专利名称：可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃技术领域[0001]本实用新型涉及特种玻璃领域，尤其涉及一种可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃。
技术背景[0002]低辐射玻璃，又称Low-E玻璃，是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其它化合物组成的膜系产品。由于银层具有低辐射的特性，低辐射玻璃对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能。[0003]采用真空磁控溅射法生产的普通茶色低辐射镀膜玻璃的膜层结构一般为玻璃/ 基层电介质组合层/第一阻挡层/银膜层/第二阻挡层/上层电介质组合层等。[0004]电介质组合层一般为金属的氧化物或氮化物，或为非金属的氧化物或氮化物，如 T i O2、SiSnOx、SnO2、SiO、S i O2、iTa2O5、S i NxOy、B i O2、A1203、Nb2O5、S i 3N4、AZO 等，为了达到茶色的效果，也有将基层介电质组合层加入氧化不锈钢材料。[0005]第一阻挡层、第二阻挡层一般为金属或金属氧化(氮化)物，也可以是合金或合金氧化(氮化)物，如Ti、NiCr或NiCrOx、NiCrNx等。也有使用铜作为第一阻挡层。[0006]但是在传统的茶色低辐射膜的加工中，只能对玻璃先采用钢化再镀膜的加工方式，或者虽能平钢化，但不能进行弯钢化和异地加工。这就限制了茶色低辐射玻璃的推广。 这是因为[0007]1.不能实现弯弧玻璃镀膜[0008]现代建筑广泛采用弯钢化玻璃，传统离线茶色低辐射膜不能进行弯钢化等后续加工处理。国内现有的建筑镀膜玻璃生产线均不能在弯钢化玻璃上镀膜。[0009]2.镀膜运行效率低[0010]钢化玻璃镀膜的装载率只有75%左右，也就是只能发挥镀膜线产能的75%。钢化玻璃镀膜靠人工装片和卸片，需配置足够的操作人员，增加了人工工资支出。同时人工装、 卸片的速度慢，又限制了镀膜线走速，镀膜线运行不经济。[0011]各种补片的生产周期长，镀膜和中空工序出现的废品要补片，玻璃在安装现场的损坏也要补片。这些补片需要再次纳入生产订单来安排生产，补片周期长。[0012]由于要达到茶色的效果，需要使用特殊的靶材。限于设备的靶位数量和靶材排列顺序，必须停机更换靶材，再经过长时间抽气，才能生产茶色低辐射玻璃。这会严重影响其它膜系的生产，不利于成本的控制。[0013]3.无法异地加工[0014]由于不能弯钢化，一些没有镀膜线的企业无法使用这种玻璃进行异地加工；并且因离线低辐射镀膜玻璃必须合成中空玻璃使用，中空玻璃的运输增加了运输支出，限制了茶色低辐射玻璃的推广。[0015]基于上述原因，有必要开发出一种能够进行弯钢化加工和异地加工的茶色低辐射镀膜玻璃。发明内容[0016]本实用新型的目的在于，采用独特的膜层配置构造出一种可以实现弯钢化加工的茶色低辐射镀膜玻璃。满足在后续复合产品加工中的所有要求，可以推广应用到民用建筑。[0017]为达到上述目的，本实用新型提出以下技术方案[0018]一种可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧由内向外依次设置有基层电介质结合层、第一阻挡层、银膜层、第二阻挡层及上层电介质组合层， 所述基层电介质组合层厚度为25 45nm。[0019]实施时，所述基层电介质组合层由金属的氧化物或氮化物构成，或者由非金属的氧化物或氮化物构成。[0020]实施时，所述上层电介质组合层由金属的氧化物或氮化物构成，或由非金属的氧化物或氮化物构成。[0021]实施时，所述上层电介质组合层厚度为20 35nm。[0022]实施时，所述银膜层的厚度为10 25nm。[0023]实施时，所述第一阻挡层的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或氮化镍铬中的一种。[0024]实施时，所述第二阻挡层的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或氮化镍铬中的一种。[0025]实施时，所述第一阻挡层的单层厚度为4 15nm。[0026]实施时，所述第二阻挡层的单层厚度为4 15nm。[0027]本实用新型的有益效果是，从以上技术方案可以看出，本实用新型所提供的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，具有辐射率低(小于0. 05)，光学性能稳定、色彩鲜艳且容易调节、耐热、耐候等性能。产品先镀膜后热处理，能长距离运输，能储存8个月以上不变质，实现弯钢和异地加工，满足在后续复合产品加工中的所有要求。可以推广到民用建筑。
[0028]图1是本实用新型的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃结构示意图；[0029]图2是本实用新型的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃的生产工艺流程示意图。[0030]附图标记说明1-玻璃基板；2-基层电介质组合层；3-第一阻挡层；4-银膜层； 5-第二阻挡层；6-上层电介质组合层。
具体实施方式
[0031]为了使本实用新型的形状、构造以及特点能够更好地被理解，以下将列举较佳实施例并结合附图进行详细说明。[0032]本实用新型提供的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板1，所述玻璃基板 1的一侧由内向外依次设置有基层电介质结合层2、第一阻挡层3、银膜层4、第二阻挡层5 及上层电介质组合层6。所述基层电介质组合层2厚度为25 45nm。[0033]所述基层电介质组合层2由金属的氧化物或氮化物构成，或者由非金属的氧化物或氮化物构成，如 Ti02、ZnSnOx、SnO2, ZnO, SiO2, Ta2O5, SiNxOy、Bi02、A1203、Nb2O5, Si3N4^AZO 等。所述上层电介质组合层6由金属的氧化物或氮化物构成，或由非金属的氧化物或氮化物构成，如 Ti02、ZnSnOx、SnO2, ZnO, SiO2, Ta2O5, SiNxOy、Bi02、A1203、Nb2O5, Si3N4, AZO 等。[0034]所述上层电介质组合层6厚度为20 35nm。所述银膜层4的厚度为10 25nm。所述第一阻挡层3的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或氮化镍铬中的一种，所述第一阻挡层3的单层厚度为4 15nm，所述第二阻挡层5的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或氮化镍铬中的一种， 所述第二阻挡层5的单层厚度为4 15nm。[0035]在实际应用中，常用的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃的膜层结构及厚度为基层电介质结合层2为25 35nm，第一阻挡层3为4 12nm，银膜层4为10 20nm，第二阻挡层5为4 12nm，上层电介质组合层6为22 30nm。[0036]下面为本实用新型提供的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃的一个应用实例的膜结构[0037]玻璃基片、Si3N4层、NiCr层、银膜层、NiCr层及Si3N4层。[0038]其中，基层电介质组合层2的主要材料为氮含量可调的氮化硅(Si3N4),膜层厚度为 25 35nm。[0039]第一阻挡层3的主要材料为镍铬(NiCr)，膜层厚度为4 12nm。[0040]银膜层4的膜层厚度为10 20nm。[0041]第二阻挡层5的主要材料为镍铬(NiCr)，膜层厚度为4 12nm。[0042]上层电介质组合层6是氮化硅(Si3N4)，膜层厚度为22 30nm。[0043]上述膜层的加工工艺为[0044]所有氮化硅层采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，功率为55kw IOOkw,中频电源频率为30 50kHz ；[0045]所有镍铬层在氩气氛围中溅射镍铬合金平面靶材，功率为5 15kw ；[0046]银膜层4 平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射，在氩气氛围中沉积，功率为5 15kw。[0047]本实用新型提供的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃及其生产工艺特点在于[0048]1.传统以银膜为红外反射膜层的低辐射玻璃不能进行后续热处理的根本原因是 银膜层在加热过程中被破坏，如银膜层被氧化、银膜层面电阻升高等现象。从外观上可以看到如下几种情况膜面呈白色云雾状，透过率下降，颜色不均勻，可能伴随大面积掉膜；膜面有分散的片状氧化；满板针孔状的小氧化点，类似满天星；这些现象均是银膜层被破坏的外在表现，不能批量生产。本实用新型从两个方面解决产品在加厚银膜层过程中透过率降低和外观呈现干扰色的问题。一是膜层设计，让膜层两边的膜层材料对银膜层具有更好的遮挡能力，银膜层两边的膜层厚度呈一定比例；二是镀膜工艺，通过改变传统工艺，让银膜层两边的阻挡层更加致密。[0049]2.基层电介质组合层为减反射膜层，起着连接玻璃和功能层的作用，要求膜层与玻璃之间粘结性能好，并缓解整个低辐射膜的内部应力。上层电介质组合层直接影响到产品的抗划伤，耐磨和抗腐蚀性能，要求它既有很好的硬度又有很好的韧性。[0050]3.电介质组合层、银膜层和阻挡层的相互配合，通过改变各膜层的厚度，沉积出颜色明亮鲜艳，透过率较高的茶色低辐射膜。同时解决了其它厂家的茶色镀膜玻璃由于膜层设计不合理无法进行热处理或膜层力学问题不能进行弯钢化的问题。实现弯钢化和热弯加工的要求，并且在热处理后仍能保持纯正的茶色。[0051]以上所述实施事例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此理解为对本实用新型专利范围的限制，应当指出的是对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求1.一种可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的一侧由内向外依次设置有基层电介质结合层、第一阻挡层、银膜层、第二阻挡层及上层电介质组合层，所述基层电介质组合层厚度为25 45nm。
2.根据权利要求1所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述基层电介质组合层由金属的氧化物或氮化物构成，或者由非金属的氧化物或氮化物构成。
3.根据权利要求1所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述上层电介质组合层由金属的氧化物或氮化物构成，或由非金属的氧化物或氮化物构成。
4.根据权利要求3所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述上层电介质组合层厚度为20 35nm。
5.根据权利要求1所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述银膜层的厚度为10 25nm。
6.根据权利要求1所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或氮化镍铬中的一种。
7.根据权利要求1所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二阻挡层的材料为镍铬、钛、氧化镍铬或氮化镍铬中的一种。
8.根据权利要求6所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层的单层厚度为4 15nm。
9.根据权利要求7所述的可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二阻挡层的单层厚度为4 15nm。
专利摘要本实用新型涉及一种可弯钢的茶色低辐射镀膜玻璃。玻璃的表面镀覆有复合膜层，复合膜层的最外层为一保护膜层；复合膜层包括三层金属膜层，其中一层金属膜层是银膜层，紧贴银膜层上下两面的两层金属膜层是镍铬合金膜层或钛膜层；在玻璃和金属膜层之间是两层电介质层。所述基层电介质组合层厚度为25～45nm。本实用新型提供的茶色低辐射镀膜玻璃，其最显著的特点是具有优良的可弯钢及可异地加工性能，并且其热工性能优异、色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高、成本低、易于推广，能通过改变各膜层的厚度获得不同透过率、透过色、反射率、反射色及遮阳系数、辐射率的多品种茶色低辐射镀膜玻璃，以适应市场不同需求。
文档编号B32B17/06GK202293507SQ20112043065
公开日2012年7月4日 申请日期2011年11月3日 优先权日2011年11月3日
发明者史小明, 杨志远, 董清世 申请人:信义玻璃(天津)有限公司