专利名称：：电子照相光敏材料、电子照相光电导体及其制造方法
技术领域：
：本发明涉及用于电子照相装置(如打印机、复印机和传真机)的电子照相光敏材料和电子照相光电导体，还涉及这种光敏材料和光电导体的制造方法。具体地说，本发明涉及通过使用改良的添加剂而具有优良的表面电荷保持率的光敏材料和光电导体并涉及这种光敏材料和光电导体的制造方法。要求电子照相光电导体具有在黑暗中保持表面电荷、受光后产生电荷并且受光后转移电荷的功能。已知类型的光电导体包括所谓的单层型光电导体(它在单一层中具有所述功能)和所谓功能分离的叠层型光电导体，叠层型光电导体具有一层主要用于产生电荷的层和一层用于在黑暗中保持表面电荷而受光转移电荷的层。这些类型的光电导体用于用已知的电子照相方法(如Carlson法)形成影象。用这种方法形成影象是通过在黑暗中利用电晕放电对光电导体充电，在该光电导体带电表面上形成静电潜影(如原文的字符或图画)，用上色剂粉末显影如此形成的静电影象并将构成影象的该上色剂粉末转移并固定在载体(如纸)上而实现的。上色剂粉末转移后，除去残留的上色剂粉末后，用光照抹去残留的电荷就可重新使用该光电导体。对于电子照相光电导体的光敏材料，业已使用的有硒、硒合金、分散在树脂粘合剂中的无机光电导剂(如氧化锌和氧化镉)以及例如分散在树脂粘合剂中或者真空沉积或升华的有机光电导剂，如聚N-乙烯基咔唑、9，10-蒽二醇聚酯、腙、茋、丁二烯、联苯胺、酞菁或双偶氮化合物。日本未审定专利申请昭和58-211161、平成2-272461和平成4-294368以及美国专利5，514，505和5，563，014描述了在电子照相技术中使用苯邻二甲酰亚胺盐，但是这些文献仅涉及将其作为上色剂或用于形成透明的试剂。如上所述，对电子照相光敏材料、电子照相光电导体及其制造方法已进行了许多研究工作。但是，仍未获得令人满意的表面电荷保留率。因此，本发明的一个目的是提供一种具有优良的表面电荷保留率的电子照相光敏材料和含有这种光敏材料的电子照相光电导体以及这种光敏材料和光电导体的制造方法。通过研究苯邻二甲酰亚胺盐对电子照相性能的影响后完成了本发明。本发明人经过对所述问题的解决方法进行大量研究以后，发现在具有电荷产生功能的电子照相光敏材料中或在含有电荷产生剂的光电导体的光敏层中含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物可明显改进其表面电荷保留率。本发明就是在该基础上完成的。因此，本发明能产生电荷的电子照相光敏材料的特征在于其中含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物。本发明电子照相光电导体包括导电基片和在该基片上含有电荷产生剂的光敏层，所述光敏层含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物。本发明制造电子照相光敏材料的方法包括将苯邻二甲酰亚胺化合物加入电荷产生剂中的步骤，或者用碱化合物处理酞菁化合物形成苯邻二甲酰亚胺盐化合物的步骤。本发明制造电子照相光电导体的步骤包括用含苯邻二甲酰亚胺盐化合物的电子照相光敏材料的涂料液涂覆导电基片，形成光敏层的步骤。图1(a)是本发明功能分离叠层型光电导体的一个实例剖面图；图1(b)是本发明单层型光电导体的一个实例的剖面图。下面将结合较好的实例并参照附图更详细地描述本发明。电子照相光电导体具有数种已知的类型，例如负电荷充电叠层型光电导体、正电荷充电叠层型光电导体和正电荷充电单层型光电导体。下面详细描述负电荷充电叠层型光电导体作为例子，但是除了与苯邻二甲酰亚胺盐化合物有关的材料和方法以外，用于形成和制造本发明光电导体的材料和方法可适当地选用各种已知的材料和方法。图1(a)是典型的功能分离叠层型光电导体的剖面图，图1(b)是典型的单层型光电导体的剖面图。图1(a)所示的负电荷充电叠层型光电导体包括导电基片1，在该导电基片上的底涂层2和光敏层5，所述光敏层包括依次叠合的能产生电荷的电荷产生层3和能转移电荷的电荷转移层4。图1(b)所示的正电荷充电单层型光电导体包括导电基片1，依次叠合的在该基片上的底涂层2和能产生电荷和转移电荷的单层光敏层5。在两种类型的光电导体中底涂层并非必要。光敏层5含有受光后转移电荷的电荷转移剂。导电基片1在光电导体中起电极的作用，还起承载其它各层的作用。基片1可具有圆筒形、平板形、薄膜形状，并可由金属(如铝、不锈钢或镍)或经处理具有适当导电性的玻璃或树脂制成。底涂层2可由醇溶性聚酰胺、溶剂可溶解的芳族聚酰胺或热固性聚氨酯树脂制成。醇溶性聚酰胺较好是聚合物或共聚物，如尼龙6、尼龙8、尼龙12、尼龙66、尼龙610或尼龙612，或者N-烷基改性的或N-烷氧基烷基改性的尼龙。上述化合物的具体例子有AMILANCM8000(一种购自TorayIndustriesInc.的6/66/610/12共聚尼龙)、ELBAMIDE9061(一种购自DuPontJapanCo.，Ltd的6/66/612共聚尼龙)和DAIAMIDET-170(一种购自Daicel-HuelsCo.，Ltd的主要含尼龙12的共聚尼龙)。底涂层2还可包括无机细颗粒，如二氧化钛、氧化铝、碳酸钙或二氧化硅。受光产生电荷的电荷产生层3是将电荷产生剂的颗粒沉积在底涂层2上，或者将由电荷产生剂分散在带树脂粘合剂的溶剂中形成的涂料液涂覆在底涂层2上而制得的。重要的是电荷产生层3能高效地将产生的电荷注入电荷转移层4并且能高效地产生电荷。也就是说，要求电荷产生层3能产生电荷而很少依赖电场，并即使在弱电场中也能很好地产生电荷。电荷产生剂可选自各种颜料和染料，如酞菁、偶氮化合物、醌、靛蓝、花青、squarilium和azulenium化合物。电荷产生层3的膜厚取决于其电荷产生剂的吸光系数。因此，电荷产生层的厚度较好控制在不超过5微米，最好不超过1微米。电荷产生层3含有电荷产生剂作为主要组分并可加入电荷转移剂和其它物质。用于电荷产生层3的树脂粘合剂可选自聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、环氧树脂、聚乙烯醇缩丁醛、苯氧化合物、硅氧烷、甲基丙烯酸酯、氯乙烯、缩酮和乙酸乙烯酯以及这些物质的卤化物和氰乙基化合物的聚合物和共聚物，和这些聚合物的合适的混合物。按100重量份树脂粘合剂计，用于电荷产生层的电荷产生剂的用量较好为10-5000重量份，更好为50-1000重量份。电荷转移层4是一层涂层膜，它是由电荷转移剂溶解在树脂粘合剂中的材料制成的。电荷转移剂可例如选自腙化合物、苯乙烯基化合物、胺化合物及其衍生物，它们可单独使用或组合使用。在黑暗中电荷转移层4作为绝缘层用于保留光电导体的电荷，并在受光后用于转移来自电荷产生层的电荷。用于电荷转移层的粘合剂树脂可例如选自聚碳酸酯、聚酯、聚苯乙烯和甲基丙烯酸酯等聚合物和共聚物。与电荷转移剂的相容性以及机械、化学和电气稳定性和粘性对树脂粘合剂的选择是重要的。按100重量份树脂粘合剂计，电荷转移剂的用量较好为20-500重量份，更好为30-300重量份。电荷转移层4的膜厚较好控制在3-50微米，更好控制在15-40微米以保持实际有效的表面电位。加入本发明光敏材料或光电导体中的苯邻二甲酰亚胺盐化合物较好例如选自式1的苯邻二甲酰亚胺铵、式2的苯邻二甲酰亚胺钠、式3的苯邻二甲酰亚胺钾、式4的苯邻二甲酰亚胺-1，8-二氮杂二环[5.4.0]-7-十一碳烯(简称苯邻二甲酰亚胺DBU)和式5的苯邻二甲酰亚胺-1，5-二氮杂二环[4.3.0]-5-壬烯(简称苯邻二甲酰亚胺DBN)。式1式2式3式4式5适用的苯邻二甲酰亚胺盐化合物可选择从市场上购得或根据下列参考文献合成RonaldE.Macleay等的美国专利4，218，370；DavidE.Bergbreiter等J.Polym.Sci.，PartAPolym.Chem.27(12)，4205(1989)和AlanJ.Fischman等J.Am.Chem.Soc.，100(1)，54(1978)。或者，可使用碱化合物分解酞菁化合物制得苯邻二甲酰亚胺盐化合物。较好根据所需的电子照相特性适当地控制本发明较好实例中使用的苯邻二甲酰亚胺盐化合物的用量。按能产生电荷的光敏材料的量计，苯邻二甲酰亚胺盐化合物的较好用量为0.000001-5重量％，较好为0.00001-1重量％。本发明加入苯邻二甲酰亚胺盐化合物来明显提高电荷保留率的机理可以考虑如下。也就是说，认为苯邻二甲酰亚胺盐化合物适当地抑制了起电荷产生作用的光敏材料晶体的生长，同时改进晶体的分散。认为这是改进保留率的原因。含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的本发明光敏层可用于单层型和叠层型光电导体，并且不局限于用于这两种类型的光电导体。可使用选自各种方法(例如浸涂和喷涂)的涂覆方法施涂用于本发明制造方法的涂料液并且施涂方法不局限于特定的涂覆方法。实施例合成例1将600g邻苯二甲腈(日本东京化成工业(株)制)、300g甲酰胺(关东化学(株)制)、100g甲醇钠(关东化学(株)制)和1.0升N-甲基-2-吡咯烷酮(关东化学(株)制)加入反应容器中并在氮气氛中搅拌之，接着将其加热至180℃并在该温度下搅拌15小时。使反应液冷却至130℃，过滤并用3升N-甲基-2-吡咯烷酮洗涤之。在1升N-甲基-2-吡咯烷酮中在氮气氛中将形成的湿滤饼在120℃加热搅拌1小时。冷却形成的混合物并过滤。随后用3升N-甲基-2-吡咯烷酮、1升丙酮和4升温热的纯水依次洗涤，得到湿滤饼。将如此形成的湿滤饼在用360ml36％盐酸和4升水制得的稀盐酸中在80℃加热搅拌1小时，使之冷却并过滤，用4升温热纯水洗涤，干燥后得到未精制形态的无金属酞菁。随后，边冷却和搅拌边在-5℃将200g制得的无金属酞菁加至4kg96％硫酸中，使得液体温度保持在-5℃或更低。在-5℃将液体进一步搅拌并冷却1小时。将形成的硫酸溶液加至35升水和5kg冰中，在将温度保持在10℃或更低时将其搅拌并冷却1小时。液体过滤并用10升温热水洗涤，得到湿滤饼。将该湿滤饼与10升水和770ml36％盐酸组成的稀盐酸相混合，并在80℃将其加热搅拌1小时。形成的液体冷却、过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。用球磨机研磨得到的湿滤饼和1.5升邻二氯苯。用1.5升丙酮和1.5升甲醇萃取形成的产物，过滤，用1.5升纯水洗涤，干燥后得到粉末产物。最后，将0.000001重量％邻苯二甲酰亚胺铵(根据上述参考文献制得)加至上面制得的粉末产物中并混合之。如此得到无金属的酞菁。合成例2用与合成例1相同的方法制得无金属的酞菁，但是将苯邻二甲酰亚胺铵的加入量改成0.001重量％。合成例3用与合成例1相同的方法制得无金属的酞菁，但是将苯邻二甲酰亚胺铵的加入量改成5重量％。合成例4用与合成例1相同的方法制得无金属的酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺钠代替苯邻二甲酰亚胺铵，它是根据前面所述的参考文献制得的。合成例5用与合成例2相同的方法制得无金属的酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺钠代替苯邻二甲酰亚胺铵，它是根据前面所述的参考文献制得的。合成例6用与合成例3相同的方法制得无金属的酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺钠代替苯邻二甲酰亚胺铵，它是根据前面所述的参考文献制得的。合成例7用与合成例1相同的方法制得无金属的酞菁，但是用Sigma-AldrichCo.制的苯邻二甲酰亚胺DBU代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例8用与合成例2相同的方法制得无金属的酞菁，但是用Sigma-AldrichCo.制的苯邻二甲酰亚胺DBU代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例9用与合成例3相同的方法制得无金属的酞菁，但是用Sigma-AldrichCo.制的苯邻二甲酰亚胺DBU代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例10将600g邻苯二甲腈、300g甲酰胺、100g甲醇钠和1.0升N-甲基-2-吡咯烷酮加入反应容器中并在氮气氛中搅拌之，接着将其加热至180℃并在该温度下搅拌15小时。使反应液冷却至130℃，过滤并用3升N-甲基-2-吡咯烷酮洗涤之。在1升N-甲基-2-吡咯烷酮中在氮气氛中将形成的湿滤饼在120℃加热搅拌1小时。冷却形成的混合物并过滤。随后用3升N-甲基-2-吡咯烷酮、1升丙酮和4升温热的纯水依次洗涤，得到湿滤饼。将如此形成的湿滤饼在用360ml36％盐酸和4升水制得的稀盐酸中在80℃加热搅拌1小时，使之冷却并过滤，用4升温纯水洗涤，干燥后得到未精制形态的无金属酞菁。随后，边冷却和搅拌边在-5℃将200g制得的无金属酞菁加至4kg96％硫酸中，使得液体温度保持在-5℃或更低。在-5℃将液体进一步搅拌并冷却1小时。将形成的硫酸溶液加至35升水和5kg冰中，在将温度保持在10℃或更低时将其搅拌并冷却1小时。液体过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。将该湿滤饼与10升水和770ml36％盐酸组成的稀盐酸相混合，并在80℃将其加热搅拌1小时。形成的液体冷却、过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。将所述湿滤饼与由10升水和1000g氢氧化钠组成的氢氧化钠溶液混合，在80℃将其加热搅拌1小时。形成的液体冷却、过滤并用10升温纯水洗涤后得到湿滤饼。用球磨机研磨得到的湿滤饼和1.5升邻二氯苯。用1.5升丙酮和1.5升甲醇萃取形成的产物，过滤，用1.5升纯水洗涤，干燥后制得无金属的酞菁。对制得的无金属酞菁进行离子色谱分析。分析表明该无金属酞菁中含有0.02重量％苯邻二甲酰亚胺铵。比较合成例1用与合成例1相同的方法制得无金属酞菁，但是不加入合成例1使用的苯邻二甲酰亚胺铵。合成例11将800g邻苯二甲腈和1.8升喹啉(关东化学(株)制)加入反应容器中并搅拌之。接着滴加297g四氯化钛(关东化学(株)制)并在氮气氛中搅拌之，接着在180℃加热搅拌15小时。使反应液冷却至130℃，过滤，用3升N-甲基-2-吡咯烷酮洗涤之。在1.8升N-甲基-2-吡咯烷酮中在氮气氛中将形成的湿滤饼在160℃加热搅拌1小时。冷却形成的混合物并过滤。随后用3升N-甲基-2-吡咯烷酮、2升丙酮、2升甲醇和4升温纯水依次洗涤，得到湿滤饼。将如此形成的湿滤饼在用360ml36％盐酸和4升水制得的稀盐酸中在80℃加热搅拌1小时，使之冷却并过滤，用4升温水洗涤，干燥后得到未精制形态的钛氧基酞菁。随后，边冷却和搅拌边在-5℃将200g制得的钛氧基酞菁加至4kg96％硫酸中，使得液体温度保持在-5℃或更低。在-5℃将液体进一步搅拌并冷却1小时。将形成的硫酸溶液加至35升水和5kg冰中，在将温度保持在10℃或更低时将其搅拌并冷却1小时。液体过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。将该湿滤饼与10升水和770ml36％盐酸组成的稀盐酸相混合，并在80℃将其加热搅拌1小时。形成的液体冷却、过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。用球磨机研磨得到的湿滤饼和1.5升邻二氯苯。用1.5升丙酮和1.5升甲醇萃取形成的产物，过滤，用1.5升纯水洗涤，干燥后得到粉末产物。最后，将0.000001重量％邻苯二甲酰亚胺铵加至上面制得的粉末产物中并混合之。如此得到钛氧基酞菁。合成例12用与合成例11相同的方法制得钛氧基酞菁，但是将苯邻二甲酰亚胺铵的加入量改成0.001重量％。合成例13用与合成例11相同的方法制得钛氧基酞菁，但是将苯邻二甲酰亚胺铵的加入量改成5重量％。合成例14用与合成例11相同的方法制得钛氧基酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺钠代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例15用与合成例12相同的方法制得钛氧基酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺钠代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例16用与合成例13相同的方法制得钛氧基酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺钠代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例17用与合成例11相同的方法制得钛氧基酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺DBU代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例18用与合成例12相同的方法制得钛氧基酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺DBU代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例19用与合成例13相同的方法制得钛氧基酞菁，但是用苯邻二甲酰亚胺DBU代替苯邻二甲酰亚胺铵。合成例20将800g邻苯二甲腈和1.8升喹啉(关东化学(株)制)加入反应容器中并搅拌之。接着滴加297g四氯化钛(KishidaChemicalCo.，Ltd制)并在氮气氛中搅拌之，接着在180℃加热搅拌15小时。使反应液冷却至130℃，过滤，用3升N-甲基-2-吡咯烷酮洗涤之。在1.8升N-甲基-2-吡咯烷酮中在氮气氛中将形成的湿滤饼在160℃加热搅拌1小时。冷却形成的混合物并过滤。随后用3升N-甲基-2-吡咯烷酮、2升丙酮、2升甲醇和4升温水依次洗涤，得到湿滤饼。将如此形成的湿滤饼在用360ml36％盐酸和4升水制得的稀盐酸中在80℃加热搅拌1小时，使之冷却并过滤，用4升温水洗涤，干燥后得到未精制形态的钛氧基属酞菁。随后，边冷却和搅拌边在-5℃将200g制得的钛氧基酞菁加至4kg96％硫酸中，使得液体温度保持在-5℃或更低。在-5℃将液体进一步搅拌并冷却1小时。将形成的硫酸溶液加至35升水和5kg冰中，在将温度保持在10℃或更低时将其搅拌并冷却1小时。液体过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。将该湿滤饼与10升水和770ml36％盐酸组成的稀盐酸相混合，并在80℃将其加热搅拌1小时。形成的液体冷却、过滤并用10升温水洗涤，得到湿滤饼。将该湿滤饼与由10升水和1000g氢氧化钠组成的氢氧化钠溶液相混合，在80℃加热搅拌1小时。形成的液体冷却、过滤并用10升温纯水洗涤，得到湿滤饼。用球磨机研磨得到的湿滤饼和1.5升邻二氯苯。用1.5升丙酮和1.5升甲醇萃取形成的产物，过滤，用1.5升纯水洗涤，干燥后得到钛氧基酞菁产物。对如此得到的钛氧基酞菁进行离子色谱分析。分析表明该无金属的酞菁含有0.03重量％苯邻二甲酰亚胺铵。比较合成例2用与合成例11相同的方法制得钛氧基酞菁，但是不加入合成例11使用的苯二甲酰亚胺铵。实施例1将70重量份聚酰胺树脂(CM8000，TorayIndustries，Inc，)和930重量份甲醇混合在一起制得用于底涂层的涂料液。用该涂料液通过浸涂法涂覆铝基片，干燥后形成厚0.5微米的底涂层。将20重量份合成例1制得的无金属酞菁、676重量份二氯甲烷、294重量份1，2-二氯乙烷和10重量份氯乙烯树脂(MR-10，购自NipponZeonCo.，Ltd)的混合物用超声波分散后制得用于电荷产生层的涂料液。用浸涂法在带底涂层的基片上涂覆该涂料液，干燥后形成厚0.2微米的电荷产生层。将100重量份4-(二苯基氨基)苯甲醛苯基(2-噻吩基甲基)腙(FujiElectricCo.，Ltd制)、100重量份聚碳酸酯树脂(PANLITEK-1300，购自TeijinChemicalCo.，Ltd)、800重量份二氯甲烷、1重量份硅烷偶联剂(KP-340，购自Shin’etsuChemicalCo.，Ltd)和4重量份2，4-二叔丁基苯氧基二苯膦(FujiElectricCo.，Ltd制)混合在一起制得用于电荷转移层的涂料液。用浸涂法将该涂料液涂覆在带有电荷产生层的基片上，干燥后形成厚度为20微米的电荷转移层。从而制得光电导体。实施例2用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例2制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例3用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例3制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例4用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例4制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例5用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例5制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例6用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例6制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例7用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例7制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例8用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例8制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例9用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例9制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例10用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用合成例10制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。比较例1用与实施例1相同的方法制得光电导体，但是使用比较合成例1制得的无金属酞菁代替合成例1制得的无金属酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例11将70重量份聚酰胺树脂(CM8000，购自TorayIndustries，Inc.)和930重量份甲醇混合在一起制得用于底涂层的涂料液。用该涂料液通过浸涂法涂覆铝基片，干燥后形成厚0.5微米的底涂层。将20重量份合成例11制得的钛氧基酞菁、676重量份二氯甲烷、294重量份1，2-二氯乙烷和10重量份氯乙烯树脂(MR-110，购自NipponZeonCo.，Ltd)的混合物用超声波分散后制得用于电荷产生层的涂料液。用浸涂法在带底涂层的基片上涂覆该涂料液，干燥，形成厚0.2微米的电荷产生层。将100重量份4-(二苯基氨基)苯甲醛苯基(2-噻吩基甲基)腙(富士电机株式会社制)、100重量份聚碳酸酯树脂(PANLITEK-1300，购自帝人化成株式会社)、800重量份二氯甲烷、1重量份硅烷偶联剂(KP-340，购自信越化学工业株式会社)和4重量份2，4-二叔丁基苯氧基二苯膦(富士电机株式会社制)混合在一起制得用于电荷转移层的涂料液。用浸涂法将该涂料液涂覆在带有电荷产生层的基片上，干燥后形成厚度为20微米的电荷转移层。从而制得光电导体。实施例12用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例12制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例13用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例13制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例14用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例14制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例15用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例15制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例16用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例16制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例17用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例17制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例18用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例18制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例19用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例19制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。实施例20用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用合成例20制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。比较例2用与实施例11相同的方法制得光电导体，但是使用比较合成例2制得的钛氧基酞菁代替合成例11制得的钛氧基酞菁来制备电荷产生层的涂料液。使用静电记录纸试验设备(EPA-8200，(株)川口电机制作所制)测定实施例1-20和比较例1-2的光电导体的电气特性。在黑暗中用-5kV电晕充电10秒钟对光电导体的表面进行负电荷充电。随后，测定5秒钟后的表面电荷保留率。表1列出了各个光电导体试样在5秒钟后的表面电荷保留率。表1<tablesid="table1"num="001"><table>试样5秒钟后电荷保留率(％)实施例197.6实施例297.9实施例397.5实施例497.9实施例598.1实施例698.0实施例797.4实施例897.5实施例997.4实施例1097.8比较例187.4实施例1196.7实施例1296.8实施例1396.5实施例1497.0实施例1597.2实施例1696.9实施例1796.2实施例1896.3实施例1996.0实施例2096.6比较例286.5</table></tables>由表1可见，所有实施例试样在5秒钟后均表现出较大的表面电荷保留率，显示出优良的电荷保留特性。而比较例试样表现出较小的电荷保留率。含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的起电荷产生作用的本发明电子照相光敏材料显示出较高的表面电荷保留率。包括导电基片和含有带苯邻二甲酰亚胺盐化合物的电荷产生剂的光敏层的本发明电子照相光电导体表现出较高的表面电荷保留率。包括导电基片和光敏层(该光敏层是用含带本发明苯邻二甲酰亚胺盐化合物的电子照相光敏材料的涂料涂覆导电基片制得的)的电子照相光电导体的制造方法使该光电导体具有高的表面电荷保留率。权利要求1．具有电荷产生功能的电子照相光敏材料，其特征在于所述光敏材料包括苯邻二甲酰亚胺盐化合物。2．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺铵化合物。3．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺钠化合物。4．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺钾化合物。5．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺-1，8-二氮杂二环[5.4.0]-7-十一碳烯化合物。6．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺-1，5-二氮杂二环[4.3.0]-5-壬烯化合物。7．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述光敏材料包括含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的酞菁化合物。8．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述光敏材料包括含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的无金属酞菁化合物。9．如权利要求1所述的电子照相光敏材料，其特征在于所述光敏材料包括含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的钛氧基酞菁化合物。10．一种电子照相光电导体，它包括导电基片；和含有电荷产生剂的光敏层；其特征在于所述光敏层含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物。11．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺铵化合物。12．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺钠化合物。13．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺钾化合物。14．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺-1，8-二氮杂二环[5.4.0]-7-十一碳烯化合物。15．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述苯邻二甲酰亚胺盐化合物是苯邻二甲酰亚胺-1，5-二氮杂二环[4.3.0]-5-壬烯化合物。16．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述光敏层包括含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的酞菁化合物。17．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述光敏层包括含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的无金属酞菁化合物。18．如权利要求10所述的电子照相光电导体，其特征在于所述光敏层包括含有苯邻二甲酰亚胺盐化合物的钛氧基酞菁化合物。19．一种含有电荷产生剂的电子照相光敏材料的制造方法，它包括向所述电荷产生剂中加入苯邻二甲酰亚胺盐化合物的步骤。20．一种包括含苯邻二甲酰亚胺盐化合物的酞菁化合物的电子照相光敏材料的制造方法，它包括用碱性化合物处理所述酞菁化合物形成苯邻二甲酰亚胺盐化合物的步骤。21．一种包括导电基片和光敏层的电子照相光电导体的制造方法，它包括用含苯邻二甲酰亚胺盐化合物的光敏材料的涂料液涂覆所述导电基片，形成含所述光敏材料的所述光敏层的步骤。全文摘要提供一种具有高表面电荷保留率的电子照相光敏材料、含该光敏材料的电子照相光电导体和这种光敏材料及光电导体的制造方法,其特征在于向具有电荷产生功能的光敏材料中加入苯邻二甲酰亚胺盐化合物。文档编号G03G5/06GK1296198SQ0013063公开日2001年5月23日申请日期2000年10月6日优先权日1999年10月7日发明者中村洋一,铃木信二郎,喜纳秀树,原健一,佐佐木辉夫申请人:富士电机影像器材有限公司