一种用白玻制备的湖水兰色单银low-e玻璃的制作方法

文档序号:2455667阅读:584来源:国知局
一种用白玻制备的湖水兰色单银low-e玻璃的制作方法
【专利摘要】一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,包括玻璃基材,所述玻璃基材为白色浮法玻璃,其上表面由下而上依次设有TiOx底层介质层、第一NiCrOx膜层、AZO平整层、Ag层、第二NiCrOx膜层、ZnSnO2介质层、以及Si3N4顶层介质层;所述第一NiCrOx膜层的厚度为1.6nm,所述Ag层的厚度为5.4nm,第二NiCrOx膜层的厚度为1.1nm。本发明结构简单,成本较低,可呈现鲜艳的湖水兰色调。
【专利说明】 —种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃

【技术领域】
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[0001]本发明涉及一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃。

【背景技术】
:
[0002]LOff-E玻璃,是一种高端的低辐射玻璃,是在玻璃基材表面镀制包括银层在内的多层金属及其它化合物组成的膜系产品。
[0003]随着现代建筑的发展,人们审美观念的提高,对幕墙玻璃的外观色调与整体的建筑的协调性越来越受到人们的关注。而在众多颜色中湖水兰代表着高贵与典雅,设计师总试图将湖水兰应用到建筑幕墙上,但目前的镀膜厂家仅能局限于生产成本较高的湖水兰的阳光控制膜玻璃。
[0004]故有必要对现有的单银LOW-E玻璃作出改进,以提供一种成本较低的湖水兰色单银LOW-E玻璃。


【发明内容】

:
[0005]本发明的目的在于提供一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,其结构简单,成本较低,可呈现鲜艳的湖水兰色调。
[0006]一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,包括玻璃基材,所述玻璃基材为白色浮法玻璃,其上表面由下而上依次设有T1x底层介质层、第一 NiCrOx膜层、AZO平整层、Ag层、第二 NiCrOx膜层、ZnSnO2介质层、以及Si3N4顶层介质层;所述第一 NiCrOx膜层的厚度为1.6nm,所述Ag层的厚度为5.4nm,第二 NiCrOx膜层的厚度为1.lnm。
[0007]本发明可通过如下方案进行改进:
[0008]所述T1x底层介质层的厚度为9nm。
[0009]所述AZO平整层的厚度为5.8nm。
[0010]所述ZnSnO2介质层的厚度为12.6nm。
[0011]所述Si3N4顶层介质层的厚度为3.5nm。
[0012]本发明具有如下优点:1、本发明结构简单,创造性地采用普通白色浮法玻璃作为玻璃基材,合理调整第一 NiCrOx膜层、Ag层、第二 NiCrOx膜层的厚度,镀上相应的膜层后,产生色泽鲜艳的湖水兰的外观效果,通过色度仪可以测得色度指标b*达到-18,呈现鲜艳的湖水兰色调,且成本较低。2、具有比传统单银LOW-E玻璃更低的辐射率。

【专利附图】

【附图说明】
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[0013]图1为本发明结构剖视图。

【具体实施方式】
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[0014]如图所示,一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,包括玻璃基材1,所述玻璃基材I为白色浮法玻璃,其上表面由下而上依次设有T1x底层介质层2、第一 NiCrOx膜层3、AZO平整层4、Ag层5、第二 NiCrOx膜层6、ZnSnO2介质层7、以及Si3N4顶层介质层8 ;所述第一 NiCrOx膜层3的厚度为1.6nm,所述Ag层5的厚度为5.4nm,第二 NiCrOx膜层6的厚度为1.lnm。
[0015]进一步地,所述T1x底层介质层2的厚度为9nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,用交流中频电源、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体射陶瓷钛靶,最终在玻璃基材I上形成T1x底层介质层2,其中,氩氧比为(400SCCM?420SCCM): (50SCCM?60SCCM),氩氧比是该膜层的核心,决定了成膜的T1x的价态,X本专利提供的T1x的价态,X = 1.7?2.0。这决定了 T1x膜层的折射率在2.0?2.2之间,提高了玻璃基底的透过率。
[0016]再进一步地,所述第一 NiCrOx膜层3,是本专利的核心,其采用磁控溅射镀膜工艺,用直流电源溅射镍铬合金、用氩气作为溅射气体、掺入少量氧气制备而成,其中,氩氧比为:(400SCCM?420SCCM): (20?40SCCM),最终形成第一 NiCrOx膜层3,可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。
[0017]再进一步地,所述AZO平整层4的厚度为5.8nm,用于平滑Ag层5。其采用磁控溅射镀膜工艺,用中频交流电源溅射陶瓷Zn(AZO)靶、用氩气作为溅射气体、掺入少量氧气制备而成,其中,氩氧比为:(400SCCM?420SCCM): (20?40SCCM),最终形成AZO平整层4,为Ag层5作铺垫,降低辐射率。
[0018]又进一步地,所述Ag层5,为功能层,其采用磁控溅射镀膜工艺,用直流电源溅射银靶、用氩气作为溅射气体制备而成,气体流量500?550SCCM,最终形成Ag层5。
[0019]再进一步地,所述第二 NiCrOx膜层6,是本专利的核心,其采用磁控溅射镀膜工艺,用直流电源溅射镍铬合金、用氩气作为溅射气体、掺入少量氧气制备而成,其中,氩氧比为:(400SCCM?420SCCM): (20?40SCCM),可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。
[0020]更进一步地,所述ZnSnO2介质层7的厚度为12.6nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,用交流中频电源、氩气作为溅射气体、氧气作反应气体溅射ZnSn (质量百分比Zn: Sn = 50:50)靶制备而成,其中,氩氧比为(400SCCM?420SCCM): (450SCCM?500SCCM),氩氧比是该膜层的核心,决定了成膜的质量。
[0021]又进一步地,所述Si3N4顶层介质层8的厚度为3.5nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,用交流中频电源、氩气作为溅射气体、氮气作反应气体溅射硅铝靶(硅铝质量百分比92:8)制备而成,氩氮比为(400SCCM?420SCCM): (450SCCM?500SCCM),氩氮比是该膜层的核心,决定了成膜的质量。
[0022]本发明结构简单,创造性地采用普通白色浮法玻璃作为玻璃基材,合理调整第一NiCrOx膜层、Ag层、第二 NiCrOx膜层的厚度,镀上相应的膜层后,产生色泽鲜艳的湖水兰的外观效果,通过色度仪可以测得色度指标b*达到-18,呈现鲜艳的湖水兰色调,且成本较低。另外,本发明具有比传统单银LOW-E玻璃更低的辐射率。
[0023]以上所述仅为本发明的较佳实施例,并非用来限定本发明实施的范围,凡依本发明专利范围所做的同等变化与修饰,皆落入本发明专利涵盖的范围。
【权利要求】
1.一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,包括玻璃基材,其特征在于:所述玻璃基材为白色浮法玻璃,其上表面由下而上依次设有T1x底层介质层、第一 NiCrOx膜层、AZO平整层、Ag层、第二 NiCrOx膜层、ZnSnO2介质层、以及Si3N4顶层介质层;所述第一 NiCrOx膜层的厚度为1.6nm,所述Ag层的厚度为5.4nm,第二 NiCrOx膜层的厚度为1.lnm。
2.根据权利要求1所述的一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述T1x底层介质层的厚度为9nm。
3.根据权利要求1所述的一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述AZO平整层的厚度为5.8nm。
4.根据权利要求1所述的一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述ZnSnO2介质层的厚度为12.6nm。
5.根据权利要求1所述的一种用白玻制备的湖水兰色单银LOW-E玻璃,其特征在于:所述Si3N4顶层介质层的厚度为3.5nm。
【文档编号】B32B9/04GK104339784SQ201410606423
【公开日】2015年2月11日 申请日期:2014年10月30日 优先权日:2014年10月30日
【发明者】禹幸福, 陈圆 申请人:中山市亨立达机械有限公司
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