专利名称：一种专用于微流控芯片制作的光刻机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光光刻蚀技术，特别提供了一种专门用于微全分析系统中微流控芯片制作的经济、实用型光刻机。
本实用新型提供了一种专用于微流控芯片制作光刻机，其特征在于该光刻机主要由一暗箱(1)、一高压汞灯(2)、一匀光透镜(3)组合而成，高压汞灯(2)置于暗箱(1)中并装在箱壁上，匀光透镜(3)置于与其相对的箱壁上。
本实用新型专用于微流控芯片制作光刻机中，所述高压汞灯(2)通过与其相匹配的限流器、电子触发器接电源。
本实用新型具有下述优点1造价低廉，一般市场销售的同样性能的光刻机价格在16万人民币左右，本发明的光刻机造价在0.1万人民币以内。
2性能可靠，性能上完全可满足电泳芯片制造及一般微机械加工的需要。
3结构简单，操作方便。
权利要求1.一种专用于微流控芯片制作光刻机，其特征在于该光刻机主要由一暗箱(1)、一高压汞灯(2)、一匀光透镜(3)组合而成，高压汞灯(2)置于暗箱(1)中并装在箱壁上，匀光透镜(3)置于与其相对的箱壁上。
2.按权利要求1所述专用于微流控芯片制作光刻机，其特征在于所述高压汞灯(2)通过与其相匹配的限流器、电子触发器接电源。
专利摘要一种专用于微流控芯片制作光刻机，其特征在于该光刻机主要由一暗箱、一高压汞灯、一匀光透镜组合而成，高压汞灯置于暗箱中并装在箱壁上，匀光透镜置于与其相对的箱壁上。本实用新型造价低廉，性能可靠，结构简单，操作方便。
文档编号G03F7/20GK2555525SQ0227423
公开日2003年6月11日 申请日期2002年7月18日 优先权日2002年7月18日
发明者戴忠鹏, 林炳承 申请人:中国科学院大连化学物理研究所