专利名称：抗磨耗转印架构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种转印架构，尤指一种具有抗磨耗能力的转印架构。
背景技术：
转印技术是将载体薄膜上的图文利用压力的方式，将图文转移至所欲印制的物品上，而增添物品外观的变化性。随着技术的进展，转印技术已可广泛应用于各种材质的表面，如金属、玻璃、塑料、陶瓷等。 众多转印技术中，最常见者为热转印技术，其原理是将所欲转印的花纹图样印刷至一耐热基材薄膜上，将带有花纹图样的基材薄膜放置在所欲转印的物品表面或位置上后，利用加热加压等方式，使花纹图样转移至该物品上。传统热转印技术完成后，形成花纹图样的印刷层直接与外界接触，一般而言，印刷层属于软性材料，容易因为与其它物品之间的磨擦或碰撞而造成斑驳脱落，影响热转印的品质及寿命。为能提供保护效果，传统的作法是在热转印后，进行喷涂作业形成一保护膜。然而，喷涂作业不仅会造成环境上的污染，且浪费大量的喷涂材料，增加生产所需成本。 由于传统热转印具有上述缺失，模内装饰技术(In-MoldDecoration， IMD)于是成为形成物品表面图样的另一种选择技术。其流程是将一附有硬化层结构的具有装饰图样的薄膜，置于进行射出成型模具中，利用射出成型的方式将热熔树脂在成形薄膜的一侧射出，使该热熔树脂与该薄膜相互结合为一体。虽然装饰图样被硬化层覆盖而不会直接与外界接触造成损坏或刮伤，然而在大弯角的立体设计模面上容易出现龟裂的状况，及可能会产生皱褶或气泡等使用上的局限。
发明内容
本发明的主要目的在于，使传统热转印具备有MD对于文字图样的保护能力，并克服MD无法应用于立体产品的限制。为达上述目的，本发明提供一种抗磨耗转印架构，以压印工艺将图样文字转移至一承印体表面，包括有一硬化保护层以及一离型基层。该硬化保护层包含有一第一表面以及一第二表面，该第一表面以一转印黏着胶贴附于该承印体上，并至少盖覆于该图样文字的相对区域。该离型基层以离型方式设置在该硬化保护层的第二表面上，在压印工艺后对该离型基层施加一拨离力，以使该离型基层与该硬化保护层分离。 其中，在本发明中，该硬化保护层的硬度以及抗刮标准，分别依据JIS K 5400以铅笔硬度试验测量时具有F或更高的表面硬度，以及依据RCA的标准在175g施压下至少300次没有产生刮痕。此外，该硬化保护层的厚度介于3-100 y m之间，其中以4-30 y m之间为优选选择。 在本发明中，该离型基层内一体地包含有离型材料，或者该离型基层可包含有一与该第二表面接触的离型膜，以及一位于该离型膜上的基材膜；其中，该离型方式的有效温度介于5(TC _3001:之间。此外，该图样文字可由一油墨层形成，该油墨层位于该硬化保护
4层的第一表面上。该油墨层可为升华型转印油墨、热熔型转印油墨或者UV型转印油墨等。该油墨层还可包含有遮光层、金属蒸镀层、溅镀层或珠光材料层等。而该转印黏着胶具有一活化温度，该活化温度介于80°C _2501:之间；该转印黏着胶可选自多种黏着材料，如热熔胶、uv胶、光活化胶以及电子束活化胶等。而该转印黏着胶内可增加平流剂以得到较为平
整的转印架构。 本发明的抗磨耗转印架构的特点在于 1.将离型基材拨离后所露出的硬化保护层得以隔绝该图样文字与外部的接触，并提供该承印体表面具有抗磨耗的效果。 2.解决传统热转印利用喷涂作业形成保护膜的污染或浪费问题，以及克服MD技术不能应用于立体产品的限制。
图1是本发明一优选实施例的结构分解示意图； 图2是本发明具有复合基材膜的离型基层的一优选实施例的结构分解示意 图3是本发明另一实施例的结构分解示意图； 图4是本发明具有复合基材膜的离型基层的另一实施例的结构分解示意图。
具体实施例方式
有关本发明的详细说明及技术内容，现结合
如下 参照图1所示，是本发明一优选实施例的结构分解示意图，如图所示本发明为一种抗磨耗转印架构10，以压印工艺将图样文字转移至一承印体20表面。该承印体20可为多禾中材质，如聚碳酸酉旨(polycarbonate,PC) 、ABS树月旨(acrylonitrile butadiene styrene，ABS)、聚甲基丙烯酸甲酉旨(polymethylmethacrylate, P薩)、聚縮醛(polyoxymethylene，POM)或聚对苯二甲酸丁二醇酯(polybutylene ter印hthalate，PBT)等；且该承印体20的表面除了可为平面外，亦可具有至少10°至90°的倾斜角度。该转印架构10至少包括有一硬化保护层11以及一离型基层12。该硬化保护层11包含有一第一表面111以及一第二表面112，该第一表面111以一转印黏着胶13贴附于该承印体20上，并至少盖覆于该图样文字的相对区域。该离型基层12以离型方式设置在该硬化保护层11的第二表面112上，在压印工艺后对该离型基层12施加一拨离力P，以使该离型基层12与该硬化保护层11分离。 在本发明中，该硬化保护层11的厚度介于3-100 iim之间；其中，优选厚度介于4-20iim之间。 本发明的硬化保护层11具有良好硬度以及抗刮性以保护该图样文字，该硬度以及该抗刮性的标准分别为，依据JIS K 5400标准方法测量下，其铅笔硬度可达F或更高的表面硬度，以及依据RCA的标准方法测量下，在175g施压时至少可承受300次而没有产生刮痕。 在本发明中，该图样文字可由一油墨层16形成，该油墨层16位于该硬化保护层11的第一表面111上；且该油墨层16中为因应不同的显示效果还可包含有遮光层、金属蒸镀层、溅镀层或珠光材料层等。其中，该油墨层16为升华型(sublimation type)转印油墨、热熔型(heat-transfer type)转印油墨或UV型转印油墨等。 负责将该硬化保护层11黏附于该承印体20表面的转印黏着胶13可根据不同压印方式，位于该承印体20的表面，或者位于该硬化保护层11的第一表面111上。在本实施例中，该转印黏着胶13可为热熔胶、UV胶、光活化胶或电子束活化胶等。且当该转印黏着胶13加温至一活化温度以上时，该转印黏着胶13具有黏着性，其中，该活化温度介于80°C _2501:之间。此外，为能得到优选的平整度，可于该转印黏着胶13中加入一平流剂。
在本实施例中，为了能使该离型基层12以离型方式结合于该硬化保护层ll，可在该离型基层12内加入离型材料，使该硬化保护层11直接具有离型能力。其中，该离型基层12可为单一层选自聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate， PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate， PEN) 、二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酯(polyethylene glycol_co_cyclohexane_l， 4dimethanolter印hthalate， PETG)、热塑性聚胺基甲酸酯(thermalplasticpolyurethane， TPU)、聚胺酯(polyurethane， PU)、聚丙烯(polypropylene, PP)、聚碳酸酯(polycarbonate, PC)非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙條(polyvinyl chloride,PVC)等高分子材料，或者可由多个上述高分子材料相互组成。其中，该离型方式的有效温度介于50°C -30(TC之间。 或者，如图2所示，该离型基层12是由一主基材层121以及一副基材层122组成的复合基材膜，该主基材层121可为聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate，PET)、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene n即hthalate， PEN)等，而该副基材层122可为二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酉旨(polyethyleneglycol_co_cyclohexane_l，4dimethanolter印hthalate， PETG)、热塑性聚胺基甲酸酯(thermalplastic polyurethane， TPU)、聚胺酉旨(polyurethane,PU)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚碳酸酉旨(polycarbonate,PC)、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯(amorphouspolyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙烯(polyvinyl chloride, PVC)等。其中，该离型方式的有效温度介于50°C-30(TC之间。
在本发明中，该离型基层12除了可因加入离型材料，使该硬化保护层11直接具有离型能力外，亦可以分层为一与该第二表面112接触的离型膜14以及一位于该离型膜14上的基材膜15的方式，来达到具有离型能力效果，参照图3所示。其中，该基材膜15可为单一层选自聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate， PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate, PEN) 、 二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酯(polyethylene glycol_co_cyclohexane_l，4dimethano1 ter印hthalate， PETG)、热塑性聚胺基甲酸酯(thermalplastic polyurethane, TPU)、聚胺酯(polyurethane, PU)、聚丙烯(polypropylene, PP)、聚碳酸酯(polycarbonate, PC)、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙條(polyvinyl chloride,PVC)等高分子材料，或者可由多个上述高分子材料相互组成。其中，该离型方式的有效温度介于50°C -30(TC之间。 或者，如图4所示，该基材膜15是由一主基材层151以及一副基材层152组成的复合基材膜，该主基材层151可为聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate，PET)、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯(amorphous polyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate， PEN)等，而该副基材层152可为二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酉旨(polyethyleneglycol_co_cyclohexane_l，4dimethanolter印hthalate， PETG)、热塑性聚胺基甲酸酯(thermalplastic polyurethane， TPU)、聚胺酉旨(polyurethane,PU)、聚丙烯(polypropylene,PP)、聚碳酸酉旨(polycarbonate,PC)、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯(amorphouspolyethylene ter印hthalate， A-PET)或聚氯乙烯(polyvinyl chloride, PVC)等。其中，该离型方式的有效温度介于50°C-30(TC之间。
使用者可将本发明的转印架构10通过该转印黏着胶13贴附于该承印体20上，利用滚轮热压或平板热压等印压工艺，使该转印架构10固着在该承印体20上。此时，使用者对该离型基层12施以一拨离力P，使该离型基层12脱离于固定在该承印体20上的硬化保护层ll，因此，露出的硬化保护层ll得以隔绝该图样文字与外部的接触，并提供该承印体20表面具有抗磨耗的效果。 综上所述，本发明抗磨耗转印架构主要包含有一硬化保护层以及一离型基层。相比较于传统热转印技术，转印在该承印体上的图样文字得以受到该硬化保护层覆盖，而避免因与其它物品的碰撞或磨擦而导致拨离，亦没有因使用传统喷涂作业所产生的污染及浪费。另一方面，该硬化保护层得以均匀贴附于该承印体表面，得以克服MD技术因立体弯角过大而产生皱褶或气泡等问题。 以上已将本发明做一详细说明，只是以上所述仅为本发明的一优选实施例而已，当不能限定本发明实施的范围。即凡依本发明申请范围所作的均等变化与修饰等，皆应仍属本发明的专利涵盖范围内。
权利要求
一种抗磨耗转印架构，以压印工艺将图样文字转移至一承印体(20)表面，其特征在于包括有一硬化保护层(11)，包含有一第一表面(111)以及一第二表面(112)，所述第一表面(111)以一转印黏着胶(13)贴附于所述承印体(20)上，并至少盖覆于所述图样文字的相对区域；以及一离型基层(12)，以离型方式设置在所述硬化保护层(11)的第二表面(112)上，在压印工艺后对所述离型基层(12)施加一拨离力(P)，以使所述离型基层(12)与所述硬化保护层(11)分离；由此，露出的硬化保护层(11)得以隔绝所述图样文字与外部的接触，并提供所述承印体(20)表面具有抗磨耗的效果。
2. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述硬化保护层(11)依据JISK 5400以铅笔硬度试验测量时具有F或更高的表面硬度。
3. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述硬化保护层(11)依据RCA的标准在175g施压下至少300次没有产生刮痕。
4. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述硬化保护层(11)的厚度介于3-100 iim之间。
5. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述硬化保护层(11)的优选厚度介于4-30iim之间。
6. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述离型基层(12)内一体地包含有离型材料。
7. 根据权利要求6所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述离型基层(12)选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酯、热塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯组成的群组或其组合。
8. 根据权利要求6所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述离型基层(12)是由一主基材层(121)以及一副基材层(122)组成的复合基材膜，所述主基材层(121)选自聚对苯二甲酸乙二酯、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯以及聚萘二甲酸乙二醇酯组成的群组，而所述副基材层(122)选自二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酯、热塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯组成的群组。
9. 根据权利要求6所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述离型方式的有效温度介于50°C -30(TC之间。
10. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述离型基层(12)包含有一与所述第二表面(112)接触的离型膜(14)，以及一位于所述离型膜(14)上的基材膜(15)。
11. 根据权利要求IO所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述基材膜(15)选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酯、热塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯组成的群组或其组合。
12. 根据权利要求10所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述基材膜(15)是由一主基材层(151)以及一副基材层(152)组成的复合基材膜，所述主基材层(151)选自聚对苯二甲酸乙二酯、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯以及聚萘二甲酸乙二醇酯组成的群组，而所述副基材层(152)选自二醇变性聚乙烯对苯二甲酸酯、热塑性聚胺基甲酸酯、聚胺酯、聚丙烯、聚碳酸酯、非结晶化聚对苯二甲酸二醇酯以及聚氯乙烯组成的群组。
13. 根据权利要求IO所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述离型方式的有效温度介于50°C -30(TC之间。
14. 根据权利要求1所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述图样文字由一油墨层(16)形成，所述油墨层(16)位于所述硬化保护层(11)的第一表面(111)上。
15. 根据权利要求14所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述油墨层(16)选自升华型转印油墨、热熔型转印油墨以及UV型转印油墨等组成的群组。
16. 根据权利要求14所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述油墨层(16)还包含有遮光层、金属蒸镀层、溅镀层或珠光材料层等。
17. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述转印黏着胶(13)具有一活化温度，所述活化温度介于80°C -250°C之间。
18. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述转印黏着胶(13)中还具有一平流剂。
19. 根据权利要求l所述的抗磨耗转印架构，其特征在于，所述转印黏着胶(13)选自热熔胶、UV胶、光活化胶以及电子束活化胶等组成的群组或其组合。
全文摘要
一种抗磨耗转印架构，以压印工艺将图样文字转移至一承印体表面，包括有一硬化保护层以及一离型基层。该硬化保护层包含有一第一表面以及一第二表面，该第一表面以一转印黏着胶贴附于该承印体上，并至少盖覆于该图样文字的相对区域。该离型基层以离型方式设置在该硬化保护层的第二表面上，在压印工艺后对该离型基层施加一拨离力，以使该离型基层与该硬化保护层分离。由此，本发明的抗磨耗转印架构所露出的硬化保护层得以隔绝该图样文字与外部的接触，并提供该承印体表面具有抗磨耗的效果。
文档编号B41M5/00GK101746171SQ20081018408
公开日2010年6月23日 申请日期2008年12月17日 优先权日2008年12月17日
发明者廖志远, 王顺程, 陈玟蓉, 黄世敏 申请人:锣洋科技股份有限公司