专利名称：用于提供无水印刷版的可成像元件的制作方法
技术领域：
本发明提供改进的非烧蚀可成像元件，其可以在没有烧蚀的情况下成像，然后用 简单水溶液显影和用于“无水”印刷。本发明还提供一种使用这种非烧蚀可成像元件的方 法。
背景技术：
在常规或“湿型”平版印刷中，称为图像区域的吸油墨区域在亲水性表面上产生。 当表面用水润湿以及施涂油墨时，亲水性区域留住水并排斥油墨，而吸油墨区域接受油墨 并排斥水。油墨被转移到其上将再产生图像的材料表面。例如，油墨可以首先转移到中间 毡垫，其进而用来将油墨转移到其上将再产生图像的材料表面。无水印刷版已于1970年已知并使用。这些印刷版可以在不需要印刷机内浸湿水 (润版液)的情况下用于印刷。大多数无水印刷版包括排斥油墨层，例如覆盖在辐射敏感 层上的硅氧烷层和更加吸收油墨的基材。无水印刷的一些详情及其优点例如在Waterless Printing Association (无水印刷协会)的网站 www, waterless. orR 上提供。例如，无水印刷的一些好处包括图像颜色一致(色彩逼真度更好)、色彩饱和度 更好和网点扩大(dot gain)更低(更清晰)。另外，因为印刷期间不使用润版液，所以 印刷中可以使用多种纸张，包括无涂层纸。此外，用无水印刷可以获得更快的准备就绪 (make-readies)，以及可以使用小型紧凑的印刷机，使得印刷操作可以在更小的工厂中进 行(设备和建筑投资更少)。由于不使用润版液，无水印刷对环境更好。印刷操作者不再需 要小心地平衡润版液和平版印刷油墨，并且可以用更少的训练进行其操作。正性工作无水印刷版已经由包含负性工作重氮树脂的可成像元件和UV辐射制 备。负性工作无水印刷版已经使用UV辐射和含重氮萘醌可成像元件或酸催化化学过程获 得。大部分早期的无水印刷版使用摄影胶片制备。使用此类胶片是昂贵的和繁琐的。 这些缺点近年来由“计算机-版”(CTP)技术解决，由此无水印刷版使用一个或多个激光器， 根据计算机产生的信号直接成像。例如，可以用CTP制版照排仪(Platesetter)实现。制备无水印刷版的一种方法包括在辐射敏感可成像元件上产生接触掩模。该掩模 可以例如使用数字装置，例如墨喷式打印机、电记录印刷机(electrographic printer)，或 含有数字控制的激光器的任何其它装置来产生。激光器烧蚀、激光器烧蚀转印或激光致变 色技术也可以用来产生掩模。但是，使用掩模制备无水印刷版是昂贵的并且需要复杂的处 理方法。已知两种商业类型的热(计算机-版，或“CTP”)无水印刷系统。一种无水印刷系 统包括通过激光器烧蚀成像，所述激光器烧蚀包括破坏性剥离或挥发以及去除一个或多个 已成像层中的物质。烧蚀成像需要很高的成像能量(可成像元件具有较慢的成像速率)并 且产生大量的必须捕获或释放进入环境中的碎屑和气体排放物。US 5，339，737 (Lewis等 人)和5，353，705 (Lewis等人)描述用于制造无水印刷版的多层可烧蚀元件和成像系统。
另一种无水印刷系统需要用激光器(多半通过掩模)溶解已成像层，然后使用经 常包含有机溶剂的显影剂或使用预处理溶液，或两者去除已成像区域中的已成像层来进行 热成像，如例如 US 4, 342, 820 (Kinashi 等人)、6，074，797 (Suezawa 等人)、6，284，433 (Ichikawa 等人)和 6，964，841 (Iihara 等人)中描述的。另外，US 6，194，122 (Ichikawa 等人)描述了通过叠层形成的无水印刷版。US 5，919，600 (Huang等人)描述一种双层非烧蚀可成像元件，可用于提供使用 含溶剂显影剂去除溶解的可成像层和覆盖硅氧烷层的无水印刷版。共同未决和普通转让的美国序列号12/060,609 (2008年4月2日由Melamed， Huang, Konstantini和Matzner提交)描述三层可成像元件，其可用于提供可用于无水印 刷的平版印刷版。要解决的问题无水印刷是一种理想的印刷技术，其可以在没有润版液的情况下使用并可以提供若干 优点。需要在不进行烧蚀成像或不使用主要含有环境不友好有机溶剂的显影剂进行显影 的情况下，可用于提供无水印刷版的可数字成像元件。烧蚀成像经常引起硅橡胶碎片污染 CTP制版照排仪中的传送辊的问题，导致从一个印刷版到另一个印刷版的成像问题。另外， 需要提供一种简单的可成像元件，其可以在显影之前没有预处理的基础上用于制备无水印 刷版。还希望当在显影期间从元件去除硅氧烷时，以不阻塞处理器或污染CTP制版照排仪 的小片形式去除硅氧烷碎屑。
发明内容
本发明提供一种可使用非烧蚀方法成像且可用于无水印刷的可成像元件，该元件 包括基材，在基材上依次具有以下相邻的主要层包括第一聚合物基料和红外辐射吸收化合物的非硅氧烷非交联层，和 直接设置在非硅氧烷非交联层上的交联硅橡胶层，其中非硅氧烷非交联层具有耐化学性，使得如通过在室温下在2- 丁氧基乙醇水80 20重量溶液中将基材上的干燥非硅氧烷非交联层单独浸泡五分钟显示的，干燥涂层重量损 失低于35%。本发明还提供一种制造适用于无水印刷的成像元件的方法，该方法包括在没有烧 蚀的情况下A)使用红外辐射使可由非烧蚀方法成像且可用于无水印刷的可成像元件成像曝光， 在可成像元件中提供已曝光和未曝光区域，该非烧蚀可成像元件包括基材，在基材上依次具有以下相邻的主要层 包括第一聚合物基料和红外辐射吸收化合物的非硅氧烷非交联层，和 直接设置在非硅氧烷非交联层上的交联硅橡胶层，和B)仅通过以下步骤，仅主要去除曝光区域中的交联硅橡胶层和低于10%的所述非硅 氧烷非交联层的上部，提供成像元件(a)使该成像曝光的可成像元件与水或包括少于8wt%有机溶剂的水溶液接触，(b)向成像曝光的可成像元件施加机械去除手段，或(c)使该成像曝光的可成像元件与水或包括少于8衬％有机溶剂的水溶液接触和施加机械去除手段的组合。此外，本发明还供一种通过无水印刷产生印刷图像的方法，该方法包括在没有烧 蚀的基础上A)使用红外辐射使可由非烧蚀方法成像的可成像元件成像曝光，在可成像元件中提 供已曝光和未曝光区域，该可成像元件包括基材，在基材上依次具有以下相邻的主要层 包括第一聚合物基料和红外辐射吸收化合物的非硅氧烷非交联层，和 直接设置在非硅氧烷非交联层上的交联硅橡胶层，B)仅主要去除曝光区域中的交联硅橡胶层和低于10%的所述非硅氧烷非交联层的上 部，提供成像元件，和C)使成像元件在印刷机内仅与平版印刷油墨接触。在一些实施方案中，交联硅橡胶层衍生自如下定义的组合物I或组合物II 组合物I包括(a)主要具有二甲基硅氧烷单元和由以下结构(PSR)表示的硅氧烷单元的聚硅氧烷 材料
权利要求
1.一种可使用非烧蚀方法成像且可用于无水印刷的可成像元件，所述元件包括基材， 在基材上依次具有以下相邻的主要层包括第一聚合物基料和红外辐射吸收化合物的非硅氧烷非交联层，和 直接设置在所述非硅氧烷非交联层上的交联硅橡胶层，其中所述非硅氧烷非交联层具有耐化学性，使得如通过在室温下在2- 丁氧基乙醇水 80:20重量溶液中将基材上的所述干燥非硅氧烷非交联层单独浸泡五分钟显示的，干燥涂 层重量损失低于35%。
2.权利要求1的元件，其中所述交联硅橡胶层衍生自如下定义的组合物I或组合物II 组合物I包括(a)主要具有二甲基硅氧烷单元和由以下结构(PSR)表示的硅氧烷单元的聚硅氧烷 材料
3.权利要求1的元件，其中所述第一聚合物基料至少部分衍生自(甲基)丙烯腈和 N-取代环状酰亚胺，和任选另外衍生自(甲基)丙烯酰胺。
4.权利要求1的元件，其中所述交联硅橡胶层具有0.5至3. 5 μ m的厚度。
5.权利要求1的元件，其中所述红外辐射吸收化合物为以至少8衬％的量仅存在于所 述非硅氧烷非交联层中的顶吸收染料。
6.权利要求1的元件，其为具有含铝基材的平版印刷版前体。
7.权利要求1的元件，其中所述第一聚合物基料以至少60衬％的量存在，并且所述非 硅氧烷非交联层具有0. 7至3 g/m2的干燥覆盖度。
8.权利要求1的元件，其中所述非硅氧烷非交联层包括促进所述非硅氧烷非交联层和 所述交联硅橡胶层之间粘合性的粘合促进化合物，并且所述粘合促进化合物包括一个或多 个乙烯基、SiH, SiOH, SiOR3, SiOCOR4或环氧基，其中R3和R4独立地为取代或未取代的烷基 或芳基。
9.一种制造适用于无水印刷的成像元件的方法，所述方法包括在没有烧蚀的情况下A)使用红外辐射使可由非烧蚀方法成像且可用于无水印刷的可成像元件成像曝光，在所述可成像元件中提供已曝光和未曝光区域，所述非烧蚀可成像元件包括基材，在基材上依次具有以下相邻的主要层 包括第一聚合基料和红外辐射吸收化合物的非硅氧烷非交联层，和 直接设置在所述非硅氧烷非交联层上的交联硅橡胶层，和B)仅主要去除所述曝光区域中的交联硅橡胶层和低于10%的所述非硅氧烷非交联层 的上部，提供成像元件， 仅通过a)使所述成像曝光的可成像元件与水或包括少于8wt%有机溶剂的水溶液接触，b)向所述成像曝光的可成像元件施加机械去除手段，或c)使所述成像曝光的可成像元件与水或包括少于8wt%有机溶剂的水溶液接触和施 加机械去除手段的组合。
10.权利要求9的方法，其中所述成像曝光在70至300mj/cm2下进行。
11.权利要求10的方法，其中所述交联硅橡胶层具有0.5至3.5 μ m的厚度并且衍生 自如下定义的组合物I或组合物II 组合物I包括(a)主要具有二甲基硅氧烷单元和由以下结构(PSR)表示的硅氧烷单元的聚硅氧烷 材料其中R1和&独立地为烷基、芳基和烯基，只要至少一个为烯基，(b)具有SiH基团的硅烷交联剂，(c)钼催化剂，和(d)任选稳定剂或粘合促进剂或两者，组合物II包括(a)具有Si0H、Si0R3或SiOCOR4端基或其任意组合的聚二甲基硅氧烷，其中R3和R4独 立地为取代或未取代的烷基、烯基或芳基，(b)具有Si0H、Si0R3或SiOCOR4基团的至少任意两个的硅氧烷交联剂，其中R3和R4如 以上定义，和(c)任选催化剂或粘合促进剂或两者，和其中所述红外辐射吸收化合物为以至少8 wt%的量仅存在于所述非硅氧烷非交联层中 的顶吸收染料。
12.权利要求9的方法，其中所述非硅氧烷非交联层具有耐化学性，使得如通过在室温 下在2- 丁氧基乙醇水80 20重量溶液中将基材上的所述干燥非硅氧烷非交联层单独 浸 泡五分钟显示的，干燥涂层重量损失低于35%。
13.权利要求9的方法，其中使用水或主要由表面活性剂组成的所述水溶液和去除手 段的组合进行步骤B。
14.权利要求9的方法，其中所述第一聚合物基料至少部分衍生自(甲基)丙烯腈和 N-取代环状酰亚胺，和任选另外衍生自(甲基)丙烯酰胺。
15.一种由无水印刷获得印刷图像的方法，所述方法包括在没有烧蚀的情况下A)使用红外辐射使可由非烧蚀方法成像且可用于无水印刷的可成像元件成像曝光， 在所述可成像元件中提供已曝光和未曝光区域，所述可成像元件包括基材，在基材上依次具有以下相邻的主要层 包括第一聚合物基料和红外辐射吸收化合物的非硅氧烷非交联层，和 直接设置在所述非硅氧烷非交联层上的交联硅橡胶层，B)仅主要去除所述曝光区域中的交联硅橡胶层和低于10%的所述非硅氧烷非交联层 的上部，提供成像元件，和C)使所述成像元件在印刷机内仅与平版印刷油墨接触。
16.权利要求15的方法，其中所述交联硅橡胶层具有0. 5至3. 5 μ m的厚度并且衍生 自如下定义的组合物I或组合物II 组合物I包括(a)主要具有二甲基硅氧烷单元和由以下结构(PSR)表示的硅氧烷单元的聚硅氧烷 材料
17.权利要求15的方法，其中通过以下进行步骤B:a)使所述成像曝光的可成像元件与水或包括少于8wt%有机溶剂的水溶液接触，b)向所述成像曝光的可成像元件施加去除手段，或c)使所述成像曝光的可成像元件与水或包括少于8wt%有机溶剂的水溶液接触和施 加去除手段的组合。
18.权利要求15的方法，其中所述非硅氧烷非交联层具有耐化学性，使得如通过在室 温下在2- 丁氧基乙醇水80 20重量溶液中将基材上的所述干燥非硅氧烷非交联层单独 浸泡五分钟显示的，干燥涂层重量损失低于35%。
19.权利要求15的方法，其中所述第一聚合物基料至少部分衍生自(甲基)丙烯腈和 N-取代环状酰亚胺，和任选另外衍生自(甲基)丙烯酰胺。
20.权利要求15的方法，其中在成像曝光步骤A期间，仅主要在所述曝光区域中所述交 联硅橡胶层从所述非硅氧烷非交联层剥离。
全文摘要
可成像元件可以使用非烧蚀方法成像。该元件具有与油墨排斥交联硅橡胶层邻接并在其下的非硅氧烷非交联层。这些元件可以用于提供可用于无水印刷(没有润版液)的平版印刷版。成像之后的处理相对简单，用水或主要由表面活性剂组成的水溶液或者机械法去除成像区域中的交联硅橡胶层以及少量的非硅氧烷非交联层。
文档编号B41C1/10GK102056743SQ200980120931
公开日2011年5月11日 申请日期2009年5月28日 优先权日2008年6月5日
发明者E·康斯坦蒂尼, J·黄, O·梅拉梅德 申请人:伊斯曼柯达公司