一种氧化锆真空镀膜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种氧化锆真空镀膜，包括中间基层和两层氧化锆层，所述两层氧化锆层分别位于所述中间基层的上下两侧，所述中间基层为氧化硅或氧化钙，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度大于所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度。本发明的氧化锆真空镀膜耐磨耐腐蚀，透光性好。
【专利说明】一种氧化锆真空镀膜
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种氧化锆真空镀膜。
【背景技术】
[0002]真空镀膜是目前得到广泛使用的材料，种类较多。不同的使用条件下需要设计不同成分和理化性能的镀膜材料。
【发明内容】
[0003]本发明主要解决的技术问题是提供一种氧化锆真空镀膜，该氧化锆真空镀膜耐磨耐腐蚀，透光性好。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种氧化锆真空镀膜，包括中间基层和两层氧化锆层，所述两层氧化锆层分别位于所述中间基层的上下两侧，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度大于所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度。
[0005]在本发明一个较佳实施例中，所述中间基层为氧化硅或氧化钙。
[0006]在本发明一个较佳实施例中，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度为
0.03-0.08mm,所述中间基层下层的所述氧化错层的厚度为0.01-0.03mm。
[0007]在本发明一个较佳实施例中，所述中间基层的厚度为0.03-0.06mm。
[0008]在本发明一个较佳实施例中，所述冷却流道的所述另一端的轴线与所述灯丝杆内腔的轴线平行。
[0009]本发明的有益效果是:本发明的氧化锆真空镀膜耐磨耐腐蚀，透光性好。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中:
图1是本发明的氧化锆真空镀膜的结构示意图。
[0011]附图中各部件的标记如下:1、氧化锆层，2、中间基层。
【具体实施方式】
[0012]下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0013]请参阅图1，本发明实施例包括:
一种氧化锆真空镀膜，包括中间基层2和两层氧化锆层1，所述两层氧化锆层I分别位于所述中间基层2的上下两侧，所述中间基层2为氧化硅或氧化钙，所述中间基层2上层的所述氧化锆层I的厚度大于所述中间基层2下层的所述氧化锆层I的厚度。
[0014]氧化锆使镀膜材料具有耐磨耐腐蚀的性能，透光性好。
[0015]优选地，所述中间基层2上层的所述氧化锆层I的厚度为0.03-0.08mm，所述中间基层2下层的所述氧化错层I的厚度为0.01-0.03_。
[0016]优选地，所述中间基层2的厚度为0.03-0.06mm。
[0017]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的【技术领域】，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种氧化锆真空镀膜，其特征在于，包括中间基层和两层氧化锆层，所述两层氧化锆层分别位于所述中间基层的上下两侧，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度大于所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度。
2.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层为氧化硅或氧化钙。
3.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度为0.03-0.08_。
4.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度为0.01-0.03_。
5.根据权利要求1所述的氧化锆真空镀膜，其特征在于，所述中间基层的厚度为.0.03-0.06mm。
【文档编号】B32B9/04GK104129117SQ201410395562
【公开日】2014年11月5日 申请日期:2014年8月13日 优先权日:2014年8月13日
【发明者】陈学兵 申请人:苏州普京真空技术有限公司