专利名称：光刻用清洗剂或冲洗剂的制作方法
技术领域：
本发明涉及对于从集成电路元件、滤色器、液晶显示元件等的基板或抗蚀剂涂布装置等上溶解或剥离除去固化及未固化的不需要的抗蚀剂、防反射膜等有用的光刻用清洗剂或冲洗剂。
背景技术：
为了制造集成电路元件、滤色器、液晶显示元件等历来使用光刻技术。在使用光刻技术制造集成电路元件等中，例如根据需要在基板上形成防反射膜后，涂布正型或负型的抗蚀剂，通过烘烤除去溶剂后，根据需要在抗蚀剂膜上形成防反射膜，利用紫外线、远紫外线、电子射线、X-射线等的各种放射线进行曝光，显影形成抗蚀剂图案。
上述抗蚀剂等的涂布，采用旋转涂布、滚筒涂布、反向辊涂布、流延涂布、刮刀涂布、浸渍涂布等的种种公知的方法，例如在制造集成电路元件中，作为抗蚀剂涂布法主要采用旋转涂布法。在旋转涂布法中，抗蚀剂溶液滴落在基板上，该滴落的抗蚀剂溶液通过基板的旋转向基板外周方向流延、过量的抗蚀剂溶液从基板外周被飞散除去，形成具有期望膜厚的抗蚀剂膜。
然而，此时存在以下缺点抗蚀剂溶液的一部分旋入到基板的背面，或在基板的外周缘抗蚀剂溶液残留得比其他部分厚，形成所谓厚边(ビ一ド)，有时必须从基板侧面周边部或背面除去不需要的抗蚀剂，或除去厚边。这不仅在制造集成电路元件时，而且制造滤色器，液晶显示元件等时也同样。另外，在旋转涂布法以外的涂布法中也与旋转涂布法的场合同样有时在不需要的部分会附着抗蚀剂。
另外，基板与抗蚀剂膜之间有防反射膜的集成电路元件时，形成图案后必须进行防反射膜的除去。由于涂布装置上也附着抗蚀剂溶液，继续使用时必须清洗涂布装置。
作为解决这些问题的方法，特公平4-49938号公报的实施例中记载了使用由丙二醇甲醚与丙二醇甲醚乙酸酯的1∶1混合物构成的剥离剂剥离光抗蚀剂层的例子。
特开平6-324499号公报公开了使用β型丙二醇单醚乙酸酯的抗蚀剂清洗除去用溶剂，作为改善树脂溶解性，引发剂溶解性的抗蚀剂清洗除去用溶剂。
特开2001-117242号公报中记载了使用1，3-丙二醇甲醚或1，3-丙二醇甲醚乙酸酯作为清洗剂除去不需要的抗蚀剂的例子。特开2001-117241号公报中记载了使用1，3-丙二醇甲醚或1，3-丙二醇甲醚乙酸酯与水的混合液作为冲洗剂除去不需要的抗蚀剂的例子。另外，特开平10-186680号公报公开了使用丙二醇烷基醚及丙二醇烷基醚乙酸酯的、具有火灾、操作安全性的清洗剂、冲洗液。
然而，上述的溶剂或溶剂组合物、溶解性或剥离性不充分，并且在需要比较长的溶解时间方面还不能称作在实用上是充分的。
特公平4-49938号公报[专利文献2]特开平6-324499号公报[专利文献3]特开2001-117242号公报[专利文献4]特开2001-117241号公报[专利文献5]特开平10-186680号公报发明内容发明要解决的课题本发明的目的在于提供一种光刻用清洗剂或冲洗剂，该清洗剂或冲洗剂没有上述缺点，不论是对有机溶剂溶液形成的抗蚀剂或防反射膜等，还是对水溶液形成的防反射膜等均有良好的溶解性、剥离性。
本发明另外的目的在于，提供除了上述特性外，还改善了火灾的危险性，操作上也优异的光刻用清洗剂或冲洗剂。
解决课题的方法本发明者们潜心进行研究的结果，发现使用具有特定的有机溶剂的组合并且具有特定特性的有机溶剂混合液，或它们与水的混合液可以达到上述目的从而完成了本发明。
即，本发明提供一种光刻用清洗剂或冲洗剂，其中含有溶剂A和溶剂B，所述溶剂A选自(a1)丙二醇-1-烷基醚乙酸酯、(a2)1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，溶剂B选自(b1)丙二醇-1-烷基醚及(b2)1，3-丁二醇-3-烷基醚中的至少1种，所述清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可以形成均质溶液。
前述光刻用清洗剂或冲洗剂，包括(i)含有丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)和溶剂B且其比例为前者/后者(重量比)＝1/99～75/25的光刻用清洗剂或冲洗剂、(ii)含有1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)和溶剂B且其比例为前者/后者(重量比)＝1/99～55/45的光刻用清洗剂或冲洗剂、(iii)含有乙酸烷基酯(a3)和溶剂B且其比例为前者/后者(重量比)＝1/99～15/85的光刻用清洗剂或冲洗剂。
作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)，例如可举出1，2-丙二醇-1-烷基醚乙酸酯。作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)、丙二醇-1-烷基醚(b1)或1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)中的烷基，例如可举出甲基等。作为乙酸烷基酯(a3)，例如可举出乙酸丁酯。
前述光刻用清洗剂或冲洗剂，除了溶剂A及溶剂B以外，还可以再含有水。
再者，本说明书中只要没有特殊说明，则意味着“丙二醇”包括α型丙二醇(1，2-丙二醇)及β型丙二醇(1，3-丙二醇)。
发明效果本发明的光刻用清洗剂或冲洗剂，不仅对有机溶剂溶液形成的抗蚀剂或防反射膜等，而且对水溶液形成的防反射膜等也显示良好的溶解性、剥离性。另外由于含水，因此改善了火灾的危险性，操作上也优异。
实施发明的最佳方案本发明的光刻用清洗剂或冲洗剂，其含有溶剂A和溶剂B，所述溶剂A选自(a1)丙二醇-1-烷基醚乙酸酯、(a2)1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，所述溶剂B选自(b1)丙二醇-1-烷基醚及(b2)1，3-丁二醇-3-烷基醚中选出的至少1种。溶剂A、溶剂B可以分别将2种以上组合使用。
作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)、丙二醇-1-烷基醚(b1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)中的烷基，例如，可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基等的C1-6的直链状或支链状烷基。其中特优选甲基。
作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)的代表性例子，例如，可举出丙二醇-1-甲醚乙酸酯、丙二醇-1-乙醚乙酸酯、丙二醇-1-丙醚乙酸酯、丙二醇-1-丁醚乙酸酯等丙二醇-1-C1-6烷基醚乙酸酯等。其中，优选α型丙二醇-1-甲基乙酸酯(1，2-丙二醇-1-甲醚乙酸酯)等α型丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(1，2-丙二醇-1-烷基醚乙酸酯)。
作为1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)的代表性例子，例如，可举出1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯、1，3-丁二醇-3-乙醚乙酸酯、1，3-丁二醇-3-丙醚乙酸酯、1，3-丁二醇-3-丁醚乙酸酯等。其中，特优选1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯。
作为乙酸烷基酯(a3)中的烷基，例如，可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基等C1-6的直链状或支链状烷基。作为乙酸烷基酯(a3)的代表性例子，例如，可举出乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯等，其中，特优选乙酸丁酯。
作为丙二醇-1-烷基醚(b1)的代表性例子，例如，可举出丙二醇-1-甲醚、丙二醇-1-乙醚、丙二醇-1-丙醚、丙二醇-1-丁醚等丙二醇-1-C1-6烷基醚等。其中，优选α型丙二醇-1-甲醚(1，2-丙二醇-1-甲醚)及β型丙二醇-1-甲醚(1，3-丙二醇-1-甲醚)。
作为1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)的代表性例子，例如，可举出1，3-丁二醇-3-甲醚、1，3-丁二醇-3-乙醚、1，3-丁二醇-3-丙醚、1，3-丁二醇-3-丁醚等。其中，优选1，3-丁二醇-3-甲醚。
作为溶剂A与溶剂B的优选组合，可举出α型丙二醇-1-甲醚乙酸酯(1，2-丙二醇-1-甲醚乙酸酯)与1，3-丁二醇-3-甲醚的组合等α型丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(1，2-丙二醇-1-烷基醚乙酸酯)与1，3-丁二醇-3-烷基醚的组合；1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯与1，3-丁二醇-3-甲醚的组合等1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯与1，3-丁二醇-3-烷基醚的组合；乙酸丁酯与1，3-丁二醇-3-甲醚的组合等乙酸烷基酯与1，3-丁二醇-3-烷基醚的组合；1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯与α型丙二醇-1-甲醚(1，2-丙二醇-1-甲醚)的组合等1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯与α型丙二醇-1-烷基醚(1，2-丙二醇-1-烷基醚)的组合；1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯与β型丙二醇-1-甲醚(1，3-丙二醇-1-甲醚)的组合等1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯与β型丙二醇-1-烷基醚(1，3-丙二醇-1-烷基醚)的组合等。
溶剂A与溶剂B的混合比例，只要是在将混合后的溶液与等体积的水混合时(例如，在30～35℃下)可以形成均质溶液的比例即可，根据溶剂的种类进行选择。因此，与等量的水混合时具有形成均质溶液特性的混合溶剂，对抗蚀剂或防反射膜的溶解性，剥离性极好。另外，由于极容易地与水溶解形成均质的溶液，故通过按适当的比例与水进行混合可以作为操作性、安全性好的清洗剂、冲洗剂(最后完成工序中使用的清洗剂)使用。
作为溶剂A使用丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)(例如，α型丙二醇-1-甲醚乙酸酯等α型丙二醇-1-烷基醚乙酸酯等)时，该丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)与溶剂B(例如，1，3-丁二醇-3-甲醚等1，3-丁二醇-3-烷基醚等)的比例是例如前者/后者(重量比)＝1/99～75/25，优选前者/后者(重量比)＝10/90～70/30。
作为溶剂A使用1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)(例如，1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯等)时，该1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)与溶剂B的比例优选前者/后者(重量比)＝1/99～55/45的范围。尤其是，作为溶剂B，使用1，3-丁二醇-3-烷基醚(例如，1，3-丁二醇-3-甲醚等)或β型丙二醇-1-烷基醚(例如，β型丙二醇-1-甲醚等)时，1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)与1，3-丁二醇-3-烷基醚或β型丙二醇-1-烷基醚的比例，更优选前者/后者(重量比)＝1/99～50/50。另外，作为溶剂B使用α型丙二醇-1-烷基醚(例如，α型丙二醇-1-甲醚等)时，1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)与α型丙二醇-1-烷基醚的比例，更优选前者/后者(重量比)＝1/99～45/55、特优选1/99～40/60。
另外，作为溶剂A使用乙酸烷基酯(a3)(例如，乙酸丁酯等)时，该乙酸烷基酯(a3)与溶剂B的比例，例如前者/后者(重量比)＝1/99～15/85，优选1/99～10/90。
本发明的光刻用清洗剂或冲洗剂，在不破坏对水的溶解性的范围内，可以含有1种或2种以上的溶剂A与溶剂B以外的有机溶剂(例如以往作为抗蚀剂或防反射膜等的溶剂或冲洗液使用并且对水为可溶性的有机溶剂等)。本发明的光刻用清洗剂或冲洗剂中的前述溶剂A及溶剂B的总含量相对于构成清洗剂或冲洗剂的有机溶剂总量优选40重量％以上，更优选60重量％以上，尤其优选80重量％以上(特别优选90重量％以上)。本发明的光刻用清洗剂或冲洗剂的有机溶剂成分实质上也可以只由溶剂A和溶剂B构成。
上述含有溶剂A与溶剂B的混合液可以直接作为光刻用清洗剂或冲洗剂使用，但也可以在形成均质溶液的范围以与水混合的状态作为光刻用清洗剂或冲洗剂使用。此时的水的量，依溶剂A及溶剂B的种类或其比例而不同，但一般相对于总有机溶剂100重量份是0.5～50重量份(例如，5～50重量份)、优选0.5～40重量份(例如，5～40重量份)，更为优选0.5～30重量份(例如，5～30重量份)。
本发明的清洗剂及冲洗剂可适用于公知的正型抗蚀剂、负型抗蚀剂、防反射膜的任何一种。若举出可使用本发明的清洗剂及冲洗剂的抗蚀剂的代表性例子，在正型中，例如可举出醌二迭氮类感光剂与碱可溶性树脂构成的抗蚀剂、化学放大型抗蚀剂等，在负型中，例如可举出含聚肉桂酸乙烯酯等具有感光性基团的高分子化合物的抗蚀剂、含有芳香族迭氮化合物的抗蚀剂或含有由环化橡胶与双迭氮化合物构成的迭氮化合物的抗蚀剂、含重氮树脂的抗蚀剂、含加成聚合性不饱和化合物的光聚合性组合物、化学放大型负型抗蚀剂等。
作为对适合使用本发明的清洗剂或冲洗剂所优选的抗蚀剂材料，可举出醌二迭氮类感光剂与碱可溶性树脂构成的抗蚀剂材料。作为醌二迭氮类感光剂的例子，例如，可举出1，2-苯醌二迭氮-4-磺酸、1，2-萘醌二迭氮-4-磺酸、1，2-萘醌二迭氮-5-磺酸，这些磺酸的酯或酰胺等。另外，作为碱可溶性树脂，例如，可举出聚乙烯酚、聚乙烯醇、丙烯酸或甲基丙烯酸的共聚物、或例如，由苯酚、邻甲酚、间甲酚、对甲酚、二甲苯酚等酚类中的1种或2种以上与甲醛、多聚甲醛等的醛类制造的线型酚醛树脂等。
另外，化学放大型抗蚀剂也是适合使用本发明的清洗剂及冲洗剂而优选的抗蚀剂。化学放大型抗蚀剂是经放射线照射产生酸，借助该酸催化作用导致的化学变化使放射线照射部分对显影液的溶解性发生变化而形成图案的抗蚀剂，例如，可举出含有经放射线照射产生酸的产酸化合物，和在酸的存在下分解生成酚性羟基或羧基之类碱可溶性基团的含酸感应性基团的树脂的抗蚀剂、含有碱可溶性树脂与交联剂、产酸剂的抗蚀剂。
另外，作为适合使用本发明的清洗剂或冲洗剂的防反射膜，只要是由有机材料形成的防反射膜则可以是任何一种。作为这样的防反射膜，例如可举出，将添加有染料的聚胺酸或聚丁烯酸、添加有染料的共聚物、马来酸酐聚合物、衣康酸酐聚合物、聚丙烯酸酯或聚甲基丙烯酸酯的聚合物与染料进行接枝的膜；含有氨基芳香族发色团与具有酸酐基团(無水基)的聚合物的反应生成物、水溶性聚合物与水溶性全氟羧酸的膜；含有水溶性高分子的四甲基氢氧化铵等有机碱溶液、水溶性膜形成成分和氟类表面活性剂的膜；含有全氟烷基羧酸、有机胺、聚乙烯基吡咯烷酮的防反射膜；含有全氟烷基磺酸、有机胺、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性烷基硅氧烷的膜等由有机溶剂或水溶液形成的膜。
此外，本发明的清洗剂及冲洗剂，由于含有具有水溶性的有机溶剂，故与水溶液形成的膜亲合良好(接触角小)，对水溶液所形成的防反射膜也可获得良好的清洗及冲洗效果。
本发明的清洗剂及冲洗剂的使用可以采用工业调查会编“清洗技术入门(洗净技術入門)”、或工业调查会编“易使用的清洗技术(すぐ使える洗净技術)”等所述的方法进行。
本发明的清洗剂及冲洗剂的使用，若与抗蚀剂图案的形成方法一起更详细地进行说明，则首先采用旋转涂布法等以往公知的涂布法，根据需要在预处理后的硅基板、玻璃基板等上涂布抗蚀剂溶液。在涂布抗蚀剂之前，或在涂布所形成的抗蚀剂膜上，根据需要涂布形成防反射膜。例如，旋转涂布法中虽然在基板边缘有形成抗蚀剂或防反射膜的厚边的倾向，但通过在旋转的边缘微球上喷射本发明的清洗剂、冲洗剂可促进厚边的流动，可在基板上形成实质上有均匀厚度的抗蚀剂膜或防反射膜。
另外，旋入到基板侧面周边或背面的抗蚀剂或防反射膜，也可以通过喷射本发明的清洗剂及冲洗剂除去。另外，例如在正型抗蚀剂的情况下，在基板与抗蚀剂膜之间存在防反射膜时，通过曝光、显影形成图案后，也可以使用本发明的冲洗剂湿式除去没有抗蚀剂膜部分的防反射膜。
涂布在基板上的抗蚀剂，例如在热板上预烘烤除去溶剂形成厚度通常为1～2.5μm左右的抗蚀剂膜。预烘烤的温度，根据所使用的溶剂或抗蚀剂的种类而不同，但通常在20～200℃，优选在50～150℃左右的温度下进行。然后，抗蚀剂膜使用高压水银灯，金属卤化物灯、超高压水银灯、KrF准分子激光(エキシマレ一ザ一)、ArF准分子激光、F2激光、软X射线照射装置、电子射线描图装置等公知的照射装置，根据需要通过掩模进行曝光。
曝光后，为了改善显影性、析像度，图案形状等，根据需要进行后烘烤后，进行显影，形成抗蚀剂图案。抗蚀剂的显影，通常使用显影液，利用曝光区域和未曝光区域对溶剂或碱溶液的溶解性的差别进行。作为碱显影液，例如使用氢氧化钠、四甲基氢氧化铵(TMAH)等的水溶液或水性溶液。
另外，上述抗蚀剂膜或防反射膜的涂布使用涂布装置进行，但有时在基板上涂布抗蚀剂膜或防反射膜后，再将涂布后的装置作为其他材料的涂布装置使用。例如，有时由抗蚀剂涂布装置改作防反射膜涂布装置使用、由抗蚀剂涂布装置改作其他种类的抗蚀剂涂布装置使用，或由防反射膜涂布装置改作抗蚀剂等的涂布装置使用。所述的场合，在作为其他材料的涂布装置使用前对该涂布装置进行清洗，而此时也可以有效地利用本发明的清洗剂及冲洗剂。
实施例以下，通过实施例具体地说明本发明，但本发明不受此限制。再者，表中的各缩写符号表示以下的有机溶剂。
MMPGACα型丙二醇-1-甲醚乙酸酯(1，2-丙二醇-1-甲醚乙酸酯)MMPGα型丙二醇-1-甲醚(1，2-丙二醇-1-甲醚)MBA1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯MB1，3-丁二醇-3-甲醚BA乙酸丁酯1，3-PDMEβ型丙二醇-1-甲醚(1，3-丙二醇-1-甲醚)实施例1～5，比较例1～5对于各实施例及比较例，按规定的比例将表1所示2种有机溶剂混合成均匀的混合溶剂。测定该混合溶剂的体积，添加同体积的水，在表1所述的温度下观察有无分液。把结果示于表1。
表1
实施例6～10，比较例6对于各实施例及比较例，按规定的比例将表2所示2种有机溶剂混合制备清洗剂。对该清洗剂取样测定清洗剂的体积，添加同体积的水，在表2所述的温度下观察有无分液。把结果示于表2。
然后把线型酚醛树脂(间甲酚/对甲酚＝6/4与甲醛的缩聚物)100重量份，和醌二迭氮感光剂(2，3，4，4’-四羟基二苯甲酮与1，2-萘醌二迭氮-5-磺酰氯的酯化物)24重量份溶解于α型丙二醇单甲醚乙酸酯中使固体成分为25重量％的抗蚀剂旋转涂布在4英寸硅基板上并使预烘烤后的膜厚为2μm，直接用热板在100℃下预烘烤90秒钟，形成抗蚀剂膜。在该抗蚀剂膜上滴加表2所示组成的清洗剂0.03ml，测定从滴加直到能看见衬底硅的时间(秒)，把抗蚀剂膜厚()除以时间(秒)的值(/秒)作为溶解速度。把结果示于表2。
表2
实施例11～15，比较例7对于各实施例11～15和比较例7按规定的比例将表3所示2种有机溶剂及水混合制备冲洗剂。使用该冲洗剂，与实施例6～10同样地测定抗蚀剂膜的溶解速度(/秒)。把结果示于表3。
此外，各实施例及比较例，制备只将2种有机溶剂(不含水)混合制得的混合溶剂，添加与该混合溶剂同体积的水，在30～35℃的温度下，观察有无分液的结果，实施例11～15所述的2种的有机溶剂的混合溶剂不分液，而比较例7所述的2种的有机溶剂的混合溶剂发生分液。
表3
工业实用性本发明的清洗剂及冲洗剂，对抗蚀剂膜，防反射膜等的溶解性高，实用性好。并且可以在制造现场、工厂安全并且简单地进行操作。
权利要求
1.光刻用清洗剂或冲洗剂，其中，包含溶剂A和溶剂B，所述溶剂A选自(a1)丙二醇-1-烷基醚乙酸酯、(a2)1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，所述溶剂B选自(b1)丙二醇-1-烷基醚及(b2)1，3-丁二醇-3-烷基醚中的至少1种，所述清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可形成均质的溶液。
2.权利要求1所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中含有丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)和溶剂B，并且其比例是前者/后者(重量比)＝1/99～75/25。
3.权利要求1所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中含有1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)和溶剂B，并且其比例是前者/后者(重量比)＝1/99～55/45。
4.权利要求1所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中含有乙酸烷基酯(a3)和溶剂B，并且其比例是前者/后者(重量比)＝1/99～15/85。
5.权利要求1所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)是1，2-丙二醇-1-烷基醚乙酸酯。
6.权利要求1所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)、丙二醇-1-烷基醚(b1)或1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)中的烷基是甲基。
7.权利要求1所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中乙酸烷基酯(a3)是乙酸丁酯。
8.权利要求1～7的任何一项所述的光刻用清洗剂或冲洗剂，其中除了溶剂A及溶剂B外，还含有水。
全文摘要
本发明提供对抗蚀剂、防反射膜等的溶解性、剥离性好的光刻用清洗剂或冲洗剂。光刻用清洗剂或冲洗剂包含溶剂A和溶剂B，其中，溶剂A选自(a1)丙二醇－1－烷基醚乙酸酯、(a2)1，3－丁二醇－3－烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，溶剂B选自(b1)丙二醇－1－烷基醚及(b2)1，3－丁二醇－3－烷基醚中的至少1种，该清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可形成均质溶液。
文档编号G03F7/42GK1928725SQ200610126759
公开日2007年3月14日 申请日期2006年9月6日 优先权日2005年9月9日
发明者堀口明, 片山彻 申请人:大赛璐化学工业株式会社