一种矽肺模型制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种矽肺模型制作方法，包括以下步骤：(1)将大鼠麻醉后，水平仰卧位，完成气管导管插管；(2)染尘组按照0.2g/kg标准二氧化硅用无菌生理盐水配制成100mg/ml混悬液；(3)将混悬液高压灭菌后加入青霉素2000IU备用；(4)经气管插管一次性注入二氧化硅混悬液1ml于大鼠两肺，第二周重复染尘1次。本发明所带来的的有益效果是：(1)采用无损伤直接插管灌肺技术，大鼠使用自制气管插管全肺灌注；(2)检查是否在气管内，在气管内大鼠表现呼吸均匀，否则表现呼吸困难；(3)灌注后注意动物呛咳，避免灌注物排出，可适时给予呼吸机辅助呼吸，灌注完成后注意观察大鼠呼吸。
【专利说明】一种矽肺模型制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种矽肺发病机制研究方法，具体为一种矽肺模型制作方法。
【背景技术】
[0002]矽肺是我国重要的职业病之一，其主要表现为双肺的进行性纤维化，这种纤维化即使脱离S12的接触环境也仍然处于进展中，关于矽肺的发病机制非常复杂，至今已提出众多学说，其中有:①机械刺激学说，②化学毒性学说，③免疫学说，④H印Pleston学说以及⑤联合作用学说等，但这些学说均不能完整的解释矽肺疾病的发尘与发展机制，给矽肺的研究与治疗带来极大的困难。
【发明内容】
[0003]为了克服以上技术缺陷，本发明提供一种矽肺模型制作方法，用于研究矽肺的发病机制。
[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案为，一种矽肺模型制作方法，包括以下步骤:
[0005](I)将大鼠麻醉后，水平仰卧位，完成气管导管插管；
[0006](2)染尘组按照0.2g/kg标准二氧化娃用无菌生理盐水配制成100mg/ml混悬液；
[0007](3)将混悬液高压灭菌后加入青霉素2000IU备用；
[0008](4)经气管插管一次性注入二氧化硅混悬液Iml于大鼠两肺，第二周重复染尘I次。
[0009]具体的，二氧化硅的颗粒直径在1-5 μ m。
[0010]本发明所带来的的有益效果是:(1)采用无损伤直接插管灌肺技术，大鼠使用自制气管插管全肺灌注；
[0011](2)检查是否在气管内，在气管内大鼠表现呼吸均匀，否则表现呼吸困难；
[0012](3)灌注后注意动物呛咳，避免灌注物排出，可适时给予呼吸机辅助呼吸，灌注完成后注意观察大鼠呼吸；
[0013](4)适时拔出气管插管，注意观察动物呼吸状况，直至清醒，避免意外。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1-图3为大鼠肺部变化图
【具体实施方式】
[0015]下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。
[0016]本发明为一种矽肺模型制作方法，包括以下步骤:
[0017](I)将大鼠麻醉后，水平仰卧位，完成气管导管插管；
[0018](2)染尘组按照0.2g/kg标准二氧化娃用无菌生理盐水配制成100mg/ml混悬液，二氧化硅的颗粒直径在1-5 μ m。
[0019](3)将混悬液高压灭菌后加入青霉素2000IU备用；
[0020](4)经气管插管一次性注入二氧化硅混悬液Iml于大鼠两肺，第二周重复染尘I次。
[0021]上述方法(I)采用无损伤直接插管灌肺技术，大鼠使用自制气管插管全肺灌注；
[0022](2)检查是否在气管内，在气管内大鼠表现呼吸均匀，否则表现呼吸困难；
[0023](3)灌注后注意动物呛咳，避免灌注物排出，可适时给予呼吸机辅助呼吸，灌注完成后注意观察大鼠呼吸；
[0024](4)适时拔出气管插管，注意观察动物呼吸状况，直至清醒，避免意外。
[0025]如图所示，图1可以看出肺泡腔内可见不规则微细颗粒及大量吞噬细胞及分叶核淋巴细胞、浆细胞渗出；
[0026]图2可以看出急性矽结节感染性肺泡炎伴矽结节形成；
[0027]图3可以看出急性矽结节感染性肺泡炎伴融合性矽结节形成。
[0028]本发明不局限于上述实施方式，任何人应得知在本发明启示下做出的结构变化所得出的相同或相近的技术方案，均落入本发明的保护范围之内。
[0029]本发明未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。
【权利要求】
1.一种矽肺模型制作方法，其特征在于，包括以下步骤: (1)将大鼠麻醉后，水平仰卧位，完成气管导管插管；(2)染尘组按照0.2g/kg标准二氧化娃用无菌生理盐水配制成100mg/ml混悬液； (3)将混悬液高压灭菌后加入青霉素2000IU备用； (4)经气管插管一次性注入二氧化硅混悬液Iml于大鼠两肺，第二周重复染尘I次。
2.如权利要求1所述的矽肺模型制作方法，其特征在于，二氧化硅的颗粒直径在1-5 μ m0
【文档编号】G09B23/28GK104200731SQ201410491713
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年9月24日 优先权日:2014年9月24日
【发明者】姜涛, 段明军, 张春, 王雪梅 申请人:姜涛, 段明军