一种移门中下横结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于移门技术领域，特别涉及一种移门中下横结构。
【背景技术】
[0002]移门是指门扇连接滑轮并在固定的轨道上可移动的门，又称推拉门。它区别于用铰链连接门扇的平开门。移门具有易安装、可重复利用、可工业化生产、也可以小作坊生产、防火、环保等特点。
[0003]现有的移门中下横结构会产生根位线，影响产品的表面质量，而且结构不够稳定。【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于:针对现有技术的不足，而提供一种移门中下横结构，不会产生根位线，不影响产品的表面质量，而且结构稳定。
[0005]为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案:
[0006]—种移门中下横结构，包括横体及设置于所述横体一侧的安装槽，所述横体包括第一横杆及与所述第一横杆相对应的第二横杆，所述第一横杆和所述第二横杆均设置有装饰线槽。
[0007]所述装饰线槽的数量设置为六个，其中三个均匀分布于所述第一横杆，另外三个均匀分布于所述第二横杆，位于所述第一横杆的三个所述装饰线槽和位于所述第二横杆的三个所述装饰线槽——对应。
[0008]有两个相对应的所述装饰线槽连接有“T”形杆。
[0009]所述装饰线槽设置为“V”形结构。
[0010]所述安装槽设置有波浪纹。
[0011]所述第一横杆和所述第二横杆的中部连接有加强杆，所述加强杆上设置有圆弧部。
[0012]本实用新型的有益效果在于:本实用新型包括横体及设置于所述横体一侧的安装槽，所述横体包括第一横杆及与所述第一横杆相对应的第二横杆，所述第一横杆和所述第二横杆均设置有装饰线槽。由于本实用新型设置了装饰线槽，使得本实用新型不会产生根位线，不影响产品的表面质量，而且结构稳定。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合【具体实施方式】和说明书附图，对本实用新型作进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。
[0015]如图1所示，一种移门中下横结构，包括横体I及设置于横体I一侧的安装槽2，安装槽2设置有波浪纹21，横体I包括第一横杆11及与第一横杆11相对应的第二横杆12，第一横杆11和第二横杆12均设置有装饰线槽13。由于装饰线槽13的设置，使得本实用新型消除根位的现象，生产过程中不用担心出现根位线，从而提高产能；另外，还可以美化本实用新型的表面，使得本实用新型看起来美观、大方，更受欢迎。
[0016]优选地，装饰线槽13设置为“V”形结构，装饰线槽13的数量设置为六个，其中三个均勾分布于第一横杆11，另外三个均勾分布于第二横杆12，位于第一横杆11的三个装饰线槽13和位于第二横杆12的三个装饰线槽13——对应。有两个相对应的装饰线槽13连接有“丁”形杆^
[0017]优选地，第一横杆11和第二横杆12的中部连接有加强杆15，加强杆15上设置有圆弧部16，从而提高了本实用新型的整体强度。
[0018]根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还能够对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上述的【具体实施方式】，凡是本领域技术人员在本实用新型的基础上所作出的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本实用新型的保护范围。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制。
【主权项】
1.一种移门中下横结构，其特征在于:包括横体及设置于所述横体一侧的安装槽，所述横体包括第一横杆及与所述第一横杆相对应的第二横杆，所述第一横杆和所述第二横杆均设置有装饰线槽。2.根据权利要求1所述的移门中下横结构，其特征在于:所述装饰线槽的数量设置为六个，其中三个均匀分布于所述第一横杆，另外三个均匀分布于所述第二横杆，位于所述第一横杆的三个所述装饰线槽和位于所述第二横杆的三个所述装饰线槽一一对应。3.根据权利要求2所述的移门中下横结构，其特征在于:有两个相对应的所述装饰线槽连接有“T”形杆。4.根据权利要求2所述的移门中下横结构，其特征在于:所述装饰线槽设置为“V”形结构。5.根据权利要求1所述的移门中下横结构，其特征在于:所述安装槽设置有波浪纹。6.根据权利要求1所述的移门中下横结构，其特征在于:所述第一横杆和所述第二横杆的中部连接有加强杆，所述加强杆上设置有圆弧部。
【专利摘要】本实用新型属于移门技术领域，特别涉及一种移门中下横结构，包括横体及设置于所述横体一侧的安装槽，所述横体包括第一横杆及与所述第一横杆相对应的第二横杆，所述第一横杆和所述第二横杆均设置有装饰线槽。由于本实用新型设置了装饰线槽，使得本实用新型不会产生根位线，不影响产品的表面质量，而且结构稳定。
【IPC分类】E06B3/06, E06B3/46
【公开号】CN205206630
【申请号】CN201520944201
【发明人】彭绍辉
【申请人】广州奥冠斯铝业有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年11月23日