红外线反射薄膜的制作方法
【专利摘要】本发明提供在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层的红外线反射薄膜。该保护层为包含特定的高分子的层，保护层表面的动摩擦因数为0.001～0.45。
【专利说明】红外线反射薄膜
【技术领域】
[0001]本发明涉及在可见光区域具有高透射性且在红外光区域具有高反射性的红外线反射薄膜。
【背景技术】
[0002]红外线反射薄膜主要用于抑制辐射的太阳光的热影响。例如，通过在建筑物、汽车等的窗玻璃上粘贴红外线反射薄膜来屏蔽穿过窗玻璃入射到室内的红外线(尤其是近红外线)，抑制室内温度的上升，由此，能够抑制冷气设备的功耗、实现节能化。
[0003]在红外线的反射中会使用基于金属、金属氧化物的层叠结构的红外线反射层。然而，金属、金属氧化物的耐磨性低。因此，在红外线反射薄膜中，通常在红外线反射层上设置保护层。例如，专利文献I中公开了将聚丙烯腈(PAN)用作保护层的材料。聚丙烯腈这样的高分子的红外线的吸收率低，能够屏蔽从室内穿过透光性部件而向外射出的远红外线，因此，还能够实现在冬季、室外温度降低之类的夜间时由绝热效果带来的节能化。
[0004]将聚丙烯腈这样的高分子用作保护层的材料时，保护层通过如下操作步骤来形成:首先，使高分子溶解于溶剂从而制备溶液；在红外线反射层上涂布该溶液；接着，使溶液干燥(使溶剂挥发)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本特公昭61-51762号公报
【发明内容】
[0008]发明要解决的问题
[0009]另外，已知可溶解聚丙烯腈的溶剂只有二甲基甲酰胺(DMF)(沸点:153°C )那样的高沸点溶剂。溶剂的沸点高时，可以通过提高干燥工序的温度来降低干燥工序的时间，但基材为高分子材料时，存在基材因高温而受损的可能性。因此，需要在基材不会受损的程度的温度下进行干燥工序，存在保护层的材料使用聚丙烯腈时干燥工序长时间持续的课题。为了解决该课题，发明人等发现了:将可溶于甲乙酮(MEK)(沸点:80°C )等沸点低的溶剂的丙烯腈与其它单体成分的共聚物用于保护层。
[0010]然而，发明人等面临着如下问题:对于丙烯腈与其它单体成分的共聚物而言，保护层的表面不具有充分的滑移性(滑动性)。将聚丙烯腈用于保护层而得到的红外线反射薄膜的滑移性是充分的，因此推测滑移性的问题是由其它单体成分引起的。保护层表面的滑移性差时，例如，在对粘贴有红外线反射薄膜的建筑物、汽车的窗户进行清扫时会产生如下问题:过度的力(应力)作用于该保护层表面，保护层遭到部分性或整体性的破坏，露出耐磨性低的红外线反射层。
[0011]因而，本发明是鉴于所述情况而进行的，其课题在于，提供滑移性(滑动性)优异的红外线反射薄膜。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]一种红外线反射薄膜，其在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层，
[0014]该保护层为包含高分子的层，所述高分子包含下述化学式I的重复单元A、B和C中的至少两种以上重复单元，
[0015]前述保护层表面的动摩擦因数为0.001~0.45。
[0016][化学式I]
[0017]
【权利要求】
1.一种红外线反射薄膜，其为在基材的一侧的面上依次层叠有反射层和保护层的红外线反射薄膜， 该保护层为包含高分子的层，所述高分子包含下述化学式I的重复单元A、B和C中的至少两种以上重复单元， 所述保护层表面的动摩擦因数为0.0Ol~0.45， [化学式I]
化学式I中，Rl为H或甲基，R2~R5为H、碳数I~4的烷基或链烯基。
2.根据权利要求1所述的红外线反射薄膜，其中，所述保护层侧表面的法向发射率为0.20以下。
3.根据权利要求1所述的红外线反射薄膜，其中，所述保护层还包含配置在上述高分子上的、构成所述保护层的表面的有机硅成分， 该有机硅成分的量为0.0001~1.0000g/m2。
【文档编号】B32B27/00GK104081230SQ201380007366
【公开日】2014年10月1日 申请日期:2013年1月30日 优先权日:2012年1月30日
【发明者】河崎元子, 藤泽润一, 大森裕, 兵藤智纪 申请人:日东电工株式会社