专利名称：一种细小文字的超精细雕刻方法
技术领域：
本发明涉及雕刻法，特别是涉及一种细小文字的超精细雕刻方法。
背景技术：
现在的电雕机雕刻的文字边缘有大小不一的小网点存在，使线条及文字发虚。当 文字线条小到一定程度(小于0. 2mm)时，文字的笔画将大部分都为非实地网点组成，文字 的印刷效果将很差。若承印物为纸张，将几乎无法识别出所印刷的文字，产生这种现象的原 因是由于我们所使用的电雕机的工作机理所决定的。通常我们的解决办法是尽量采用高线 数工艺来保证文字边缘效果，但随之带来的是文字的含墨量减少，文字笔画印不实，因此我 们只能在兼顾边缘效果和笔画实在程度之间找一个折中方案。
发明内容
本发明所要解决的技术问题就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种 细小文字的超精细雕刻方法。本发明的目的可以通过以下技术方案来实现一种细小文字的超精细雕刻方法， 其特征在于，包括以下步骤1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理；2)调整雕刻机雕刻头，设定P卡上交流信号；3)退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则 进行雕刻；5)雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕 刻完成。与现有技术相比，本发明使用原有雕刻电流的直流控制信号来进行雕刻，它在铜 层上所雕刻图形是由长短不同的槽组成，而不是以往的网点，边缘整齐(尤其是斜竖线 条)，原有网墙的空间也被雕刻为含墨槽，所以相同文字的含墨量为原有的两倍，同时耐印 率也可以达到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的两倍，并且文字印刷效果清晰、实在。
图1为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图一；图2为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图二 ；图3为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图三；图4为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图四；图5为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图五；图6为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图六；图7为现有雕刻法与本发明方法的实际印样效果对比图。
其中图7的左侧为本发明实际印样效果，右侧为现有雕刻法实际印样效果。
具体实施例方式下面对本发明作进一步说明。1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理，所采用工艺与正常文字线条工艺相同。2)调整雕刻机雕刻头，设定P卡上交流信号；3)因精细雕刻时雕刻针无固定频率的振荡，所以雕刻针振动幅度会减小，需适当 退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则 进行雕刻；5)雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕 刻完成。6)若采用正常雕刻方式时，重新调整P卡上交流信号，可进行正常试雕。
权利要求
一种细小文字的超精细雕刻方法，其特征在于，包括以下步骤1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理；2)调整雕刻机雕刻头，设定P卡上交流信号；3)退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则进行雕刻；5)雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕刻完成。
全文摘要
本发明涉及一种细小文字的超精细雕刻方法，包括将电雕机图案在拼版时作分雕处理；调整雕刻机雕刻头，设定P卡上交流信号；退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则进行雕刻；雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕刻完成。本发明使用原有雕刻电流的直流控制信号来进行雕刻，它在铜层上所雕刻图形是由长短不同的槽组成，而不是以往的网点，边缘整齐，原有网墙的空间也被雕刻为含墨槽，所以相同文字的含墨量为原有的两倍，同时耐印率也可以达到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的两倍，并且文字印刷效果清晰、实在。
文档编号B41C1/045GK101987528SQ2009100561
公开日2011年3月23日 申请日期2009年8月7日 优先权日2009年8月7日
发明者卫永新 申请人:上海运安制版有限公司