专利名称：激光镭射电磁屏蔽膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镭射膜，尤其涉及一种防静电的激光镭射电磁屏蔽膜。
背景技术：
镭射膜一般采用计算机点阵光刻技术、3D真彩色全息技术、多重与动态成像技术等。经模压把具有彩虹动态、三维立体效果的全息图像转移到PET、B0PP、PVC或带涂层的基材上，然后利用复合、烫印、转移等方式使商品包装表面获得某种激光镭射效果。镭射包装是包装行业中的一个细分行业，近年来取得了快速的发展，与包装行业内的其他产品相比， 镭射包装材料不仅具有新颖、亮丽的外观效果，同时还具有高技术防伪功能，被称为世界包装印刷业中最前沿的技术产品。目前镭射材料的应用领域已经非常广泛，在电子产品、食品、药品、日化用品、烟酒、服装、礼品包装以及装饰材料等行业都得到较快的推广。从工艺技术水平上看，目前应用于电子产品的包装领域的同时具有防伪镭射和防静电功能的产品属于该行业中的高端产品，其生产过程涉及镭射防伪制版、膜压、涂布、镀铝、电磁屏蔽涂层等多个技术环节，产品具有较高的附加值。广泛应用在电子产品等领域。从产品成分构成上划分，镭射薄膜产品可以大致分为OPP镭射膜、PET镭射膜和PVC镭射膜三种。目前市场上的电磁屏蔽膜，只是在PET膜上镀一层铝，没有图案。一是显得单调不美观，二是消费者不易分清生产厂家，甚至有的厂家利用膜上没有图案、商标或者生产厂家名称，故意扰乱市场，防伪能力低。现有的镭射膜也不能达到良好的防静电的功能。
发明内容本实用新型针对现有技术中的镭射膜防伪能力低，防静电能力低的不足，提供了一种激光镭射电磁屏蔽膜。为了解决上述技术问题，本实用新型通过下述技术方案得以解决激光镭射电磁屏蔽膜，包括PET膜，PET膜上涂有一层镭射介质层，镭射介质层上压印有一层激光镭射层，激光镭射层上镀有镀铝层，镀铝层上涂有电磁屏蔽层。电磁屏蔽层能够更好的防静电。作为优选，PET膜厚度为12 μ πΓ20 μ m。按照本实用新型的技术方案，激光镭射电磁屏蔽膜不仅美观、防伪能力强，还可广泛用于工业电磁屏蔽领域的防伪。
图1为本实用新型所述激光镭射电磁屏蔽膜的结构示意图。1- PET膜，2-镭射介质层，3-激光镭射层，4-镀铝层，5-电磁屏蔽层。
具体实施方式
以下结合附图1与具体实施方式
对本实用新型作进一步详细描述[0012]激光镭射电磁屏蔽膜，包括PET膜1，PET膜1厚度为12 μ m，PET膜1上涂有一层镭射介质层2，镭射介质层2上压印有一层激光镭射层3，激光镭射层3上镀有镀铝层4，镀铝层4上涂有电磁屏蔽层5。先把镭射介质层2涂在PET膜1上，然后将光刻成的各种特定花纹和防伪技术的激光镭射版贴在模压机的版辊上，再通过高温，把特定花纹压印在PET膜1上，经镀铝，最后再涂上特制的防静电剂，使之达到特定的电磁屏蔽功能。总之，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应属本实用新型专利的涵盖范围。
权利要求1.激光镭射电磁屏蔽膜，包括PET膜(1)，PET膜(1)上涂有一层镭射介质层(2)，镭射介质层(2 )上压印有一层激光镭射层(3 )，激光镭射层(3 )上镀有镀铝层(4 )，其特征在于 所述的镀铝层(4 )上涂有电磁屏蔽层(5 )。
2.根据权利要求1所述的激光镭射电磁屏蔽膜，其特征在于所述的PET膜(1)厚度为 12 μ m 20 μ m。
专利摘要本实用新型涉及一种镭射膜，公开了一种防静电的激光镭射电磁屏蔽膜，包括PET膜，PET膜上涂有一层镭射介质层，镭射介质层上压印有一层激光镭射层，激光镭射层上镀有镀铝层，镀铝层上涂有电磁屏蔽层。电磁屏蔽层能够更好的防静电。按照本实用新型的技术方案，激光镭射电磁屏蔽膜不仅美观、防伪能力强，还可广泛用于工业电磁屏蔽领域的防伪。
文档编号B32B33/00GK202062740SQ20112018030
公开日2011年12月7日 申请日期2011年5月31日 优先权日2011年5月31日
发明者陈显东 申请人:温州宏达激光图像有限公司