专利名称：一种薄片或超薄片标准具制作方法
技术领域：
本发明涉及激光制作领域，尤其涉及该领域的一种薄片或超薄片标准具的 制作方法。
背景技术：
在激光领域中，标准具可以运用于光纤通讯制作宽带可调滤光片，也可以 运用于光学检测领域制作可调谐激光器。但传统标准具一般较厚，以保证镀反 射膜不易变形，而一般超薄实心标准具由于太薄，制作和擦拭易碎，操作很不 方便，同时镀膜层易变形，亦不易夹持。在光纤通讯领域，人们往往需要
50nm-200nm的带宽的滤光片，在可调谐激光器中，往往亦需要几十-几百nm滤 光片，这往往需要^f效米^:量级厚的标准具，采用传统方式则不易制作或无法制 作。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种方法制作微米数量级厚的标准具。 为实现上述目的，本发明的一种薄片或超薄片标准具制作方法，包含如下 步骤
步骤11，第一光学基片一表面镀第一部分反射膜，第二光学基片一表面镀 光胶膜；
步骤12,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜的第一光学基片表面与 镀有光胶膜的第二光学基片表面粘结成为一体； '步骤13,将第二光学基片通过光学加工成薄片； 步骤14,将第二光学基片非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜； 或者步骤14可以为
步骤151，第三光学基片一表面镀第二部分反射膜；
步骤152,通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜的第三光学基片(30) 与加工成薄片的第二光学基片粘结成为一体。
本发明的另一种薄片或超薄片标准具制作方法，包含如下步骤 包含如下步骤
步骤21,将第二光学基片通过光学加工成薄片；
步骤22,将第一光学基片一表面镀第一部分反射膜，第二光学基片一表面
镀光胶膜；
步骤23,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜的第一光学基片表面与 加工成薄片且镀有光胶膜的第二光学基片表面粘结成为一体；
步骤24,将第二光学基片非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜； 或者步骤24可以为
步骤251，第三光学基片一表面镀第二部分反射膜；
步骤252,通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜的第三光学基片与加工 成薄片的第二光学基片粘结成为一体。
为提高大规模生产效率，可以利用上述的制作方法制作大片薄片或超薄片 标准具后，再切割成小片薄片或超薄片标准具。
采用本发明能够解决采用传统方式不易制作或无法制作的微米量级厚的标 准具的技术难题。
.图l是本发明实施例一示意图； 图2是本发明实施例二示意图。
具体实施例方式
现结合
对本发明进一步说明。
如图l所示，本发明的一种薄片或超薄片标准具制作方法，包含如下步骤 步骤ll,第一光学基片(10)—表面镀第一部分反射膜(101)，第二光学基
片(20) —表面镀光胶膜(201);
步骤12,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜(101)的第一光学基片 (10)表面与镀有光胶膜(201)的第二光学基片(20)表面粘结成为一个整体
体；
'步骤13,将第二光学基片(20)通过光学加工成薄片；薄片厚度根据要求 制作加工。
步骤14，将第二光学基片(20)非镀有光胶膜面的另一面镀上第二部分反 射膜(301);
或者步骤14可以用下列的步骤151和步骤152实现另一种的标准具结构 步骤151,第三光学基片(30) —表面镀第二部分反射膜(301); 步骤152，通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜(301)的第三光学基片 (30)与加工成薄片的第二光学基片(20)粘结成为一体。
如图2所示，为本发明的另一种薄片或超薄片标准具制作方法，包含如下
步骤
包含如下步骤
步骤21，将第二光学基片(20)通过光学加工成薄片；薄片厚度根据要求 制作加工。
步骤22,将第一光学基片(10)—表面镀第一部分反射膜(101),第二光学 基片(20) —表面镀光胶膜(201);
步骤23,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜(101)的第一光学基片 (10)表面与加工成薄片且镀有光胶膜(201)的第二光学基片(20)表面粘结 成为一体；
步骤24,将第二光学基片(20)非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜(301);
或者步骤24可以用下列的步骤251和步骤252实现另一种的标准具结构
步骤251，第三光学基片(30) —表面镀第二部分反射膜(301);
步骤252,通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜(301)的第三光学基片 (30)与加工成薄片的第二光学基片(20)粘结成为一体。
为提高大规模生产效率，可以利用上述的制作方法制作大片薄片或超薄片 标i,具后，再切割成小片薄片或超薄片标准具。
本发明的方法可以用来制作几个微米厚到几百孩i片厚的标准具。它可用在 光纤通讯中制作可调滤光片或者可调激光器的可调滤光片。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本发明，但所属领域的技术人员 应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本发明的精神和范围内，在形式 上和细节上可以对本发明做出各种变化，均为本发明的保护范围。
权利要求
1、一种薄片或超薄片标准具制作方法，其特征在于包含如下步骤步骤11，第一光学基片(10)一表面镀第一部分反射膜(101)，第二光学基片(20)一表面镀光胶膜(201)；步骤12，通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜(101)的第一光学基片(10)表面与镀有光胶膜(201)的第二光学基片(20)表面粘结成为一体；步骤13，将第二光学基片(20)通过光学加工成薄片；步骤14，将第二光学基片(20)非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜(301)；或者步骤14可以为步骤151，第三光学基片(30)一表面镀第二部分反射膜(301)；步骤152，通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜(301)的第三光学基片(30)与加工成薄片的第二光学基片(20)粘结成为一体。
2、 一种薄片或超薄片标准具制作方法，其特征在于 包含如下步骤'步骤21,将第二光学基片(20)通过光学加工成薄片； 步骤22,将第一光学基片(10)—表面镀第一部分反射膜(IOI),第二光学 基片(20) —表面镀光胶膜(201);步骤23,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜(101)的第一光学基片 (10)表面与加工成薄片且镀有光胶膜(201)的第二光学基片(20)表面粘结 成为一体；步骤24，将第二光学基片(20)非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜(301); 或者步骤24可以为步骤251,第三光学基片(30) —表面镀第二部分反射膜(301); 步骤252,通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜(301)的第三光学基片 (30)与加工成薄片的第二光学基片(20)粘结成为一体。
3、 如权利要求1或2所述的薄片或超薄片标准具制作方法，其特征在于 利用所述制作方法制作大片薄片或超薄片标准具后，再切割成小片薄片或超薄 片标准具。
全文摘要
本发明涉及激光制作领域，尤其涉及该领域的一种薄片或超薄片标准具的制作方法。本发明采用深化光胶方法将光学基片和另一镀有反射膜的光学基片深化光胶，将其中一基片抛光成薄片或超薄片；或将一光学基片镀膜后与另一薄片或超薄片深化光胶，构成两片式光学基片；再在光学基片薄片一面镀上反射膜，或在第三片光学基片上镀上反射膜与两片式基片薄片一面深化光胶，从而制成薄片式或超薄片式标准具。故，本发明能够解决采用传统方式不易制作或无法制作微米数量级厚的标准具的技术难题。
文档编号B32B37/12GK101349774SQ200810071690
公开日2009年1月21日 申请日期2008年8月28日 优先权日2008年8月28日
发明者凌吉武, 砺 吴, 英 邱, 陈卫民 申请人:福州高意通讯有限公司