专利名称：一种opp无版缝镭射冷转移膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及镭射模压转移膜技术领域，具体地说是一种OPP无版缝镭射冷转 移膜。
背景技术：
目前，市场上供应的OPP镭射转移膜大多都是采用单版模压工艺技术制得，虽然 具有转移产品的各种理化和环保性能，包括镭射装饰及防伪性能。但是现有的模压技术，因 版辊周长而致的拼版缝，使得镭射图案不能连续，影响卷筒凹印的套印，增加了凹印避版缝 的成本，不可避免会存在因拼版缝而跳标的问题，严重影响后道印刷工序的连续使用。
实用新型内容本实用新型的目的是针对现有技术的不足而提供的一种OPP无版缝镭射冷转移 膜，它不但具有镭射装饰及防伪性能，解决了因拼版缝而跳标，从而影响后道印刷工序连续 使用的问题，使后道凹印工序避版缝材料的损失大大降低，提高了生产效益。实现本实用新型目的的技术方案是一种OPP无版缝镭射冷转移膜，其特点是基 膜上模压镭射层，模压层为双版二次模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。本实用新型设计新颖，制作方便，与现有技术相比不仅保持了通常OPP镭射转移 产品的各种优良性能，更具有无可视版缝、可多次重复使用的特性，不影响凹印、套印，解决 了因拼版缝而跳标，从而影响后道印刷工序连续使用的问题，降低了后道印刷成本，提高了 生产效益。
图1为本实用新型结构示意图具体实施方式
参阅附图1，本实用新型由基膜1、镭射层2组成，镭射层2为双版二次模压制作的 可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案，本实用新型具有无可视版缝、可多次重复使用的特 性，降低了印刷成本。
权利要求一种OPP无版缝镭射冷转移膜，包括基膜(1)、镭射层(2)，其特征在于基膜(1)上模压镭射层(2)，镭射层(2)为双版二次模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。
专利摘要本实用新型公开了一种OPP无版缝镭射冷转移膜，其特点是基膜上模压镭射层，镭射层为无版缝模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。本实用新型与现有技术相比不仅保持了通常OPP镭射转移产品的各种优良性能，更具有无可视版缝、可多次重复使用的特性，不影响凹印、套印，解决了因拼版缝而跳标，从而影响后道印刷工序连续使用的问题，降低了后道印刷成本，提高了生产效益。
文档编号B44B5/00GK201646204SQ20102013359
公开日2010年11月24日 申请日期2010年3月17日 优先权日2010年3月17日
发明者夏晓谦, 蒋传亚, 袁晨, 金晶 申请人:上海绿新包装材料科技股份有限公司