流体气控阀用于将所述釉罐内多余的釉水料输出到回釉槽，以通过所述回釉槽将釉彩回流至对应的釉桶中。
6.根据权利要求1所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述釉罐设置有多个，所述上釉组件还包括旋转件，多个所述釉罐间隔分布在所述旋转件上，所述第一驱动件用于驱动所述旋转件转动。
7.根据权利要求1所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，还包括上下料组件，所述上下料组件用于将待上釉的工件放置在所述锥形曲面上，以及将上釉完成的所述工件进行下料。
8.根据权利要求7所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述釉罐设置有多个，所述上下料组件包括吸盘安装架、多个吸盘以及第二位移驱动组件，所述第二位移驱动组件的驱动端与安装架连接，多个所述吸盘间隔分布于所述吸盘安装架上，且所述吸盘与所述釉罐一一对应设置。
9.根据权利要求8所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，所述第二位移驱动组件包括第一伺服电机、同步带轮以及第三气缸，所述第一伺服电机用于驱动所述同步带轮旋转，从而使得所述第三气缸水平移动，所述第三气缸的驱动端与所述吸盘安装架连接，所述第三气缸用于驱动所述吸盘安装架上下移动。
10.根据权利要求1所述的陶瓷上底釉装置，其特征在于，还包括机架，所述储釉组件、所述清洗组件和所述上釉组件均位于所述机架上，所述清洗组件位于所述上釉组件和所述储釉组件之间。