专利名称：用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种新型用途的聚丙烯基膜，特别是用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜。利用此种基膜可以加工出具有镭射效果的产品，从而达到对被包装商品装饰、装璜或防伪效果。
上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。
本实用新型的优点是，由于它结构合理，设计新颖，可以直接进行镭射压印蒸镀，其不但可以满足用户所要求的镭射效果和蒸镀效果，同时大大降低了产品的成本。
图2，本实用新型的横向结构剖示图。
如
图1、图2所示，本实用新型由上表层1、芯层2、下表层3构成，上表层1、芯层2、下表层3通过设备热熔、共挤形成一体，芯层2位于上表层1、下表层3之间，其中，上表层1为镭射压印蒸镀层。上表层1、下表层3的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。此种基膜所采用的材质主要为聚丙烯塑料。
基膜可以据用户的不同的要求，分切成不同规格尺寸(长度和宽度)的成品。也可以利用不同双向拉伸工艺生产出不同厚度的基膜。
权利要求1.用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，基膜由上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)构成，上表层(1)、芯层(2)、下表层(3)通过热熔、共挤成为一体，芯层(2)位于上表层(1)、下表层(3)之间，上表层(1)为压印蒸镀层。
2.根据权利要求1所述的用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，上表层(1)、下表层(3)的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。
专利摘要用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜。基膜由上表层、芯层、下表层构成，上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体。上表层为压印蒸镀层。基膜的上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10％－12％。可以直接进行镭射压印蒸镀。
文档编号B32B27/06GK2535228SQ02228078
公开日2003年2月12日 申请日期2002年1月11日 优先权日2002年1月11日
发明者栾德海, 江畅, 陈德超, 褚峰林 申请人:中包云梦塑料薄膜厂