电子照相感光构件、制造电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备的制作方法

文档序号:2737802阅读:370来源:国知局
专利名称:电子照相感光构件、制造电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备的制作方法
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件,制造该电子照相感光构件的方法,以及各自具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

背景技术
近年来,已经深入研究和开发了使用有机光导电性物质的电子照相感光构件(有机电子照相感光构件)。
电子照相感光构件基本上由支承体和在该基底上形成的感光层组成。在有机电子照相感光构件的情况下,感光层使用电荷产生物质和电荷输送物质作为光导电性物质,以及用于粘结这些物质的树脂(粘结剂树脂)来形成。
存在两种类型的感光层的层结构多层型和单层型。在多层型感光层中,电荷产生的功能和电荷输送的功能分别分离(功能性地分离)为电荷产生层和电荷输送层。在单层型感光层中,单层设置有电荷产生的功能和电荷输送的功能两者。
大多数电子照相感光构件采用多层型感光层。在很多情况下,提供电荷输送层作为电子照相感光构件的表面层。
使用电子照相设备的图像形成通常如下所述进行。
首先,将电子照相感光构件静电充电,然后将带电的电子照相感光构件用曝光光照射,由此在电子照相感光构件上形成静电潜像。随后,将静电潜像用包含调色剂的显影剂显影,然后将如此形成的调色剂图像从电子照相感光构件转印至转印材料(如纸)上。使具有转印的调色剂图像的转印材料进行图像定影过程,然后从设备排出至外部。另一方面,使转印过程后的电子照相感光构件进行清洁过程,以从该构件上除去转印残余调色剂,如果需要,然后将该构件除去电荷,接着使电子照相感光构件进行随后的图像形成循环。
此外,近年来,反映高图像品质的需要,各自采用通过悬浮聚合方法或乳液聚合方法生产的球形调色剂的电子照相设备的数量已增多。例如,在扫除转印残余调色剂的过程中,由于该球形调色剂的表面平滑性,使与电子照相感光构件接触的清洁构件(如清洁刮板)可能难以防止调色剂经此滑动。
为减轻调色剂的滑动,基于电子照相设备的规格,应将清洁构件最优化。换言之,存在以下需要增大待施加至电子照相感光构件上的清洁构件的接触压力、清洁构件的安装角度的灵活性,或设计清洁构件的构造的灵活性。
在操作电子照相设备下,清洁刮板可能在电子照相感光构件上不正常地滑动,有时引起所谓的其中刮板翘起的“刮板卷曲”。
在清洁刮板与电子照相感光构件之间的接触边界表面上的转印残余调色剂(作为粉末,其起到赋予清洁刮板与电子照相感光构件之间滑动性的功能)积聚之前,在设置电子照相设备后,在初期阶段,刮板卷曲趋于发生。当清洁刮板的材料为弹性橡胶材料时,高温、高湿环境可能趋于增加发生刮板卷曲的频率。
因此,为避免产生此类刮板卷曲,添加添加剂至电子照相感光构件的表面层可极大地改进刮板设计的灵活性。例如,该改进可通过包括添加如公开于日本专利申请特开S62-014657中的化合物的方法而实现。
然而,添加剂的功能为改进清洁刮板的滑动性以防止其翘起,因此还期望添加剂对电子照相感光构件的电子照相特性是惰性的(即,不防止电荷通过感光层移动)。
顺便提及,日本专利申请特开S58-164656公开了具有直链氟烷基的氟接枝聚合物。
此外,日本专利申请特开2003-012588公开了在其侧链的任一条上具有三氟甲基和醚结构的含氟聚合物。


发明内容
本发明旨在提供具有良好的电子照相特性同时防止产生刮板卷曲的电子照相感光构件,制造该电子照相感光构件的方法,以及各自具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
作为研究的结果,本发明的发明人已发现以下事实。
即,在用于针对刮板卷曲采取的对策的添加剂之外,可将如记载于日本专利申请特开58-164656中的氟接枝聚合物加入电子照相感光构件的表面层中,以获得良好的刮板卷曲防止效果。
此外,除了刮板卷曲防止效果之外,电子照相特性的改进也可通过以下实现改进记载于日本专利申请特开58-164656中的氟接枝聚合物,具体地,将化合物的氟烷基上的直链结构改为特定结构。
即,根据本发明的一个方面,电子照相感光构件具有支承体和在该基底上形成的感光层,其特征在于该感光构件的表面层包含具有各自由下式(1)表示的重复结构单元的聚合物
(其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团),以及在所述聚合物中,70至100个数%的各自由上式(1)表示的重复结构单元各自任意为由下式(1-1)至(1-6)表示的重复结构单元

(其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示单键或烷基,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基,R22表示-R21-基或-O-R21-基,R23表示-Ar-基、-O-Ar基或-O-Ar-R-基(Ar表示亚芳基,R表示亚烷基),Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基,Rf12表示用氧中断的氟烷基,及Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基)。
根据本发明的另一方面,制造上述电子照相感光构件的方法的特征在于,使用表面层用涂布液形成电子照相感光构件的表面层,所述表面层用涂布液包含具有各自由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物。
根据本发明的另一方面,处理盒的特征在于包括上述电子照相感光构件;和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一个单元,其中将该构件和该至少一个单元一体化地支承,并可拆卸地连接到电子照相设备的主体上。
根据本发明的另一方面,电子照相设备的特征在于包括电子照相感光构件;充电单元;曝光单元;显影单元;和转印单元。
根据本发明,可以提供防止产生刮板卷曲同时具有良好的电子照相特性的电子照相感光构件,制造该电子照相感光构件的方法,以及各自具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。



图1A、图1B、图1C、图1D和图1E为显示本发明的电子照相感光构件的层结构的实例的图。
图2为示意性显示本发明的设置有处理盒的电子照相设备的构造的图。

具体实施例方式 以下,将更详细地描述本发明。
本发明的电子照相感光构件防止在初期阶段阶段产生刮板卷曲,并将电子照相特性保持在良好的条件下。此处,术语“在初期阶段”为在清洁刮板与电子照相感光构件之间的接触边界表面上的转印残余调色剂(作为粉末,其起到赋予清洁刮板与电子照相感光构件之间滑动性的功能)充分积聚之前的时间段。本发明可通过使电子照相感光构件的表面层包含具有特定重复结构单元的上述聚合物来实现上述目的。
具有特定重复结构单元的上述聚合物为具有各自由下式(1)表示的重复结构单元的聚合物
(其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团),其中在所述聚合物中,70至100个数%的各自由上式(1)表示的重复结构单元各自为由下式(1-1)至(1-6)表示的重复结构单元中的任何一个

(其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示单键或烷基,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基,R22表示-R21-基或-O-R21-基,R23表示-Ar-基、-O-Ar基或-O-Ar-R-基(Ar表示亚芳基,R表示亚烷基),Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基,Rf12表示用氧中断的氟烷基,及Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基)。
关于式(1)。
在上式(1)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1)中,R2表示单键或二价基团。该二价基团可优选在其结构中至少具有亚烷基或亚芳基的基团。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基;和分支亚烷基,如异亚丙基和异亚丁基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。所述亚芳基的实例包括亚苯基、亚萘基和亚联苯基。其中,优选亚苯基。
在上式(1)中,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团。氟烷基的实例包括以下
氟亚烷基的实例包括以下
关于式(1-1)。
在上式(1-1)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1-1)中,R20表示单键或亚烷基。该亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。
在上式(1-1)中,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基。此处,具有碳-碳键的支化结构表示其中最长键合链与其侧链通过碳-碳键彼此键合的结构。另外,部分或全部最长键合链和/或其侧链可用氟取代。
上式(1-1)中Rf11的具体实例如下表示。



其中,优选由上式(Rf11-1)、(Rf11-7)、(Rf11-17)和(Rf11-18)表示的氟烷基。
由上式(1-1)表示的重复结构单元的具体实例包括以下



其中,优选由上式(1-1-3)、(1-1-4)、(1-1-6)、(1-1-7)、(1-1-10)、(1-1-11)、(1-1-13)和(1-1-14)表示的重复结构单元。
为获得防止刮板卷曲的效果,重要的是用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物为在该重复结构单元中具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的聚合物。此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,以70至100个数%的量包含由上式(1-1)至(1-6)中的任何一个表示的重复结构单元。
在由上式(1-1)表示的重复结构单元的情况下,本发明的发明人认为本发明的效果可起因于,由于在由上式(1-1)表示的重复结构单元中存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基,导致在电子照相感光构件的表面上的能量降低。
此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选以70至100个数%的量,更优选以90至100个数%的量,包含由上式(1-1)表示的重复结构单元。
关于式(1-2)。
在上式(1-2)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1-2)中,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基。具有碳-碳键的支化结构表示其中最长键合链与其侧链通过碳-碳键键合的结构。所述最长键合链优选由2至6个碳原子形成。此外,在侧链部分上的任何取代基可为烷基或氟烷基等。所述烷基可为甲基、乙基、丙基或丁基。其中,优选甲基和乙基。所述氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)表示的基团的任何一个。其中,优选由上式(CF-1)表示的基团。
在上式(1-2)中,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团。所述氟烷基的实例包括由上式(CF-1)至(CF-3)表示的基团。此外,Rf10不限于直链结构,而是可为分支结构。可选择地,Rf10可为用氧原子中断的氟烷基。
在上式(1-2)中,Rf10的具体实例如下表示。




其中,优选由上式(Rf10-19)或(Rf10-24)表示的具有氟烷基的单价基团。
由上式(1-2)表示的重复结构单元的具体实例包括以下

其中,优选由上式(1-2-1)或(1-2-2)表示的重复结构单元。
如上所述,为获得防止刮板卷曲的效果,重要的是用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物为在该重复结构单元中具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的聚合物。此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,以70至100个数%的量包含由上式(1-1)至(1-6)的任何一个表示的重复结构单元。
在由上式(1-2)表示的重复结构单元的情况下,本发明的发明人具有以下观点本发明的效果可起因于,由于在由上式(1-2)表示的重复结构单元中的氟烷基或氟亚烷基,导致在电子照相感光构件表面上的能量降低。另外,存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基的作用,可导致粘结剂树脂与用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物之间的相容性增加。结果,在电子照相感光构件表面上的能量可通过增加的相容性而降低。
此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选以70至100个数%的量,更优选90至100个数%的量,包含由上式(1-2)表示的重复结构单元。
关于式(1-3)。
在上式(1-3)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1-3)中,R22表示-R21-基或-O-R21-基。具体而言,-R21-基表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基。所述具有碳-碳键的支化结构表示其中最长键合链与其侧链通过碳-碳键键合的结构。所述最长键合链优选由2至6个碳原子形成。此外,该侧链部分可为烷基或氟烷基等。所述烷基可为甲基、乙基、丙基或丁基。其中,优选甲基和乙基。所述氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)表示的基团的任何一个。其中,优选由上式(CF-1)表示的基团。另外,-O-R21-基表示其中将如上所述存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基通过氧原子键合至Rf10的结构。
在上式(1-3)中,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团。所述氟烷基的实例包括由上式(CF-1)至(CF-3)表示的基团。另外,Rf10不限于直链结构,而是可为分支结构。可选择地,Rf10可为用氧原子中断的氟烷基。
在上式(1-3)中,Rf10的具体实例包括由上式(Rf10-1)至(Rf10-36)表示的那些。其中,优选由上式(Rf10-10)和(Rf10-19)表示的具有氟烷基的单价基团。
由上式(1-3)表示的重复结构单元的具体实例包括以下


其中,优选由上式(1-3-1)、(1-3-2)、(1-3-3)、(1-3-4)、(1-3-6)、(1-3-9)、(1-3-10)、(1-3-11)、(1-3-12)和(1-3-14)表示的重复结构单元。
如上所述,为获得防止刮板卷曲的效果,重要的是用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物为在该重复结构单元中具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的聚合物。另外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,以70至100个数%的量包含由上式(1-1)至(1-6)的任何一个表示的重复结构单元。
在由上式(1-3)表示的重复结构单元的情况下,本发明的发明人具有以下观点本发明的效果可起因于,由于在由上式(1-3)表示的重复结构单元中包括的氟烷基,导致在电子照相感光构件表面上的能量降低。另外,存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基可导致粘结剂树脂与用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物之间的相容性增加。结果,在电子照相感光构件表面上的能量可通过增加的相容性而降低。
此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选以70至100个数%的量,更优选90至100个数%的量,包含由上式(1-3)表示的重复结构单元。
关于式(1-4)。
在上式(1-4)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1-4)中,R23表示-Ar-基、-O-Ar-基或-O-Ar-R-基(Ar表示亚芳基,R表示亚烷基)。Ar的亚芳基的实例包括亚苯基、亚萘基和亚联苯基。其中,优选亚苯基。R的亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基;和分支亚烷基,如异亚丙基和异亚丁基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。-O-Ar-基或-O-Ar-R-基表示通过氧原子键合至Rf10的结构。
在上式(1-4)中,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团。所述氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)的任何一个表示的基团。此外,Rf10不限于直链结构,而是可为分支结构。可选择地,Rf10可为用氧原子中断的氟烷基。
在上式(1-4)中,Rf10的具体实例包括由上式(Rf10-1)至(Rf10-36)表示的那些。其中,优选由上式(Rf10-21)和(Rf10-36)表示的具有氟烷基的单价基团。
由上式(1-4)表示的重复结构单元的具体实例包括以下


其中,优选由上式(1-4-1)、(1-4-6)、(1-4-7)、(1-4-8)、(1-4-10)、(1-4-15)、(1-4-16)和(1-4-17)表示的重复结构单元。
如上所述,为获得防止刮板卷曲的效果,重要的是用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物为在该重复结构单元中具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的聚合物。另外,用于本发明的具有由本式(1)表示的重复结构单元的聚合物,以70至100个数%的量包含由上式(1-1)至(1-6)中的任何一个表示的重复结构单元。
在由上式(1-4)表示的重复结构单元的情况下,本发明的发明人具有以下观点,本发明的效果可起因于由于包括于由上式(1-4)表示的重复结构单元中的氟烷基,导致在电子照相感光构件表面上的能量降低。另外,亚芳基的效果可导致粘结剂树脂与具有用于本发明的由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物之间的相容性增加。结果,在电子照相感光构件表面上的能量可通过增加的相容性而降低。
此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选以70至100个数%的量,更优选90至100个数%的量,包含由上式(1-4)表示的重复结构单元。
关于式(1-5)。
在上式(1-5)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1-5)中,R20表示单键或亚烷基。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。
在上式(1-5)中,Rf12表示用氧中断的氟烷基。所述用氧中断的氟烷基表示在最长键合链中包括至少一个氧原子的氟烷基。可选择地,氟烷基或氟亚烷基可存在于所述氧原子的两侧或一侧。
在上式(1-5)中,Rf12的具体实例如下表示。


其中,优选由上式(Rf12-13)、(Rf12-14)、(Rf12-16)和(Rf12-17)表示的基团。
由上式(1-5)表示的重复结构单元的具体实例包括以下


其中,优选由上式(1-5-2)、(1-5-4)、(1-5-5)、(1-5-6)、(1-5-8)、(1-5-11)、(1-5-12)和(1-5-13)表示的重复结构单元。
如上所述,为获得防止刮板卷曲的效果,重要的是用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物为在该重复结构单元中具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的聚合物。另外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,以70至100个数%的量包含由上式(1-1)至(1-6)中的任何一个表示的重复结构单元。
在由上式(1-5)表示的重复结构单元的情况下,本发明的发明人具有以下观点本发明的效果起因于,由于包括于由上式(1-5)表示的重复结构单元中的氟烷基,导致在电子照相感光构件表面上的能量降低。此外,氟烷基用氧中断,因此在电子照相感光构件表面上的能量也可通过改进在粘结剂树脂与用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物之间的相容性来降低。
此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选以70至100个数%的量,更优选90至100个数%的量,包含由上式(1-5)表示的重复结构单元。
关于式(1-6)。
在上式(1-6)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(1-6)中,R20表示单键或亚烷基。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。
在上式(1-6)中,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。
在上式(1-6)中,Rf13的具体实例如下表示。

其中,优选由上式(Rf13-1)和(Rf13-3)表示的基团。
由上式(1-6)表示的重复结构单元的具体实例包括以下



其中,优选由上式(1-6-1)、(1-6-2)、(1-6-6)、(1-6-7)、(1-6-10)、(1-6-11)、(1-6-14)和(1-6-15)表示的重复结构单元。
如上所述,为获得防止刮板卷曲的效果,重要的是用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物为在该重复结构单元中具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的聚合物。另外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,以70至100个数%的量包含由上式(1-1)至(1-6)中的任何一个表示的重复结构单元。
在由上式(1-6)表示的重复结构单元的情况下,本发明的发明人具有以下观点,本发明的效果可起因于由于包括于由上式(1-6)表示的重复结构单元中的氟烷基,导致在电子照相感光构件表面上的能量降低。此外,由于氟烷基为具有4至6个碳原子的全氟烷基,在电子照相感光构件表面上的能量可通过改进粘结剂树脂与用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物之间的相容性来降低。
此外,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选仅由为上式(1-6)表示的重复结构单元形成。
另外,为获得防止刮板卷曲的效果,在用于本发明的具有由式(1)表示的重复结构单元的聚合物的结构中,除由上式(1)表示的重复结构单元之外,可包括任何对表面层的粘结剂树脂具有亲合性的结构。
与表面层的粘结剂树脂具有相容性的结构的实例包括由丙烯酸烷基酯结构、甲基丙烯酸烷基酯结构和苯乙烯结构的重复结构单元制成的聚合物单元。为进一步提高本发明的效果,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,优选为具有由上式(1)表示的重复结构单元和由下式(a)表示的重复结构单元的聚合物
在上式(a)中,R101表示氢原子或甲基。
在上式(a)中的Y,其为二价有机基团,并且是任意的,只要其为二价有机基团即可,且其优选为由下式(c)表示的基团
在上式(c)中,Y1和Y2各自独立地表示亚烷基。所述亚烷基的实例包括亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基和亚丙基。这些亚烷基可具有的取代基包括烷基、烷氧基、羟基和芳基。所述烷基包括甲基、乙基、丙基和丁基。其中,优选甲基和乙基。所述烷氧基包括甲氧基、乙氧基和丙氧基。其中,优选甲氧基。所述芳基包括苯基和萘基。其中,优选苯基。此外,其中,更优选甲基和羟基。
在上式(a)中,Z为聚合物单元,其结构没有限制,只要Z为聚合物单元即可;Z优选为具有由下式(b-1)或下式(b-2)表示的重复结构单元的聚合物单元
在上式(b-1)中,R201表示烷基。所述烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基和壬基。其中,优选甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基。
在上式(b-2)中,R202表示烷基。所述烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基和壬基。其中,优选甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基。
在上式(a)中,由Z表示的聚合物单元的末端可使用封端剂封端的,或可具有氢原子。
用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物优选如下结构在该化合物中包括赋予源自氟烷基或氟亚烷基的滑动性的部分,和与表面层的粘结剂树脂具有亲合性的部分。
可采用由上式(1)表示的重复结构单元与由上式(a)表示的重复结构单元的共聚物的任何结构。然而,为使赋予滑动性的氟烷基部分或氟亚烷基部分更有效地发挥它们的功能,更优选在其侧链的任一条上具有由上式(a)表示的重复结构单元的梳型接枝结构。
另外,为获得本发明的效果,由上式(1)表示的重复结构单元与由上式(a)表示的重复结构单元之间的共聚比以摩尔比计,优选99:1至20:80,更优选95:5至30:70。在聚合对应于由上式(1)表示的重复结构单元的由下式(3)表示的化合物,与对应于由上式(a)表示的重复结构单元的由下式(d)表示的化合物时,可通过摩尔比来控制共聚比。
用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物的分子量以重均分子量计,优选1,000至100,000,更优选5,000至50,000。
具有各自由式(1)表示的重复结构单元的用于本发明的聚合物可通过各自由下式(3)表示的化合物的聚合来合成
(其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团)。注意,70至100个数%的各自由上式(3)表示的化合物应包括各自由下式(3-1)至(3-6)中的任何一个表示的化合物

(其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示单键或亚烷基,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基,R22表示-R21-基或-O-R21-基,R23表示-Ar-基、-O-Ar-基或-O-Ar-R-基(其中,Ar表示亚芳基,R表示亚烷基),Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基,Rf12表示用氧中断的氟烷基,及Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。) 关于式(3)。
在上式(3)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3)中,R2表示单键或二价基团。所述二价基团可优选在其结构中至少具有亚烷基或亚芳基的基团。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基;和分支亚烷基,如异亚丙基和异亚丁基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。所述亚芳基的实例包括亚苯基、亚萘基和亚联苯基。其中,优选亚苯基。
在上式(3)中,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团。所述氟烷基的实例包括以下
所述氟亚烷基的实例包括以下
关于式(3-1)。
在上式(3-1)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3-1)中,R20表示单键或亚烷基。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。
在上式(3-1)中,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基。所述具有碳-碳键的支化结构表示其中最长键合链与其侧链通过碳-碳键彼此键合的结构。另外,部分或全部最长键合链和/或侧链可用氟取代。
在上式(3-1)中,Rf11的具体实例包括由上式(Rf11-1)至(Rf11-18)表示的基团。
由上式(3-1)表示的化合物的具体实例如下所示。



其中,优选由上式(3-1-3)、(3-1-4)、(3-1-6)、(3-1-7)、(3-1-10)、(3-1-11)、(3-1-13)和(3-1-14)表示的化合物。
关于式(3-2)。
在上式(3-2)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3-2)中,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基。所述具有碳-碳键的支化结构表示其中最长键合链与其侧链通过碳-碳键键合的结构。所述最长键合链优选由2至6个碳原子形成。另外,每个侧链可为烷基或氟烷基等。所述烷基可为甲基、乙基、丙基或丁基。其中,优选甲基和乙基。所述氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)表示的基团的任何一个。其中,优选由上式(CF-1)表示的基团。
在上式(3-2)中,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团。该氟烷基的实例包括由上式(CF-1)至(CF-3)表示的基团。另外,Rf10不限于直链结构,而是可为分支结构。可选择地,Rf10可为用氧原子中断的氟烷基。
在上式(3-2)中,Rf10的具体实例包括由上式(Rf10-1)至(Rf10-36)表示的基团。
由上式(3-2)表示的化合物的具体实例如下所示。


其中,优选由上式(3-2-1)和(3-2-2)表示的化合物。
关于式(3-3)。
在上式(3-3)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3-3)中,R22表示-R21-基或-O-R21-基。具体而言,-R21-基表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基。所述具有碳-碳键的支化结构表示其中最长键合链与其侧链键通过碳-碳键键合的结构。所述最长键合链优选由2至6个碳原子形成。另外,侧链的每一个可为烷基或氟烷基。所述烷基可为例如甲基、乙基、丙基或丁基。其中,优选甲基和乙基。所述氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)中的任何一个表示的基团。其中,优选由上式(CF-1)表示的基团。此外,所述-O-R21-基表示其中将存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基通过氧原子键合至Rf10的结构。
在上式(3-3)中,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团。该氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)中的任何一个表示的基团。另外,Rf10不限于直链结构,而是可为分支结构。可选择地,Rf10可为用氧原子中断的氟烷基。
在上式(3-3)中,Rf10的具体实例包括由上式(Rf10-1)至(Rf10-36)表示的基团。
由上式(3-3)表示的重复结构单元的具体实例包括以下



其中,优选由上式(3-3-1)、(3-3-2)、(3-3-3)、(3-3-4)、(3-3-6)、(3-3-9)、(3-3-10)、(3-3-11)、(3-3-12)和(3-3-14)表示的化合物。
关于式(3-4)。
在上式(3-4)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3-4)中,R23表示-Ar-基、-O-Ar-基或-O-Ar-R-基(Ar表示亚芳基,R表示亚烷基)。所述Ar的亚芳基的实例包括亚苯基、亚萘基和亚联苯基。其中,优选亚苯基。所述R的亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基;和分支亚烷基,如异亚丙基和异亚丁基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。所述-O-Ar-基或-O-Ar-R-基表示通过氧原子键合至Rf10的结构。
在上式(3-4)中,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团。该氟烷基可为,例如由上式(CF-1)至(CF-3)中的任何一个表示的基团。另外,Rf10不限于直链结构,而是可为分支结构。可选择地,Rf10可为用氧原子中断的氟烷基。
在上式(3-4)中,Rf10的具体实例包括由上式(Rf10-1)至(Rf10-36)表示的那些。
由上式(3-4)表示的化合物的具体实例包括以下


其中,优选由上式(3-4-1)、(3-4-6)、(3-4-7)、(3-4-8)、(3-4-10)、(3-4-15)、(3-4-16)和(3-4-17)表示的化合物。
关于式(3-5)。
在上式(3-5)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3-5)中,R20表示单键或亚烷基。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。
在上式(3-5)中,R12表示用氧中断的氟烷基。所述用氧中断的氟烷基表示在最长键合链中包括至少一个氧原子的氟烷基。可选择地,氟烷基或氟亚烷基可存在于氧原子的两侧或一侧。
在上式(3-5)中,Rf12的具体实例包括由上式(Rf12-1)至(Rf12-17)表示的基团。
由上式(3-5)表示的化合物的具体实例如下所示。



其中,优选由上式(3-5-2)、(3-5-4)、(3-5-5)、(3-5-6)、(3-5-8)、(3-5-11)、(3-5-12)和(3-5-13)表示的化合物。
关于式(3-6)。
在上式(3-6)中,R1表示氢原子或甲基。
在上式(3-6)中,R20表示单键或亚烷基。所述亚烷基的实例包括直链亚烷基,如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基、亚丙基和亚丁基。
在上式(3-6)中,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。
在上式(3-6)中,Rf13的具体实例包括由上式(Rf13-1)至(Rf13-3)表示的基团。
由上式(3-6)表示的化合物的具体实例如下所示。




其中,优选由上式(3-6-1)、(3-6-2)、(3-6-6)、(3-6-7)、(3-6-10)、(3-6-11)、(3-6-14)和(3-6-15)表示的化合物。
由上式(3)表示的化合物可通过组合本领域公知的生产方法来生产。
将示例生产由上式(3)表示的化合物的方法。
根据日本专利申请特开2005-054020中公开的方法,使用氟烷基(Rf1基)的碘化材料作为起始材料,从而获得由上式(3)表示的化合物,其中R1为H,R2为CH2-CH2。
可选择地,由上式(3)表示的任何化合物可参考例如在日本专利申请特开2001-302571和日本专利申请特开2001-199953中公开的其它生产方法的任何一个而获得。

(在上式中,R1表示式(3)中的R1,Rf1表示式(3)中的Rf1)。
此外,由上式(3-2)表示的化合物具有多个酯结构。因此,由于这个原因,聚合由上式(3-2)表示的化合物后剩余的副产物材料或残余化合物,可通过用水或醇洗涤所得聚合物而容易地除去。结果,具有由上式(1-2)表示的重复结构单元的化合物可以高纯度获得。高纯度化合物的获得还有助于将电子照相特性保持在良好条件下。
具有各自由上式(a)表示的重复结构单元的化合物通过聚合各自由下式(d)表示的化合物合成
(其中,R101表示氢原子或甲基,Y表示二价有机基团,Z表示聚合物单元)。
在上式(d)中,R101表示氢原子或甲基。
在上式(d)中的Y,其为二价有机基团并且是任意的,只要其为二价有机基团即可,且其优选为由下式(c)表示的基团
在上式(c)中,Y1和Y2各自独立地表示亚烷基。所述亚烷基的实例包括亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基和亚己基。其中,优选亚甲基、亚乙基和亚丙基。这些亚烷基可具有的取代基包括烷基、烷氧基、羟基和芳基。所述烷基包括甲基、乙基、丙基和丁基。其中,优选甲基和乙基。所述烷氧基包括甲氧基、乙氧基和丙氧基。其中,优选甲氧基。所述芳基包括苯基和萘基。其中,优选苯基。此外,其中,更优选甲基和羟基。
在上式(d)中,Z为聚合物单元,其结构没有限制,只要Z为聚合物单元即可;Z优选为具有由下式(b-1)或下式(b-2)表示的重复结构单元的聚合物单元
在上式(b-1)中,R201表示烷基。所述烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基和壬基。其中,优选甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基。
在上式(b-2)中,R202表示烷基。所述烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基和壬基。其中,优选甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基。
在上式(d)中,由Z表示的聚合物单元的末端可使用封端剂封端,或可具有氢原子。
用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物可通过聚合由上式(3)表示的化合物来生产。此外,具有由上式(1)表示的重复结构单元和由上式(a)表示的重复结构单元两者的聚合物,可根据例如日本专利申请特开58-164656中公开的方法,通过共聚合由上式(3)表示的化合物与由上式(d)表示的化合物来生产。
以下,将描述由上式(d)表示的化合物的生产方法的实例。在下式中,示例具有由上式(d)表示的结构的化合物,其中R101为甲基,Y为具有由上式(c)表示的结构的二价有机基团,Z为由上式(b-2)表示的聚合物单元。此外,在上式(c)中,Y1为亚甲基,Y2为具有羟基的亚丙基。
(步骤1) 向丙烯酸烷基酯单体或甲基丙烯酸烷基酯单体中,以单体比计,以几个质量%的量添加链转移剂,由此进行单体的聚合,可提供所述单体作为用于具有由上式(b-1)或上式(b-2)表示的重复结构单元的聚合物的原料。从而,获得具有与链转移剂偶联的末端的丙烯酸烷基酯聚合物或甲基丙烯酸烷基酯聚合物。所述链转移剂可为任何具有巯基的羧酸,如巯基乙酸、3-巯基丙酸、2-巯基丙酸和4-巯基正丁酸。
(步骤2) 提供官能团以键合至丙烯酸烷基酯聚合物和甲基丙烯酸烷基酯聚合物,然后使所述官能团与在随后的反应中形成主链的单体(在下式中,甲基丙烯酸缩水甘油酯)反应。从而,获得由上式(d)表示的化合物。上述甲基丙烯酸缩水甘油酯具有可聚合官能团和可键合至链转移剂中的羧基的官能团(环氧部分)。所述单体不限于甲基丙烯酸缩水甘油酯,只要其为类似官能团结构的单体即可。


(在该式中,R202表示烷基) 由上式(1)表示的重复结构单元和由上式(a)表示的重复结构单元的共聚物,可根据日本专利申请特开58-164656中公开的步骤,使用由上式(3)表示的化合物和由上式(d)表示的化合物来生产。以此方式,可获得具有氟烷基或氟亚烷基的部分和对表面层中的粘结剂树脂具有亲和性的部分的化合物,所述氟烷基或氟亚烷基有助于改进电子照相感光构件的表面与清洁刮板之间的滑动性。
用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物作为光导电性物质和表面层的粘结剂树脂不具有充分的功能。因而,优选尽可能少量地使用该聚合物作为表面层的构成组分。此外,在设置电子照相设备后即刻初期,或在清洁刮板与电子照相感光构件之间的接触边界表面上的转印残余调色剂的积聚之前,刮板卷曲高频率地发生。当清洁刮板的材料为弹性橡胶材料时,存在在高温、高湿环境下进一步增加刮板卷曲的发生频率的趋势。因此,优选使充分量的用于本发明的具有由上式(1)表示的重复单元的化合物位于邻近于电子照相感光构件的表面层的表面。从此观点,优选将具有氟烷基或氟亚烷基的用于本发明的具有由上式(1)表示的重复单元的聚合物加入表面层中,所述聚合物对于电子照相感光构件的表面层的表面是可移动的。
由上式(1-1)表示的重复结构单元的氟烷基的结构不是直链,而是分支结构。在用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,所述聚合物包括由上式(1-1)表示的重复结构单元的情况下,在溶液或分散液中,用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物的胶束难以形成。因此,可均匀化在所述溶液或分散液中的液体组成。另外,少量离子杂质难以混合,因此该事实可有助于改进特性和将电子照相特性保持在良好条件下。
由上式(1-2)表示的重复结构单元的结构为分支结构。在用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,所述聚合物包括由上式(1-2)表示的重复结构单元的情况下,在溶液或分散液中,具有由上式(1)表示的重复结构单元的化合物的胶束难以形成。因此,可均匀化在所述溶液或分散液中的液体组成。另外,少量离子杂质难以混合,因此该事实有助于改进特性和将电子照相特性保持在良好条件下。
由上式(1-3)表示的重复结构单元的结构为分支结构。在用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,所述聚合物包括由上式(1-3)表示的重复结构单元的情况下,在溶液或分散液中,具有由上式(1)表示的重复结构单元的化合物的胶束难以形成。因此,可均匀化在所述溶液或分散液中的液体组成。另外,少量离子杂质难以混合,因此该事实可有助于改进特性和将电子照相特性保持在良好条件下。
由上式(1-4)表示的重复结构单元的结构为包含亚芳基的结构。在用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,所述聚合物包括由上式(1-4)表示的重复结构单元的情况下,在溶液或分散液中,具有由上式(1)表示的重复结构单元的化合物的胶束难以形成。因此,可均匀化在所述溶液或分散液中的液体组成。另外,少量离子杂质难以混合,因此该事实有助于改进特性和将电子照相特性保持在良好条件下。
由上式(1-5)表示的重复结构单元的结构为包含用氧中断的氟烷基的结构。在用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物,所述聚合物包括由上式(1-5)表示的重复结构单元的情况下,在溶液或分散液中,具有由上式(1)表示的重复结构单元的化合物的胶束难以形成。因此,可均匀化在所述溶液或分散液中的液体组成。另外,少量离子杂质难以混合,因此该事实有助于改进特性和将电子照相特性保持在良好条件下。
由上式(1-6)表示的重复结构单元的结构为包含具有4至6个碳原子的全氟烷基的结构。在用于本发明的具有由式(1)表示的重复结构单元的聚合物,所述聚合物包括由上式(1-6)表示的重复结构单元的情况下,在溶液或分散液中具有上由式(1)表示的重复结构单元的化合物的胶束难以形成。因此,可均匀化在所述溶液或分散液中的液体组成。另外,少量离子杂质难以混合,因此该事实有助于特性的改进和将电子照相特性保持在良好条件下。
接下来,将描述本发明的电子照相感光构件的构造。
作为本发明的电子照相感光构件的实例,如图1A至图1E所示,可示例以此顺序在支承体101上具有中间层103和感光层104的电子照相感光构件(见图1A)。
另外,例如,在支承体101和中间层103之间可提供导电层102,所述导电层102通过在树脂中分散导电性颗粒形成,并使其体积电阻率更小,厚度更大。可将所述层102用作覆盖导电性支承体101或非导电性支承体101(例如,树脂支承体)的表面中的缺陷的层(见图1B)。
感光层104可为在相同层中包含电荷输送物质和电荷产生物质的单层型感光层104(见图1A)。此外,感光层104可为由包含电荷产生物质的电荷产生层1041和包含电荷输送物质的电荷输送层1042分别组成的多层型(功能分离型)感光层。考虑到电子照相特性,优选多层型感光层。在单层型感光层的情况下,本发明的表面层为感光层104。另外,存在两种多层型感光层。一种为常规层型感光层,其中电荷产生层1041和电荷输送层1042从支承体101以指定顺序层压在支承体101上(见图1C)。另一种为逆层型感光层,其中电荷输送层1042和电荷产生层1041从支承体101以该顺序层压在支承体101上(见图1D)。从电子照相特性的观点,优选常规层型感光层。在多层型感光层中,在常规层型感光层的情况下,电子照相感光构件的表面层为电荷输送层。在逆层型感光层的情况下,表面层为电荷产生层(但当未提供保护层时)。
另外,保护层105可在感光层104(电荷产生层1041和电荷输送层1042)上形成(见图1E)。在电子照相感光构件具有保护层105的情况下,电子照相感光构件的表面层为保护层105。
支承体101优选导电性的(导电性支承体),并可为由金属如铝、铝合金或不锈钢制成的支承体。在铝或铝合金的情况下,使用的支承体101可为ED管或EI管,或通过使ED管或EI管进行切割、电解复合研磨(用具有电解作用的电极和电解质溶液电解,并用具有研磨作用的磨石研磨),或者湿式或干式珩磨处理获得的支承体。此外,可使用具有通过用真空沉积铝、铝合金或氧化铟-氧化锡合金的膜形成而形成的层的上述金属制支承体。另外,可使用具有通过用真空沉积的膜形成而形成的层的树脂制支承体(聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、酚醛树脂、聚丙烯或聚苯乙烯树脂)。可选择地,可使用通过将导电性颗粒如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒和银颗粒注入树脂或纸中制备的支承体,或可使用具有导电性粘结剂树脂的塑料。
关于支承体的体积电阻率,当支承体的表面是为了赋予支承体导电性而提供的层时,该层的体积电阻率优选1×1010Ω·cm以下,更优选1×106Ω·cm以下。
为了覆盖支承体表面中的缺陷的目的,可在支承体上形成导电层。所述导电层为通过在支承体上施涂涂布液而形成的层,所述涂布液通过在适当的粘结剂树脂中分散导电性颗粒制备。
此导电性粉末包括炭黑;乙炔黑;由例如铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌和银制成的金属粉末;和由例如导电性氧化锡和ITO制成的金属氧化物粉末。
另外,与导电性粉末同时使用的粘结剂树脂可为以下热塑性树脂、热固性树脂和光固化树脂中的任何一种。
聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚酯、聚氯乙烯、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚偏1,1-二氯乙烯、多芳基化树脂、苯氧基树脂、聚碳酸酯、乙酸纤维素树脂、乙基纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯基甲苯、聚-N-乙烯咔唑、丙烯酸树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。
导电层可通过将上述导电性粉末和粘结剂树脂分散或溶解于有机溶剂中,随后涂布而形成。有机溶剂的实例包括醚类溶剂(例如四氢呋喃、乙二醇二甲醚);醇类溶剂(例如甲醇);酮类溶剂(例如甲乙酮);和芳香烃溶剂(例如甲苯)。
导电层的膜厚度优选5至40μm,更优选10至30μm。
可在支承体或导电层上提供具有阻挡功能的中间层。
可以以施涂硬化树脂,然后硬化以形成树脂层的方式形成中间层。可选择地,可以以在导电层上施涂包含粘结剂树脂的中间层用涂布液,然后干燥以形成此层的方式形成中间层。
中间层中的粘结剂树脂的实例包括以下树脂 包括聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸和酪蛋白的水溶性树脂;聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚酰胺酸树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂和聚谷氨酸盐树脂。
为有效地表现中间层的电子阻挡性以及从涂布特性、粘合性、耐溶剂性和电阻的观点,在中间层中的粘结剂树脂优选热塑性树脂。具体而言,优选热塑性聚酰胺树脂。所述聚酰胺树脂优选是能够以溶液状态施涂的低结晶性共聚物尼龙或非结晶的共聚物尼龙。
中间层的膜厚度优选0.1至2.0μm。
另外,可将半导电性颗粒分散在中间层中,或可将电子输送物质(电子接受物质,如受体)加入中间层中,以防止干扰中间层中的电荷(载流子)的流动。
感光层可在支承体、导电层或中间层上形成。
本发明的电子照相感光构件中使用的电荷产生物质的实例包括以下 偶氮颜料,如单偶氮、双偶氮和三偶氮;酞菁颜料,如金属酞菁和类金属酞菁;靛蓝颜料,如靛蓝和硫靛;苝颜料,如苝酸酐和苝酸酰亚胺;多环醌颜料,如蒽醌和芘醌;角鲨鎓(squalelium)着色物质,吡喃鎓盐,噻喃鎓盐和三苯甲烷染料;无机物质,如硒、硒-碲和无定形硅;以及喹吖啶酮颜料,甘菊环鎓(azulenium)盐颜料,花青染料,氧杂蒽着色物质,醌亚胺着色物质和苯乙烯基着色物质。
可单独使用这些电荷产生物质的任何一种,或可将它们的两种以上组合使用。其中,特别地,由于它们的高灵敏性,优选金属酞菁,如氧化钛酞菁、氢氧化镓酞菁和氯化镓酞菁。
当感光层为多层型感光层时,电荷产生层中使用的粘结剂树脂可为例如以下的任何一种 聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、多芳基化树脂、丁醛树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、醋酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、硅酮树脂、聚砜树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂、醇酸树脂、环氧树脂、脲醛树脂和氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物树脂。
其中,优选丁醛树脂。它们可单独使用。可选择地,可将它们的两种以上作为混合物或共聚物使用。
电荷产生层可通过施涂电荷产生层用涂布液,然后干燥该涂布液而形成,所述电荷产生层用涂布液通过将电荷产生物质与粘结剂树脂一起分散入溶剂中来制备。例如,分散方法可为使用均质器、超声波、球磨机、砂磨机、超微磨碎机或辊磨机的方法。电荷产生物质与粘结剂树脂之间的比优选在10:1至1:10(质量比),更优选在3:1至1:1(质量比)。
用于电荷产生层用涂布液的溶剂基于要使用的粘结剂树脂,以及电荷产生物质的溶解性和分散稳定性来选择。有机溶剂可为醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂或芳香烃溶剂。
电荷产生层的膜厚度优选5μm以下,更优选0.1至2μm。
此外,如果需要,可将各种敏化剂、抗氧剂、UV吸收剂和增塑剂等中的任何一种加入电荷产生层。可将电子输送物质(电子接受物质如受体)添加至电荷产生层中,以防止干扰电荷产生层中的电荷(载流子)的流动。
用于本发明的电子照相感光构件的电荷输送物质的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三烯丙基甲烷化合物。可单独使用这些电荷输送物质中的一种,或可将它们的两种以上组合使用。
当感光层为多层型感光层时,可给出以下作为要用于电荷输送层中的粘结剂树脂的实例丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、多芳基化树脂、聚砜树脂、聚苯醚树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂和不饱和树脂。
其中,特别地,优选聚甲基丙烯酸甲酯树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯腈共聚物树脂、聚碳酸酯树脂、多芳基化树脂或邻苯二甲酸二烯丙酯树脂。可单独使用这些树脂中的一种,或可将它们的两种以上作为混合物或共聚物使用。
电荷输送层可通过施涂电荷输送层用涂布液,然后干燥而形成,所述电荷输送层用涂布液通过将电荷输送物质和粘结剂树脂溶解于溶剂中而获得。电荷输送物质与粘结剂树脂之间的比优选2:1至1:2(质量比)。
当电荷输送层为表面层时,在电荷输送层用涂布液(表面层用涂布液)中包括用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物。聚合物的含量优选0.01至20.0质量%,更优选0.1至5.0质量%,相对于电荷输送物质和粘结剂树脂的总量。
用于电荷输送层用涂布液的溶剂实例包括酮类溶剂,如丙酮和甲乙酮;酯类溶剂,如乙酸甲酯和乙酸乙酯;醚类溶剂,如四氢呋喃、二氧戊环、二甲氧基甲烷和二甲氧基乙烷;和芳香烃溶剂,如甲苯和二甲苯。
可单独使用这些溶剂中的任何一种,或可将它们的两种以上作为混合物使用。在这些溶剂中,从树脂溶解性的观点,优选使用醚类溶剂和芳香烃溶剂中的任何一种。
电荷输送层具有优选5至40μm,或更优选10至30μm的膜厚度。
另外,如果需要,可将例如抗氧剂、UV吸收剂或增塑剂加入电荷输送层。
当感光层为单层型感光层并作为电子照相感光构件的表面层来设置时,在单层型感光层中,将用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物加入上述电荷产生物质、上述电荷输送物质、上述粘结剂树脂和上述溶剂中。可将用于如此获得的单层型感光层的涂布液施涂并干燥,以形成电子照相感光构件的感光层(单层型感光层)。
此外,可在感光层上形成旨在保护感光层的保护层。所述保护层可通过施涂保护层用的涂布液形成,所述保护层用的涂布液通过在如上所述的溶剂中溶解各种粘结剂树脂,然后干燥来制备。
当电子照相感光构件的表面层为保护层时,正如上述电荷输送层为表面层时的情况,在保护层中包含用于本发明的具有由上式(1)表示的重复结构单元的聚合物。从而,可形成本发明的电子照相感光构件的表面层。
保护层的膜厚度优选0.5至10μm,更优选1至5μm。
为了施涂相应于各层的各涂布液,可采用任何施涂方法。此类方法包括浸涂、喷涂、旋涂、辊涂、迈耶(Mayer)棒涂、刮涂和环涂。
图2显示了本发明的装备有处理盒的电子照相设备的示例性示意构造。
在图2中,可将圆筒状电子照相感光构件1驱动以沿箭头指示的方向以预定的圆周速度绕轴2旋转。
待旋转的电子照相感光构件1的表面通过充电单元(一次充电单元例如,充电辊)3以预定电势均匀地正或负地充电。随后,将电子照相感光构件1的表面接收由曝光单元(未显示)如狭缝曝光或激光束扫描曝光发射的曝光光(图像曝光光)4。以此方式,将相应于关注的各图像的静电潜像在电子照相感光构件1的表面上依次形成。
将在电子照相感光构件1的表面上形成的静电潜像通过用包含在显影单元5的显影剂中的调色剂显影,转化为调色剂图像。随后,将形成并保持在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像,通过来自转印单元(例如转印辊)6的转印偏压接连转印至转印材料(如纸)P上。与电子照相感光构件1的旋转同步,将转印材料P进给至电子照相感光构件1与转印单元6之间的部分(接触部)。
将已接收调色剂图像的转印的转印材料P从电子照相感光构件1的表面上分离,然后引入至定影单元8中。使转印材料P进行图像定影,然后作为图像形成产品(打印件或复印件)打印出设备外。
调色剂图像转印后电子照相感光构件1的表面,通过清洁单元(例如,清洁刮板)7除去转印后残留的显影剂(调色剂)来清洁。此外,使电子照相感光构件1的表面用来自预曝光单元(未显示)的预曝光光(未示出)进行中和处理,然后重复用于图像形成。此外,如图2所示,当充电单元3为使用充电辊的接触充电单元时,预曝光并不总是需要。
在包括如上所述的电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7的结构组件中,可将它们中的两个以上放入容器中,然后一体化地组合为处理盒。另外,可设计处理盒以可拆卸地安装到电子照相设备如复印机或激光束打印机的主体上。在图2中,将电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7一体化地支承并放入盒中,从而形成处理盒9。使用导向单元10如电子照相设备主体的轨道将处理盒9可拆卸地安装到电子照相设备的主体上。
(实施例) 以下,将参考具体实施例详细地描述本发明。然而,本发明并不限于这些实施例。另外,在实施例中,份是指质量份,%是指质量%。
(合成例(A-1)由上式(3-1-3)表示的化合物的合成) 将由下式(A-e-1)表示的碘化材料(0.5份)和离子交换水(20份)装入脱气高压釜中,然后加热至300℃,以在9.2MPa的表压下进行碘向羟基的转化反应4小时。

反应结束后,将乙醚(20份)加入该反应混合物中。将该混合物分离成两相后,将硫酸镁(0.2份)放入醚相中,然后通过过滤除去硫酸镁,从而获得羟基化合物。将该羟基化合物经过柱色谱,以分离并除去除主要组分以外的组分。随后,将100份预先获得的羟基化合物、50份丙烯酸、5份氢醌、5份对甲苯磺酸和200份甲苯引入装配有搅拌器、冷凝器和温度计的玻璃烧瓶中。接着,将烧瓶加热至110℃,然后继续反应,直至原料,羟基化合物消失。反应完成后,将混合物用200份甲苯稀释,用氢氧化钠水溶液洗涤两次,然后用离子交换水洗涤三次。随后,在减压下蒸馏除去甲苯,从而获得产物。将所得产物通过1H-NMR和19F-NMR鉴别。作为通过气相色谱法定量分析产物的结果,发现由上式(3-1-3)表示的化合物为主要组分。
(合成例(A-2)由上式(3-1-4)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(A-e-2)表示的碘化材料代替合成例(A-1)中记载的由上式(A-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(A-1)相同的反应获得包含由上式(3-1-4)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(A-3)由上式(3-1-6)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(A-e-3)表示的碘化材料代替合成例(A-1)中记载的由上式(A-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(A-1)相同的反应获得包含由上式(3-1-6)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(A-4)由上式(3-1-7)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(A-e-4)表示的碘化材料代替合成例(A-1)中记载的由上式(A-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(A-1)相同的反应获得包含由上式(3-1-7)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(A-5)由上式(3-2-2)表示的化合物的合成) 在装配有搅拌器、冷凝器和温度计的玻璃烧瓶中,放入100份由下式(A-e-5)表示的羟基化合物、50份丙烯酸、5份氢醌、5份对甲苯磺酸和200份甲苯。

随后,将该混合物加热至110℃,然后继续反应,直至原料,羟基化合物消失。反应完成后,将该混合物用200份甲苯稀释,用氢氧化钠水溶液洗涤两次,然后用离子交换水洗涤三次。随后,在减压下蒸馏除去甲苯,从而获得产物。所得产物通过1H-NMR和19F-NMR鉴别。作为通过气相色谱法定量分析产物的结果,发现由上式(3-2-2)表示的化合物为主要组分。
(合成例(A-6)由上式(3-2-1)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(A-e-6)表示的羟基化合物代替合成例(A-5)中记载的由上式(A-e-5)表示的羟基化合物之外,通过进行与合成例(A-5)中相同的反应获得包含由上式(3-2-1)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(A-7)) 除了使用由下式(A-f-1)表示的碘化材料代替合成例(A-1)中记载的由上式(A-e-1)表示的碘化材料之外,以与合成例(A-1)类似的方式进行反应。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) 从而,获得其中由下式(A-f)表示的化合物为主要组分的产物。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) (生产例(A-1)聚合物(A-A)的生产) 在装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,放入10份甲基丙烯酸甲酯(以下,简写为MMA)和0.3份丙酮(17.5%)-甲苯混合物溶剂。随后,将氮气引入烧瓶中,然后添加0.5份偶氮二异丁腈(以下,简写为AIBN)作为聚合引发剂和0.32份巯基乙酸作为链转移剂,以在回流下引发聚合。在引发后4.5小时的时间期间,连续滴加90份MMA。另外,将2.08份巯基乙酸溶解于7份甲苯中,然后分九次,每30分钟加入一次。同样地,将AIBN(1.5份)分三次,每1.5小时加入一次,以进行聚合。随后,将该混合物另外回流两小时,从而终止聚合。获得下式(g)的聚合物溶液
(在上式中,80表示重复单元的平均重复数)。
反应温度为77至87℃。将部分反应溶液用正己烷再沉淀,然后干燥,接着作为测量酸值的结果,获得0.34mg当量/g的酸值。重复单元的平均重复数为约80。
接着,将部分丙酮从上述反应溶液中蒸馏除去,随后添加0.5%的三乙胺作为催化剂和200ppm氢醌单甲醚作为聚合抑制剂。另外,相对于聚合物的酸值,添加1.2倍摩尔过量的甲基丙烯酸缩水甘油酯。随后,反应溶液在回流下(约110℃)反应11小时。将该反应溶液添加至10体积的正己烷中,然后沉淀,随后在80℃下在减压下干燥。结果,获得90份由下式(d-1)表示的化合物
(在上式中,80表示重复单元的平均重复数)。
接着,将以下材料放入装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,然后引入氮气,随后在回流下(加热至约100℃)反应5小时。70份由上式(d-1)表示的化合物。30份其中通过合成例(A-1)获得的由上式(3-1-3)表示的化合物为主要组分的产物。270份三氟甲苯。AIBN(0.35份)。将该反应溶液引入10体积的甲醇中,并沉淀,然后在80℃下在减压下干燥。从而,获得具有由上式(1-1-3)表示的重复结构单元的聚合物(A-A重均分子量(Mw)22,000)。
在本发明中,聚合物和树脂的重均分子量如下所述根据常规方法测量。
换言之,将作为测量对象的聚合物或树脂放入四氢呋喃中,然后放置几小时。其后,将测量对象树脂和四氢呋喃良好混合,同时振荡(混合至观察不到测量对象聚合物或树脂的聚集体),随后使其进一步放置12小时以上。
此后,提供已经通过样品处理过滤器,由Tosoh Corporation制造的MAISHORIDISK H-25-5,的产物作为用于凝胶渗透色谱(GPC)的样品。
随后,将柱在40℃的热室中稳定,然后将溶剂,四氢呋喃以1ml/min的流速供给至在该温度下的柱中。随后,将10μl GPC样品注入柱内,从而测定测量对象聚合物或树脂的重均分子量。使用的柱为由Tosoh Corporation制造的柱TSKgel SuperHM-M。
为测定测量对象聚合物或树脂的重均分子量,从通过几个单分散聚苯乙烯标准样品制作的标准曲线的对数值与计数值之间的关系,计算测量对象聚合物或树脂所具有的分子量分布。用于制作标准曲线的标准聚苯乙烯样品为十种不同分子量的由Sigma-Aldrich Corporation制造的单分散聚苯乙烯3,500;12,000;40,000;75,000;98,000;120,000;240,000;500,000;800,000和1,800,000。使用的检测器为RI(折射率)检测器。
(生产例(A-2)聚合物(A-B)的生产) 除了将由上式(3-1-3)表示的化合物用其中在合成例(A-2)中获得的由上式(3-1-4)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(A-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-1-4)表示的重复结构单元的聚合物(A-B重均分子量(Mw)21,000)。
(生产例(A-3)聚合物(A-C)的生产) 除了将由上式(3-1-3)表示的化合物用其中在合成例(A-3)中获得的由上式(3-1-6)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(A-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-1-6)表示的重复结构单元的聚合物(A-C重均分子量(Mw)19,500)。
(生产例(A-4)聚合物(A-D)的生产) 除了将由上式(3-1-3)表示的化合物用其中在合成例(A-4)中获得的由上式(3-1-7)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(A-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-1-7)表示的重复结构单元的聚合物(A-D重均分子量(Mw)23,400)。
(生产例(A-5)聚合物(A-E)的生产) 除了将由上式(3-1-3)表示的化合物用其中在合成例(A-5)中获得的由上式(3-2-2)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(A-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-2-2)表示的重复结构单元的聚合物(A-E重均分子量(Mw)22,100)。
(生产例(A-6)聚合物(A-F)的生产) 除了将由上式(3-1-3)表示的化合物用其中在合成例(A-6)中获得的由上式(3-2-1)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(A-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-2-1)表示的重复结构单元的聚合物(A-F重均分子量(Mw)22,500)。
(生产例(A-7)聚合物(A-G)的生产) (比较例) 除了将由上式(3-1-3)表示的化合物用其中在合成例(A-7)中获得的由上式(A-f)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(A-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由下式(A-f-2)表示的重复结构单元的聚合物(A-(G重均分子量(Mw)21,000)。

(在上式中,7表示重复单元的重复数)。
(实施例(A-1)) 使用的导电性支承体为在具有温度23℃和湿度60%RH的环境下通过热挤出获得的具有长度260.5mm和直径30mm的铝圆筒(JIS-A3003,铝合金ED管,由Showa Aluminum Corporation制造)。
将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨机分散3小时,从而制备分散液。用氧缺陷型的(oxygen-deficient)SnO2覆盖的TiO2颗粒作为导电性颗粒(粉体电阻率80Ω·cm,SnO2覆盖率(质量比)50%),6.6份。酚醛树脂(商品名Plyophen J-325,由Dainippon Ink & Chemicals,Incorporated制造。60%树脂固体)作为树脂粘结剂,5.5份。甲氧基丙醇作为溶剂,5.9份。
将以下材料添加至分散液中,并将全体搅拌,从而制备导电层用涂布液。硅酮树脂颗粒(商品名Tospal 120,由GEToshiba Silicones制造。平均粒径2μm)作为表面粗糙度赋予剂,0.5份。硅油(商品名SH28PA,由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)作为流平剂,0.001份。
将支承体用导电层用涂布液浸涂,并将全体在140℃温度下干燥30分钟以热固化,从而在距支承体上侧130mm的位置处形成平均膜厚度为15μm的导电层。
将导电层用以下中间层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.5μm的中间层。中间层用涂布液通过如下制备在65份甲醇和30份正丁醇的混合物溶剂中,溶解N-甲氧基甲基化尼龙(商品名Toresin EF-30T,由Teikoku ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造),4份,和共聚物尼龙树脂(AmilanCM8000,由Toray Co.,Ltd.制造),2份。
随后,将以下材料用具有1mm直径的玻璃珠的砂磨装置分散1小时。接着,将250份乙酸乙酯添加至该混合物,从而制备电荷产生层用涂布液。结晶形式的氢氧化镓酞菁,其在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰,10份。聚乙烯醇缩丁醛(商品名S-LEX BX-1,由Sekisui Chemical,Co.,Ltd.制造),5份。环己酮,250份。
将中间层用电荷产生层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.16μm的电荷产生层。
接着,将以下材料溶解于30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合物溶剂中,从而制备含电荷输送物质的涂布液。具有由下式(CTM-1)表示的结构的电荷输送物质,10份
由下式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂(IupilonZ-400,由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)[粘度平均分子量(Mv)39,000]作为粘结剂树脂,10份
在生产例(A-1)中生产的聚合物(A-A),0.2份。
将电荷产生层用如此制备的电荷输送层用涂布液浸涂,然后将全体在120℃的温度下干燥30分钟。从而,形成在距支承体上端130mm的位置处具有17μm平均膜厚度的电荷输送层。
此外,测量粘度平均分子量(Mv)的方法如下所述。
首先,将0.5g样品溶解于100ml二氯甲烷中,然后使用改进的Ubbelohde型粘度计测定在25℃的温度下溶液的比粘度。随后,从比粘度计算极限粘度,然后通过Mark-Houwink粘度方程计算粘度平均分子量(Mv)。粘度平均分子量(Mv)由通过凝胶渗透色谱(GPC)测定的聚苯乙烯的相应值表示。
以此方式,制备具有设置为表面层的电荷输送层的电子照相感光构件。
评价如此制备的电子照相感光构件的初期刮板卷曲*1和电子照相特性*2。结果示于表1中。
*1初期刮板卷曲的评价方法 将如此制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和该主体的处理盒放置在温度35℃和湿度80%RH的环境下15小时。此后,在该环境下,将如此制备的电子照相感光构件安装到处理盒上,随后连续输出20张实白图像。在打印期间,观察是否发生清洁刮板的卷曲问题(评价在四个位置进行(制备四个新的电子照相感光构件和四个新的处理盒用于各颜色),当即使仅一次卷曲问题发生时,在表1中记为“F”,或当没有问题发生时,记为“A”)。
*2电子照相特性的评价方法 将制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和用于测量表面电势的工具放置在温度25℃和湿度50%RH(常温和常湿)的环境下15小时。此外,用于测量表面电势的工具为在LBP-2510处理盒的显影辊位置上,用于设置电子照相感光构件的表面电势测量用的探针的那些(除去调色剂、显影辊和清洁刮板)。此后,在相同环境下,将用于测量电子照相感光构件的表面电势的工具连接至构件上,然后在除去用于静电图像转印的带单元的条件下,不供纸来测量电子照相感光构件的表面电势。顺便提及,将用于测量表面电势的工具安装到主体中青色处理盒位置上,然后进行测量。
电势测量方法如下所述进行。首先,测量曝光部分电势(V1充电后在全表面曝光存在下,在电子照相感光构件曝光后在第一圈处的电势)。接着,然后测量预曝光后电势(Vr仅在电子照相感光构件的第一圈处充电存在下,没有图像曝光而预曝光后,在第一圈(充电后第二圈)处的电势)。随后,重复充电/全表面图像曝光/预曝光的循环1,000次(1K循环)。此后,再次测量预曝光后电势(在表中,由Vr(1K)表示)。
这些结果示于表1中。
(实施例(A-2)至(A-6)) 除了将在实施例(A-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(A-A)用表1中表示的聚合物代替之外,以与实施例(A-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
(实施例(A-7)) 除了在实施例(A-2)中的以下改变之外,以与实施例(A-2)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
将电荷输送层的粘结剂树脂,即,由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂,用具有由下式(P-2)表示的重复结构单元的多芳基化物树脂(重均分子量(Mw)120,000)代替。

顺便提及,在上述多芳基化物树脂中对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构之间的摩尔比(对苯二甲酸结构:间苯二甲酸结构)为50:50。
(实施例(A-8)) 除了将在实施例(A-7)中作为电荷产生层的电荷产生物质的氢氧化镓酞菁用如下氧化钛酞菁(TiOPc)代替之外,以与实施例(A-7)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有强峰的TiOPc。
(实施例(A-9)和(A-110)) 除了将在实施例(A-7)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(A-B)用表1中表示的聚合物代替之外,以与实施例(A-7)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
(实施例(A-11)) 除了将在实施例(A-9)中电荷输送层用涂布液中使用的由上式(CTM-1)表示的电荷输送物质用由下式(CTM-2)表示的电荷输送物质和由下式(CTM-3)表示的电荷输送物质代替之外,以与实施例(A-10)类似的方式制备和评价电子照相感光构件
其中,使用5份的各电荷输送物质。结果示于表1中。
(比较例(A-1)) 除了聚合物(A-B)不包含在实施例(A-2)中的电荷输送层用涂布液中之外,以与实施例(A-2)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
(比较例(A-2)) 除了将在实施例(A-2)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(A-B)用2,6-二叔丁基对甲酚(BHT)代替之外,以与实施例(A-2)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
(比较例(A-3)) 除了将在实施例(A-2)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(A-B)用生产例(A-7)中生产的聚合物(A-G)代替之外,以与实施例(A-2)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
(比较例(A-4)) 除了将在实施例(A-2)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(A-B)用化合物(商品名Alon GF300,由Toagosei Co.,Ltd.制造)代替之外,以与实施例(A-2)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表1中。
表1
如从上述结果显而易见的,将本发明的实施例A-1至A-11与比较例A-1和A-2彼此比较,由此发现以下事实。通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的结构组分来生产电子照相感光构件,能够防止在初期阶段刮板卷曲。结果,能够提供避免此问题的电子照相感光构件。
另外,通过使本发明的实施例A-1至A-11与比较例A-3彼此比较,在具有本发明重复单元的化合物中的分支结构显示优异的电子照相特性中的重复性。
此外,将本发明的实施例A-1至A-11与比较例A-4彼此比较,由此发现以下事实。电子照相感光构件通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的结构组分来生产。结果,该构件比使用比较例4的化合物的情况下的电子照相特性中的重复性更优异。
(合成例(B-1)由上式(3-2-2)表示的化合物的合成) 将由下式(B-e-1)表示的碘化材料(0.5份)和离子交换水(20份)装入脱气高压釜中,然后加热至300℃,以在9.2MPa的表压下进行碘向羟基的转化反应4小时。

反应结束后,将乙醚(20份)添加至反应混合物中。将该混合物分离成两相后,将硫酸镁(0.2份)放入醚相中,然后通过过滤除去硫酸镁,从而获得羟基化合物。将该羟基化合物经过柱色谱,以分离并除去除主要组分之外的组分。随后,将100份预先获得的羟基化合物、50份丙烯酸、5份氢醌、5份对甲苯磺酸和200份甲苯引入装配有搅拌器、冷凝器和温度计的玻璃烧瓶中。接着,将该烧瓶加热至110℃,然后继续反应,直至原料,羟基化合物消失。反应完成后,将该混合物用200份甲苯稀释,用氢氧化钠水溶液洗涤两次,然后用离子交换水洗涤三次。随后,在减压下蒸馏除去甲苯,从而获得产物。将所得产物通过1H-NMR和19F-NMR鉴别。作为通过气相色谱法定量分析产物的结果,发现由上式(3-3-2)表示的化合物为主要组分。
(合成例(B-2)由上式(3-3-6)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(B-e-2)表示的碘化材料代替合成例(B-1)中记载的由上式(B-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(B-1)相同的反应获得含有由上式(3-3-6)表示的化合物为主要组分的产物。

(合成例(B-3)) 除了使用由下式(B-f-1)表示的碘化材料代替合成例(B-1)中记载的由上式(B-e-1)表示的碘化材料之外,以与合成例(B-1)类似的方式进行反应。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) 从而,获得其中由下式(B-f)表示的化合物为主要组分的产物。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) (生产例(B-1)聚合物(B-A)的生产) 在装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,放入10份甲基丙烯酸甲酯(以下,简写为MMA)和0.3份丙酮(17.5%)-甲苯混合物溶剂。随后,将氮气引入烧瓶中,然后添加0.5份偶氮二异丁腈(以下,简写为AIBN)作为聚合引发剂和0.32份巯基乙酸作为链转移剂,以在回流下引发聚合。在引发后4.5小时的时间期间,连续滴加90份MMA。另外,将2.08份巯基乙酸溶解于7份甲苯中,然后分九次每30分钟加入一次。同样地,将AIBN(1.5份)分三次每1.5小时加入一次,以进行聚合。随后,将该混合物另外回流两小时,从而终止聚合。获得上式(g)的聚合物溶液。反应温度为77至87℃。将部分反应溶液使用正己烷再沉淀,然后干燥,随后作为测量酸值的结果,获得0.34mg当量/g的酸值。重复单元的平均重复数为约80。
接着,将部分丙酮从上述反应溶液中蒸馏除去,然后添加0.5%的三乙胺作为催化剂和200ppm氢醌单甲醚作为聚合抑制剂。此外,相对于聚合物的酸值,添加1.2倍摩尔过量的甲基丙烯酸缩水甘油酯。随后,反应溶液在回流下(约110℃)反应11小时。将该反应溶液添加至10体积的正己烷中,然后沉淀,随后在80℃下在减压下干燥。结果,获得90份由上式(d-1)表示的化合物。
接着,将以下材料放入装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,然后引入氮气,随后在回流下(加热至约100℃)反应5小时。70份由上式(d-1)表示的化合物。30份其中在合成例(B-1)中获得的由上式(3-2-2)表示的化合物为主要组分的产物。270份三氟甲苯。AIBN(0.35份)。将该反应溶液引入10体积的甲醇中,并沉淀,然后在80℃下在减压下干燥。从而,获得具有由上式(1-3-2)表示的重复结构单元的聚合物(B-A重均分子量(Mw)24,000)。
(生产例(B-2)聚合物(B-B)的生产) 除了将由上式(3-3-2)表示的化合物用其中在合成例(B-2)中获得的由上式(3-3-6)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(B-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-3-6)表示的重复结构单元的聚合物(B-B重均分子量23,000)。
(生产例(B-3)聚合物(B-C)的生产) (比较例) 除了将由上式(3-3-2)表示的化合物用其中在合成例(B-3)中获得的由上式(B-f)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(B-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由下式(B-f-2)表示的重复结构单元的聚合物(B-C重均分子量21,000)。

(在上式中,7表示重复单元的重复数)。
(实施例(B-1)) 使用的导电性支承体为在温度23℃和湿度60%RH的环境下通过热挤出获得的具有长度260.5mm和直径30mm的铝圆筒(JIS-A3003,铝合金ED管,由Showa Aluminum Corporation制造)。
将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨机分散3小时,从而制备分散液。用氧缺陷型的SnO2覆盖的TiO2颗粒作为导电性颗粒(粉体电阻率80Ω·cm,SnO2覆盖率(质量比)50%),6.6份。酚醛树脂(商品名Plyophen J-325,由Dainippon Ink &Chemicals,Incorporated制造。60%树脂固体)作为树脂粘结剂,5.5份。甲氧基丙醇作为溶剂,5.9份。
将以下材料添加至分散液中,并将全体搅拌,从而制备导电层用涂布液。硅酮树脂颗粒(商品名Tospal 120,由GEToshiba Silicones制造;平均粒径2μm)作为表面粗糙度赋予剂,0.5份。硅油(商品名SH28PA,由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)作为流平剂,0.001份。
将支承体用导电层用涂布液浸涂,并将全体在140℃的温度下干燥30分钟以热固化,从而在距支承体上侧130mm的位置处形成平均膜厚度为15μm的导电层。
将导电层用以下中间层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.5μm的中间层。中间层用涂布液通过如下制备在65份甲醇和30份正丁醇的混合物溶剂中,溶解N-甲氧基甲基化尼龙(商品名Toresin EF-30T,由Teikoku ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造),4份,和共聚物尼龙树脂(AmilanCM8000,由Toray Co.,Ltd.制造),2份。
随后,将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨装置分散1小时。接着,将250份乙酸乙酯添加至该混合物,从而制备电荷产生层用涂布液。结晶形式的氢氧化镓酞菁,其在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰,10份。聚乙烯醇缩丁醛(商品名S-LEX BX-1,由Sekisui Chemical,Co.,Ltd.制造),5份。环己酮,250份。
将中间层用电荷产生层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.16μm的电荷产生层。
接着,将以下材料溶解于30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合物溶剂中,从而制备含电荷输送物质的涂布液。具有由上式(CTM-1)表示的结构的电荷输送物质,10份。由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂(Iupilon Z-400,由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)[粘度平均分子量(Mv)39,000]作为粘结剂树脂,10份。在生产例(B-1)中生产的聚合物(B-A0.2份)。
将电荷产生层用如此制备的电荷输送层用涂布液浸涂,然后将全体在120℃的温度下干燥30分钟。从而,形成在距支承体上端130mm的位置处具有17μm平均膜厚度的电荷输送层。
以此方式,制备具有设置为表面层的电荷输送层电子照相感光构件。
评价如此制备的电子照相感光构件的初期刮板卷曲*1和电子照相特性*2。结果示于表2中。
*1初期刮板卷曲的评价方法 将如此制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和该主体的处理盒放置在温度35℃和湿度80%RH的环境下15小时。此后,在该环境下,将如此制备的电子照相感光构件安装到处理盒上,随后连续输出20张实白图像。在打印期间,观察是否发生清洁刮板的卷曲问题(评价在四个位置进行(制备四个新的电子照相感光构件和四个新的处理盒用于各颜色),当即使仅一次卷曲问题发生时,在表2中记为“F”,或当没有问题发生时,记为“A”)。
*2电子照相特性的评价方法 将制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和用于测量表面电势的工具放置在具有温度25℃和湿度50%RH(常温和常湿)环境下15小时。此外,用于测量表面电势的工具为在LBP-2510处理盒的显影辊位置上,用于设置电子照相感光构件的表面电势测量用的探针的那些(除去调色剂、显影辊和清洁刮板)。此后,在相同环境下,将用于测量电子照相感光构件的表面电势的工具连接至构件上,然后在除去用于静电图像转印的带单元的条件下,不供纸来测量电子照相感光构件的表面电势。顺便提及,将用于测量表面电势的工具安装到主体中青色处理盒位置上,然后进行测量。
电势测量方法如下所述进行。首先,测量曝光部分电势(V1充电后在具有全表面曝光的电子照相感光构件曝光后在第一圈处的电势)。接着,然后测量预曝光后电势(Vr仅在电子照相感光构件的第一圈处充电,没有图像曝光而预曝光后,在第一圈(充电后第二圈)处的电势)。随后,重复充电/全表面图像曝光/预曝光的循环1,000次(1K循环)。此后,再次测量预曝光后电势(在表中,由Vr(1K)表示)。
这些结果示于表2中。
(实施例(B-2)) 除了将在实施例(B-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(B-A)用在生产例(B-2)中生产的聚合物(B-B)代替之外,以与实施例(B-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。
(实施例(B-3)) 除了在实施例(B-1)中的以下改变,以与实施例(B-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。
将电荷输送层的粘结剂树脂,即,由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂,用具有由上式(P-2)表示的重复结构单元的多芳基化物树脂(重均分子量(Mw)120,000)代替。
顺便提及,在上述多芳基化物树脂中对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构之间的摩尔比(对苯二甲酸结构:间苯二甲酸结构)为50:50。
(实施例(B-4)) 除了将在实施例(B-3)中作为电荷产生层的电荷产生物质的氢氧化镓酞菁用如下氧化钛酞菁(TiOPc)代替之外,以与实施例(B-3)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有强峰的TiOPc。
(实施例(B-5)) 除了将在实施例(B-4)中电荷输送层用涂布液中使用的由上式(CTM-1)表示的电荷输送物质用由上式(CTM-2)表示的电荷输送物质和由上式(CTM-3)表示的电荷输送物质代替之外,以与实施例(B-4)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。使用5份的各电荷输送物质。结果示于表2中。
(比较例(B-1)) 除了聚合物(B-A)不包括在实施例(B-1)的电荷输送层用涂布液中之外,以与实施例(B-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。
(比较例(B-2)) 除了将在实施例(B-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(B-A)用2,6-二叔丁基对甲酚(BHT)代替之外,以与实施例(B-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。
(比较例(B-3)) 除了将在实施例(B-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(B-A)用在生产例(B-3)中生产的聚合物(B-E)代替之外,以与实施例(B-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。
(比较例(B-4)) 除了将在实施例(B-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(B-A)用化合物(商品名Alon GF300,由Toagosei Co.,Ltd.制造)代替之外,以与实施例(B-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表2中。
表2
如从上述结果显而易见的,将本发明的实施例(B-1)至(B-5)与比较例(B-1)和(B-2)彼此比较,从而发现以下事实。通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产电子照相感光构件,能够防止在初期阶段刮板卷曲。结果,能够提供避免此问题的电子照相感光构件。
另外,通过将本发明的实施例(B-1)至(B-5)与比较例(B-3)彼此比较,具有本发明重复单元的化合物显示优异的电子照相特性中的重复性。
此外,将本发明的实施例(B-1)至(B-5)与比较例(B-4)彼此比较,由此发现以下事实。电子照相感光构件通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产。结果,该构件比使用比较例4的化合物的情况下的电子照相特性中的重复性更优异。
(合成例(C-1)由上式(3-4-1)表示的化合物的合成) 将由下式(C-e-1)表示的碘化材料(0.5份)和离子交换水(20份)装入脱气高压釜中,然后加热至300℃,以在9.2MPa的表压下进行碘向羟基的转化反应4小时。

反应结束后,将乙醚(20份)加入反应混合物中。将该混合物分离成两相后,将硫酸镁(0.2份)放入醚相中,然后通过过滤除去硫酸镁,从而获得羟基化合物。将该羟基化合物经过柱色谱,以分离并除去除主要组分之外的组分。随后,将100份预先获得的羟基化合物、50份丙烯酸、5份氢醌、5份对甲苯磺酸和200份甲苯引入装配有搅拌器、冷凝器和温度计的玻璃烧瓶中。接着,将该烧瓶加热至110℃,然后继续反应,直至原料,羟基化合物消失。反应完成后,将该混合物用200份甲苯稀释,用氢氧化钠水溶液洗涤两次,然后用离子交换水洗涤三次。随后,在减压下蒸馏除去甲苯,从而获得产物。将所得产物通过1H-NMR和19F-NMR鉴别。作为通过气相色谱法定量分析产物的结果,发现由上式(3-4-1)表示的化合物是主要组分。
(合成例(C-2)由上式(3-4-3)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(C-e-2)表示的碘化材料代替合成例(C-1)中记载的由上式(C-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(C-1)相同的反应获得含有由上式(3-4-3)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(C-3)由上式(3-4-6)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(C-e-3)表示的碘化材料代替合成例(C-1)中记载的由上式(C-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(C-1)相同的反应获得含有由上式(3-4-6)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(C-4)) 除了使用由下式(C-f-1)表示的碘化材料代替合成例(C-1)中记载的由上式(C-e-1)表示的碘化材料之外,以与合成例(C-1)类似的方式进行反应。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) 从而,获得其中由下式(C-f)表示的化合物为主要组分的产物。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) (生产例(C-1)聚合物(C-A)的生产) 在装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,放入10份甲基丙烯酸甲酯(以下,简写为MMA)和0.3份丙酮(17.5%)-甲苯混合物溶剂。随后,将氮气引入烧瓶中,然后添加0.5份偶氮二异丁腈(以下,简写为AIBN)作为聚合引发剂和0.32份巯基乙酸作为链转移剂,以在回流下引发聚合。在引发后4.5小时的时间期间,连续滴加90份MMA。另外,将2.08份巯基乙酸溶解于7份甲苯中,然后分九次每30分钟加入一次。同样地,将AIBN(1.5份)分三次每1.5小时加入一次,以进行聚合。随后,将该混合物另外回流两小时,从而终止聚合。获得上式(g)的聚合物溶液。反应温度为77至87℃。将部分反应溶液用正己烷再沉淀,然后干燥,随后作为测量酸值的结果,获得0.34mg当量/g的酸值。重复单元的平均重复数为约80。
接着,将部分丙酮从上述反应溶液中蒸馏除去,随后添加0.5%的三乙胺作为催化剂和200ppm氢醌单甲醚作为聚合抑制剂。另外,相对于聚合物的酸值,添加1.2倍摩尔过量的甲基丙烯酸缩水甘油酯。随后,使反应溶液在回流下(约110℃)反应11小时。将该反应溶液添加至10体积的正己烷中,然后沉淀,随后在80℃下在减压下干燥。结果,获得90份由上式(d-1)表示的化合物。
接着,将以下材料放入装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,然后引入氮气,随后在回流下(加热至约100℃)反应5小时。70份由上式(d-1)表示的化合物。30份其中在合成例(C-1)中获得的由上式(3-4-1)表示的化合物为主要组分的产物。270份三氟甲苯。AIBN(0.35份)。将该反应溶液引入10体积的甲醇中,并沉淀,然后在80℃下在减压下干燥。从而,获得具有由上式(1-4-1)表示的重复结构单元的聚合物(C-A重均分子量(Mw)21,000)。
以与如上所述测量方法类似的方式测定该聚合物的重均分子量。
(生产例(C-2)聚合物(C-B)的生产) 除了将由上式(3-4-1)表示的化合物用其中在合成例(C-2)中获得的由上式(3-4-3)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(C-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-4-3)表示的重复结构单元的聚合物(C-B重均分子量(Mw)=20,000)。
(生产例(C-3)聚合物(C-C)的生产) 除了将由上式(3-4-1)表示的化合物用其中在合成例(C-3)中获得的由上式(3-4-6)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(C-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-4-6)表示的重复结构单元的聚合物(C-C重均分子量(Mw)=23,000)。
(生产例(C-4)聚合物(C-D)的生产) (比较例) 除了将由上式(3-4-1)表示的化合物用其中在合成例(C-4)中获得的由上式(C-f)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(C-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由下式(C-f-2)表示的重复结构单元的聚合物(C-D重均分子量(Mw)=21,000)。

(在上式中,7表示重复单元的重复数)。
(实施例C-1) 使用的导电性支承体为在具有温度23℃和湿度60%RH的环境下通过热挤出获得的具有长度260.5mm和直径30mm的铝圆筒(JIS-A3003,铝合金ED管,由Showa Aluminum Corporation制造)。
将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨机分散3小时,从而制备分散液。用氧缺陷型的SnO2覆盖的TiO2颗粒作为导电性颗粒(粉体电阻率80Ω·cm,SnO2覆盖率(质量比)50%),6.6份。酚醛树脂(商品名Plyophen J-325,由Daini ppon Ink &Chemicals,Incorporated制造。60%树脂固体)作为树脂粘结剂,5.5份。甲氧基丙醇作为溶剂,5.9份。
将以下材料添加至分散液中,并将全体搅拌,从而制备导电层用涂布液。硅酮树脂颗粒(商品名Tospal 120,由GEToshiba Silicones制造;平均粒径2μm)作为表面粗糙度赋予剂,0.5份。硅油(商品名SH28PA,由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)作为流平剂,0.001份。
将支承体用导电层用涂布液浸涂,并将全体在140℃温度下干燥30分钟以热固化,从而在距支承体上侧130mm的位置处形成平均膜厚度为15μm的导电层。
将导电层用以下中间层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.5μm的中间层。中间层用涂布液通过如下制备在65份甲醇和30份正丁醇的混合物溶剂中,溶解N-甲氧基甲基化尼龙(商品名Toresin EF-30T,由Teikoku ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造),4份,和共聚物尼龙树脂(AmilanCM8000,由Toray Co.,Ltd.制造),2份。
随后,将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨装置分散1小时。接着,将250份乙酸乙酯添加至该混合物中,从而制备电荷产生层用涂布液。结晶形式的氢氧化镓酞菁,其在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰,10份。聚乙烯醇缩丁醛(商品名S-LEX BX-1,由Sekisui Chemical,Co.,Ltd.制造),5份。环己酮,250份。
将中间层用电荷产生层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.16μm的电荷产生层。
接着,将以下材料溶解于30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合物溶剂中,从而制备含电荷输送物质的涂布液。具有由上式(CTM-1)表示的结构的电荷输送物质,10份。由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂(Iupilon Z-400,由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)[粘度平均分子量(Mv)39,000]作为粘结剂树脂,10份。在生产例(C-1)中生产的聚合物(C-A0.2份)。
将电荷产生层用如此制备的电荷输送层用涂布液浸涂,然后将全体在120℃的温度下干燥30分钟。从而,形成在距支承体上端130mm位置处具有17μm平均膜厚度的电荷输送层。
从而,制备其中将电荷输送层设置为表面层的电子照相感光构件。
评价如此制备的电子照相感光构件的初期刮板卷曲*1和电子照相特性*2。结果示于表3中。
*1初期刮板卷曲的评价方法 将如此制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和该主体的处理盒放置在温度35℃和湿度80%RH的环境下15小时。此后,在该环境下,将如此制备的电子照相感光构件安装到处理盒上,随后连续输出20张实白图像。在打印期间,观察是否发生清洁刮板的卷曲问题(评价在四个位置进行(制备四个新的电子照相感光构件和四个新的处理盒用于各颜色),当即使仅一次卷曲问题发生时,在表3中记为“F”,或当没有问题发生时,记为“A”)。
*2电子照相特性的评价方法 将制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和用于测量表面电势的工具放置在具有温度25℃和湿度50%RH(常温和常湿)环境下15小时。此外,用于测量表面电势的工具为在LBP-2510处理盒的显影辊位置上,用于设置电子照相感光构件的表面电势测量用的探针的那些(除去调色剂、显影辊和清洁刮板)。此后,在相同环境下,将用于测量电子照相感光构件的表面电势的工具连接至构件上,然后在除去用于静电图像转印的带单元的条件下,不供纸来测量电子照相感光构件的表面电势。顺便提及,将用于测量表面电势的工具安装到主体中青色处理盒位置上,然后进行测量。
电势测量方法如下所述进行。首先,测量曝光部分电势(V1充电后在具有全表面曝光的电子照相感光构件曝光后在第一圈处的电势)。接着,然后测量预曝光后电势(Vr仅在电子照相感光构件的第一圈处充电,没有图像曝光而预曝光后,在第一圈(充电后第二圈)处的电势)。随后,重复充电/全表面图像曝光/预曝光的循环1,000次(1K循环)。此后,再次测量预曝光后电势(在表中,由Vr(1K)表示)。
这些结果示于表3中。
(实施例(C-2)) 除了将在实施例(C-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(C-A)用在生产例(C-2)中生产的聚合物(C-B)代替之外,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
(实施例(C-3)) 除了将在实施例(C-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(C-A)用在生产例(C-3)中生产的聚合物(C-C)代替之外,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
(实施例(C-4)) 除了在实施例(C-1)中的以下改变,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
将电荷输送层的粘结剂树脂,即,由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂,用具有由上式(P-2)表示的重复结构单元的多芳基化物树脂(重均分子量(Mw)120,000)代替。
顺便提及,在上述多芳基化物树脂中对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构之间的摩尔比(对苯二甲酸结构:间苯二甲酸结构)为50:50。
(实施例(C-5)) 除了将在实施例(C-4)中作为电荷产生层的电荷产生物质的氢氧化镓酞菁用如下氧化钛酞菁(TiOPc)代替之外,以与实施例(C-4)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有强峰的TiOPc。
(实施例(C-6)) 除了将在实施例(C-5)中电荷输送层用涂布液中使用的由上式(CTM-1)表示的电荷输送物质用由上式(CTM-2)表示的电荷输送物质和由上式(CTM-3)表示的电荷输送物质代替之外,以与实施例(C-5)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。使用5份的各电荷输送物质。结果示于表3中。
(比较例(C-1)) 除了聚合物(C-A)不包括在实施例(C-1)的电荷输送层用涂布液中之外,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
(比较例(C-2)) 除了将在实施例(C-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(C-A)用2,6-二叔丁基对甲酚(BHT)代替之外,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
(比较例(C-3)) 除了将在实施例(C-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(C-A)用在生产例(C-4)中生产的聚合物(C-D)代替之外,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
(比较例(C-4)) 除了将在实施例(C-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(C-A)用化合物(商品名Alon GF300,由Toagosei Co.,Ltd.制造)代替之外,以与实施例(C-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表3中。
表3
如从上述结果显而易见的,将本发明的实施例(C-1)至(C-6)与比较例(C-1)和(C-2)彼此比较,由此发现以下事实。通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产电子照相感光构件,能够防止在初期阶段刮板卷曲。结果,能够提供避免此问题的电子照相感光构件。
另外,通过将本发明的实施例(C-1)至(C-6)与比较例(C-3)彼此比较,具有本发明重复单元的化合物显示优异的电子照相特性中的重复性。
此外,将本发明的实施例(C-1)至(C-6)与比较例(C-4)彼此比较,由此发现以下事实。电子照相感光构件通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产。结果,该构件比使用比较例4的化合物的情况下的电子照相特性中的重复性更优异。
(合成例(D-1)由上式(3-5-2)表示的化合物的合成) 将由下式(D-e-1)表示的碘化材料(0.5份)和离子交换水(20份)装入脱气高压釜中,然后加热至300℃,以在9.2MPa的表压下进行碘向羟基的转化反应4小时。

反应结束后,将乙醚(20份)添加至反应混合物中。将该混合物分离成两相后,将硫酸镁(0.2份)放入醚相中,然后通过过滤除去硫酸镁,从而获得羟基化合物。将该羟基化合物经过柱色谱,以分离并除去除主要组分之外的组分。随后,将100份预先获得的羟基化合物、50份丙烯酸、5份氢醌、5份对甲苯磺酸和200份甲苯引入装配有搅拌器、冷凝器和温度计的玻璃烧瓶中。接着,将该烧瓶加热至110℃,然后继续反应,直至原料,羟基化合物消失。反应完成后,将该混合物用200份甲苯稀释,用氢氧化钠水溶液洗涤两次,然后用离子交换水洗涤三次。随后,在减压下蒸馏除去甲苯,从而获得产物。将所得产物通过1H-NMR和19F-NMR鉴别。作为通过气相色谱法定量分析产物的结果,发现由上式(3-5-2)表示的化合物是主要组分。
(合成例(D-2)由上式(3-5-4)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(D-e-2)表示的碘化材料代替合成例(D-1)中记载的由上式(D-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(D-1)相同的反应获得含有由上式(3-5-4)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(D-3)由上式(3-5-5)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(D-e-3)表示的碘化材料代替合成例(D-1)中记载的由上式(D-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(D-1)相同的反应获得含有由上式(3-5-5)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(D-4)由上式(3-5-6)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(D-e-4)表示的碘化材料代替合成例(D-1)中记载的由上式(D-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(D-1)相同的反应获得含有由上式(3-5-6)表示的化合物作为主要组分的产物。

(合成例(D-5)) 除了使用由下式(D-f-1)表示的碘化材料代替合成例(D-1)中记载的由上式(D-e-1)表示的碘化材料之外,以与合成例(D-1)类似的方式进行反应。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) 从而,获得其中由下式(D-f)表示的化合物为主要组分的产物。

(在上式中,7表示重复单元的重复数) (生产例(D-1)聚合物(D-A)的生产) 在装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,放入10份甲基丙烯酸甲酯(以下,简写为MMA)和0.3份丙酮(17.5%)-甲苯混合物溶剂。随后,将氮气引入烧瓶中,然后添加0.5份偶氮二异丁腈(以下,简写为AIBN)作为聚合引发剂和0.32份巯基乙酸作为链转移剂,以在回流下引发聚合。在引发后4.5小时的时间期间,连续滴加90份MMA。另外,将2.08份巯基乙酸溶解于7份甲苯中,然后分九次每30分钟加入一次。同样地,将AIBN(1.5份)分三次每1.5小时加入一次,以进行聚合。随后,将该混合物另外回流两小时,从而终止聚合。获得上式(g)的聚合物溶液。反应温度为77至87℃。将部分反应溶液用正己烷再沉淀,然后干燥,随后作为测量酸值的结果,获得0.34mg当量/g的酸值。重复单元的平均重复数为约80。
接着,将部分丙酮从上述反应溶液中蒸馏除去,然后添加0.5%的三乙胺作为催化剂和200ppm氢醌单甲醚作为聚合抑制剂。此外,相对于聚合物的酸值,添加1.2倍摩尔过量的甲基丙烯酸缩水甘油酯。随后,使反应溶液在回流下(约110℃)反应11小时。将该反应溶液添加至10体积的正己烷中,然后沉淀,随后在80℃下在减压下干燥。结果,获得90份由上式(d-1)表示的化合物。
接着,将以下材料放入装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,然后引入氮气,随后在回流下(加热至约100℃)反应5小时。70份由上式(d-1)表示的化合物。30份其中在合成例(D-1)中获得的由上式(3-5-2)表示的化合物为主要组分的产物。270份三氟甲苯。AIBN(0.35份)。将该反应溶液引入10体积的甲醇中,并沉淀,然后在80℃下在减压下干燥。从而,获得具有由上式(1-5-3)表示的重复结构单元的聚合物(D-A重均分子量(Mw)22,000)。
以与如上所述测量方法类似的方式测定该聚合物的重均分子量。
(生产例(D-2)聚合物(D-B)的生产) 除了将由上式(3-5-3)表示的化合物用其中在合成例(D-2)中获得的由上式(3-5-4)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(D-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-5-4)表示的重复结构单元的聚合物(D-B重均分子量23,000)。
(生产例(D-3)聚合物(D-C)的生产) 除了将由上式(3-5-3)表示的化合物用其中在合成例(D-3)中获得的由上式(3-5-5)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(D-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-5-5)表示的重复结构单元的聚合物(D-C重均分子量20,000)。
(生产例(D-4)聚合物(D-D)的生产) 除了将由上式(3-5-3)表示的化合物用其中在合成例(D-4)中获得的由上式(3-5-6)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(D-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由上式(1-5-6)表示的重复结构单元的聚合物(D-D重均分子量24,500)。
(生产例(D-5)聚合物(D-E)的生产) (比较例) 除了将由上式(3-3-2)表示的化合物用其中在合成例(D-5)中获得的由上式(D-f)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(D-1)相同的步骤进行反应和处理。从而,获得具有由下式(D-f-2)表示的重复结构单元的聚合物(D-E重均分子量21,000)。

(在上式中,7表示重复单元的重复数)。
(实施例D-1) 使用的导电性支承体为在具有温度23℃和湿度60%RH的环境下通过热挤出获得的具有长度260.5mm和直径30mm的铝圆筒(JIS-A3003,铝合金ED管,由Showa Aluminum Corporation制造)。
将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨机分散3小时,从而制备分散液。用氧缺陷型的SnO2覆盖的TiO2颗粒作为导电性颗粒(粉体电阻率80Ω·cm,SnO2覆盖率(质量比)50%),6.6份。酚醛树脂(商品名Plyophen J-325,由Dainippon Ink &Chemicals,Incorporated制造。60%树脂固体)作为树脂粘结剂,5.5份。甲氧基丙醇作为溶剂,5.9份。
将以下材料添加至分散液中,并将全体搅拌,从而制备导电层用涂布液。硅酮树脂颗粒(商品名Tospal 120,由GEToshiba Silicones制造;平均粒径2μm)作为表面粗糙度赋予剂,0.5份。硅油(商品名SH28PA,由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)作为流平剂,0.001份。
将支承体用导电层用涂布液浸涂,并将全体在140℃温度下干燥30分钟以热固化,从而在距支承体上侧130mm的位置处形成平均膜厚度为15μm的导电层。
将导电层用以下中间层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.5μm的中间层。中间层用涂布液通过如下制备在65份甲醇和30份正丁醇的混合物溶剂中,溶解N-甲氧基甲基化尼龙(商品名Toresin EF-30T,由Teikoku ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造),4份,和共聚物尼龙树脂(AmilanCM8000,由Toray Co.,Ltd.制造),2份。
随后,将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨装置分散1小时。接着,将250份乙酸乙酯添加至该混合物中,从而制备电荷产生层用涂布液。结晶形式的氢氧化镓酞菁,其在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰,10份。聚乙烯醇缩丁醛(商品名S-LEX BX-1,由Sekisui Chemical,Co.,Ltd.制造),5份。环己酮,250份。
将中间层用电荷产生层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.16μm的电荷产生层。
接着,将以下材料溶解于30份二甲氧基甲烷和70份氯苯的混合物溶剂中,从而制备含电荷输送物质的涂布液。具有由上式(CTM-1)表示的结构的电荷输送物质,10份。由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂(Iupilon Z-400,由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)[粘度平均分子量(Mv)39,000]作为粘结剂树脂,10份。在生产例(D-1)中生产的聚合物(D-A0.2份)。
将电荷产生层用如此制备的电荷输送层用涂布液浸涂,然后将全体在120℃的温度下干燥30分钟。从而,形成在距支承体上端130mm的位置处具有17μm平均膜厚度的电荷输送层。
从而,制备其中将电荷输送层设置为表面层的电子照相感光构件。
评价如此制备的电子照相感光构件的初期刮板卷曲*1和电子照相特性*2。结果示于表4中。
*1初期刮板卷曲的评价方法 将如此制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和该主体的处理盒放置在温度35℃和湿度80%RH的环境下15小时。此后,在该环境下,将如此制备的电子照相感光构件安装到处理盒上,随后连续输出20张实白图像。在打印期间,观察是否发生清洁刮板的卷曲问题(评价在四个位置进行(制备四个新的电子照相感光构件和四个新的处理盒用于各颜色),当即使仅一次卷曲问题发生时,在表4中记为“F”,或当完全没有问题发生时,记为“A”)。
*2电子照相特性的评价方法 将制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和用于测量表面电势的工具放置在具有温度25℃和湿度50%RH(常温和常湿)环境下15小时。此外,用于测量表面电势的工具为在LBP-2510处理盒的显影辊位置上,用于设置电子照相感光构件的表面电势测量用的探针的那些(除去调色剂、显影辊和清洁刮板)。此后,在相同环境下,将用于测量电子照相感光构件的表面电势的工具连接至构件上,然后在除去用于静电图像转印的带单元的条件下,不供纸来测量电子照相感光构件的表面电势。顺便提及,将用于测量表面电势的工具安装到主体中青色处理盒位置上,然后进行测量。
电势测量方法如下所述进行。首先,测量曝光部分电势(V1充电后在具有全表面曝光的电子照相感光构件曝光后在第一圈处的电势)。接着,然后测量预曝光后电势(Vr仅在电子照相感光构件的第一圈处充电,没有图像曝光而预曝光后,在第一圈(充电后第二圈)处的电势)。随后,重复充电/全表面图像曝光/预曝光的循环1,000次(1K循环)。此后,再次测量预曝光后电势(在表中,由Vr(1K)表示)。
这些结果示于表4中。
(实施例(D-2)) 除了将在实施例(D-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(D-A)用在生产例(D-2)中生产的聚合物(D-B)代替之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
(实施例(D-3)) 除了将在实施例(D-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(D-A)用在生产例(D-3)中生产的聚合物(D-C)代替之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
(实施例(D-4)) 除了将在实施例(D-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(D-A)用在生产例(D-4)中生产的聚合物(D-D)代替之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
(实施例(D-5)) 除了在实施例(D-1)中的以下改变,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
将电荷输送层的粘结剂树脂,即,由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂,用具有由上式(P-2)表示的重复结构单元的多芳基化物树脂(重均分子量(Mw)120,000)代替。
顺便提及,在上述多芳基化物树脂中对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构之间的摩尔比(对苯二甲酸结构:间苯二甲酸结构)为50:50。
(实施例(D-6)) 除了将在实施例(D-5)中作为电荷产生层的电荷产生物质的氢氧化镓酞菁用如下氧化钛酞菁(TiOPc)代替之外,以与实施例(D-5)相同的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为9.0°、14.2°、23.9°和27.1°处具有强峰的TiOPc。
(实施例(D-7)) 除了将在实施例(D-6)中电荷输送层用涂布液中使用的由上式(CTM-1)表示的电荷输送物质用由上式(CTM-2)表示的电荷输送物质和由上式(CTM-3)表示的电荷输送物质代替之外,以与实施例(D-6)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。使用5份的各电荷输送物质。结果示于表4中。
(比较例(D-1)) 除了聚合物(D-A)不包含在实施例(D-1)的电荷输送层用涂布液中之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
(比较例(D-2)) 除了将在实施例(D-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(D-A)用2,6-二叔丁基对甲酚(BHT)代替之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
(比较例(D-3)) 除了将在实施例(D-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(D-A)用在生产例(D-5)中生产的聚合物(D-E)代替之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
(比较例(D-4)) 除了将在实施例(D-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(D-A)用化合物(商品名Alon GF300,由Toagosei Co.,Ltd.制造)代替之外,以与实施例(D-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表4中。
表4
如从上述结果显而易见的,将本发明的实施例(D-1)至(D-7)与比较例(D-1)和(D-2)彼此比较,由此发现以下事实。通过使用具有根据本发明的重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产电子照相感光构件,能够防止在初期阶段刮板卷曲。结果,能够提供避免此问题的电子照相感光构件。
另外,将本发明的实施例(D-1)至(D-7)与比较例(D-3)彼此比较,其中具有氟原子的烷基和具有氟原子的亚烷基通过氧彼此结合的结构,或其中具有氟原子的烷基和具有氟原子的亚烷基通过在具有根据本发明重复单元的化合物中的氧彼此结合的结构,显示优异的电子照相特性中的重复性。
此外,将本发明的实施例(D-1)至(D-7)与比较例(D-4)彼此比较,由此发现以下事实。电子照相感光构件通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的结构组分来生产。结果,该构件比使用比较例4的化合物的情况下的电子照相特性中的重复性更优异。
(合成例(E-1)由上式(3-6-2)表示的化合物的合成) 将0.5份由下式(E-e-1)表示的碘化材料和20份离子交换水加入脱气高压釜中,然后将高压釜内部加热至300℃,以在9.2MPa的表压下进行碘向羟基的转化反应4小时。
F3C——CF2—CF2—CF2—CH2—CH2—I(E-e-1) 反应结束后,将20份乙醚加入反应混合物中。将该混合物分离成两相后,将0.2份硫酸镁放入醚相中,然后通过过滤除去硫酸镁,从而获得上式(E-e-1)的羟基化合物。将该羟基化合物经过柱色谱,以分离并除去除主要组分之外的组分,由此获得该羟基化合物。随后,将100份羟基化合物、50份丙烯酸、5份氢醌、5份对甲苯磺酸和200份甲苯引入装配有搅拌器、冷凝器和温度计的玻璃烧瓶中。之后,将该玻璃烧瓶加热至110℃,然后继续反应,直至原料,羟基化合物消失。反应完成后,将该混合物用200份甲苯稀释,用氢氧化钠水溶液洗涤两次,然后用离子交换水洗涤三次。随后,在减压下蒸馏除去甲苯,从而获得产物。将所得产物通过1H-NMR和19F-NMR鉴别。作为通过气相色谱法定量分析产物的结果,发现产物的主要组分为由上式(3-6-2)表示的化合物。
(合成例(E-2)由上式(3-6-3)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(E-e-2)表示的碘化材料代替在合成例(E-1)中记载的由上式(E-e-1)表示的碘化合物之外,通过进行与合成例(E-1)相同的反应获得含有由上式(3-6-3)表示的化合物作为主要组分的产物。
F3C——CF2—CF2—CF2—CH2-CH2-CH2—I(E-e-2) (合成例(E-3)由上式(3-6-10)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(E-e-3)表示的碘化材料代替在合成例(E-1)中记载的由上式(E-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(E-1)相同的反应获得含有由上式(3-6-10)表示的化合物作为主要组分的产物。
F3C-CF2—CF2—CF2—CF2—CF2—CH2—CH2—I(E-e-3) (合成例(E-4)由上式(3-6-11)表示的化合物的合成) 除了使用由下式(E-e-4)表示的碘化材料代替在合成例(E-1)中记载的由上式(E-e-1)表示的碘化材料之外,通过进行与合成例(E-1)相同的反应获得含有由上式(3-6-11)表示的化合物作为主要组分的产物。
F3C-CF2—CF2—CF2—CF2—CF2—CH2—CH2—CH2—I (E-e-4) (合成例(E-5)) 代替在合成例(E-1)中记载的由上式(E-e-1)表示的碘化材料,使用由下式(E-f-1-a)表示的碘化材料,并以与合成例(E-1)类似的方式反应。

(在上式中,7表示取代基-CF2-的重复单元的重复数)。
结果,获得具有由下式(E-f-1)表示的化合物作为主要组分的产物。

(在上式中,7表示取代基-CF2-的重复单元的重复数) (合成例(E-6)) 代替合成例(E-1)中记载的由上式(E-e-1)表示的碘化材料,使用由下式(E-f-2-a)表示的碘化材料,并以与合成例(E-1)类似的方式反应。

(在该式中,9表示取代基-CF2-的重复单元的重复数)。
结果,获得具有由下式(E-f-2)表示的化合物作为主要组分的产物。

(在该式中,9表示取代基-CF2-的重复单元的重复数) (合成例(E-7)) 代替合成例(E-1)中记载的由上式(E-e-1)表示的碘化材料,使用由下式(E-f-3-a)表示的碘化材料,并以与合成例(E-1)类似的方式反应。
F3C-CF2—CH2—CH2—I(E-f-3-a) 结果,获得具有由下式(E-f-3)表示的化合物作为主要组分的产物。

(生产例(E-1)聚合物(E-A)的生产) 在装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,引入10份甲基丙烯酸甲酯(以下,简写为MMA)和0.3份丙酮(17.5%)-甲苯混合物溶剂。随后,将氮气引入烧瓶中,然后添加0.5份2,2′-偶氮二异丁腈(以下,简写为AIBN)作为聚合引发剂和0.32份巯基乙酸作为链转移剂,以在回流下引发聚合。在引发后4.5小时的时间期间,连续滴加90份MMA。另外,将2.08份巯基乙酸溶解于7份甲苯中,然后分九次每30分钟加入一次。同样地,将1.5份AIBN分三次每1.5小时加入一次,以进行聚合。随后,将该混合物另外回流两小时,从而终止聚合,获得上式(g)的聚合物溶液。反应温度为77至87℃。
将部分反应溶液用正己烷再沉淀,然后干燥,随后作为测量酸值的结果,获得0.34mg当量/g的酸值。重复单元的平均重复数为约80。
接着,将部分丙酮从上述反应溶液中蒸馏除去,然后添加0.5%的三乙胺作为催化剂和200ppm氢醌单甲醚作为聚合抑制剂。此外,相对于聚合物的酸值,添加1.2倍摩尔过量的甲基丙烯酸缩水甘油酯。随后,使反应溶液在回流下(约110℃)反应11小时。将该反应溶液添加至10体积的正己烷中,然后沉淀,随后在80℃下在减压下干燥。结果,获得90份由上式(d-1)表示的化合物。
接着,在装配有搅拌器、回流冷凝器、滴液漏斗、温度计和鼓气口的玻璃烧瓶中,引入以下组分 由上式(d-1)表示的化合物,70份。
包含在合成例(E-1)中获得的,并由上式(3-6-2)表示的化合物作为主要组分的产物,30份。
三氟甲苯,270份。
AIBN,0.35份。
将氮气引入烧瓶中,然后使该混合物在回流下(加热至约100℃)反应5小时。将该反应溶液放入10体积的甲醇中,并沉淀,然后在80℃下在减压下干燥。从而,获得具有由上式(1-6-2)表示的重复结构单元的聚合物(E-A)。顺便提及,聚合物(E-A)的重均分子量为22,000。
以与上述测量方法类似的方式测定该聚合物的重均分子量。
(生产例(E-2)聚合物(E-B)的生产) 除了将由上式(3-6-2)表示的化合物用其中在合成例(E-2)中获得的由上式(3-6-3)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得具有由上式(1-6-3)表示的重复结构单元的聚合物(E-B)。顺便提及,聚合物(E-B)的重均分子量为20,000。
(生产例(E-3)聚合物(E-C)的生产) 除了将由上式(3-6-2)表示的化合物用其中在合成例(E-3)中获得的由上式(3-6-10)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得具有由上式(1-6-10)表示的重复结构单元的聚合物(E-C)。顺便提及,聚合物(E-C)的重均分子量为23,000。
(生产例(E-4)聚合物(E-D)的生产) 除了将由上式(3-6-2)表示的化合物用其中在合成例(E-4)中获得的由上式(3-6-11)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得具有由上式(1-6-11)表示的重复结构单元的聚合物(E-D)。顺便提及,聚合物(E-D)的重均分子量为22,600。
(生产例(E-5)聚合物(E-E)的生产) 除了使用以下各组分代替30份由上式(3-6-2)表示的化合物之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得聚合物(E-E)。聚合物(E-E)以70:30的摩尔比包括由上式(1-6-2)表示的重复结构单元和由上式(1-6-10)表示的重复结构单元。顺便提及,聚合物(E-E)的重均分子量为22,900。
包含在合成例(E-1)中获得的,并由上式(3-6-2)表示的化合物作为主要组分的产物,21份。
包含在合成例(E-3)中获得的,并由上式(3-6-10)表示的化合物作为主要组分的产物,9份。
(生产例(E-6)聚合物(E-F)的生产) 除了使用以下各组分代替30份由上式(3-6-2)表示的化合物之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得聚合物(E-F)。聚合物(E-F)以50:50的摩尔比包括由上式(1-6-2)表示的重复结构单元和由上式(1-6-10)表示的重复结构单元。顺便提及,聚合物(E-F)的重均分子量为24,000。
包含在合成例(E-1)中获得的,并由上式(3-6-2)表示的化合物作为主要组分的产物,15份。
包含在合成例(E-3)中获得的,并由上式(3-6-10)表示的化合物作为主要组分的产物,15份。
(生产例(E-7)聚合物(E-G)的生产) 除了使用以下各组分代替30份由上式(3-6-2)表示的化合物之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得聚合物(E-G)。聚合物(E-G)以30:70的摩尔比包括由上式(1-6-2)表示的重复结构单元和由上式(1-6-10)表示的重复结构单元。顺便提及,聚合物(E-G)的重均分子量为25,000。
包含在合成例(E-1)中获得的,并由上式(3-6-2)表示的化合物作为主要组分的产物,9份。
包含在合成例(E-3)中获得的,并由上式(3-6-10)表示的化合物作为主要组分的产物,21份。
(生产例(E-8)聚合物(E-H)的生产) 除了使用以下各组分代替30份由上式(3-6-2)表示的化合物之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行反应和处理,获得聚合物(E-H)。结果,聚合物(E-H)以3:67:30的摩尔比包括由下式(E-f-3-b)表示的重复结构单元、由上式(1-6-2)表示的重复结构单元,和由上式(1-6-10)表示的重复结构单元。

顺便提及,聚合物(E-H)的重均分子量为22,000。
包含在合成例(E-7)中获得的,并由上式(E-f-3)表示的化合物作为主要组分的产物,1份。
包含在合成例(E-1)中获得的,并由上式(3-6-2)表示的化合物作为主要组分的产物,20份。
包含在合成例(E-3)中获得的,并由上式(3-6-10)表示的化合物作为主要组分的产物,9份。
(生产例(E-9)聚合物(E-I)的生产) 除了使用以下各组分代替30份由上式(3-6-2)表示的化合物之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得聚合物(E-I)。结果,聚合物(E-I)以30:67:3的摩尔比包括由上式(1-6-2)表示的重复结构单元,由上式(1-6-10)表示的重复结构单元,和由下式(E-f-1-b)表示的重复结构单元
(在上式中,7表示取代基-CF2-的重复单元的重复数) 顺便提及,聚合物(E-I)的重均分子量为18,600。
包含在合成例(E-1)中获得的,并由上式(3-6-2)表示的化合物作为主要组分的产物,9份。
包含在合成例(E-3)中获得的,并由上式(3-6-10)表示的化合物作为主要组分的产物,20份。
包含在合成例(E-5)中获得的,并由上式(E-f-1)表示的化合物作为主要组分的产物,1份。
(生产例(E-10)聚合物(E-J)的生产)(比较例) 除了将由上式(3-6-2)表示的化合物用其中在合成例(E-5)中获得的由上式(E-f-1)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得具有由上式(E-f-1-b)表示的重复结构单元的聚合物(E-J)。顺便提及,聚合物(E-J)的重均分子量为24,000。
(生产例(E-11)聚合物(E-K)的生产)(比较例) 除了将由上式(3-6-2)表示的化合物用其中在合成例(E-6)中获得的由上式(E-f-2)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得聚合物(E-K)。结果,聚合物(E-K)具有由下式(E-f-2-b)表示的重复结构单元
(在上式中,9表示取代基-CF2-的重复单元的重复数)。
顺便提及,聚合物(E-K)的重均分子量为25,000。
(生产例(E-12)聚合物(E-L)的生产)(比较例) 除了将由上式(3-6-2)表示的化合物用其中在合成例(E-7)中获得的由上式(E-f-3)表示的化合物为主要组分的产物代替之外,通过与生产例(E-1)相同的步骤进行的反应和处理,获得具有由上式(E-f-3-b)表示的重复结构单元的聚合物(E-L)。顺便提及,聚合物(E-L)的重均分子量为21,700。
(实施例E-1) 使用的导电性支承体为在具有温度23℃和湿度60%RH的环境下通过热挤出获得的具有长度260.5mm和直径30mm的铝圆筒(JIS-A3003,铝合金ED管,由Showa Aluminum Corporation制造)。
将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨机分散3小时,从而制备分散液。用氧缺陷型的SnO2覆盖的TiO2颗粒作为导电性颗粒(粉体电阻率80Ω·cm,SnO2覆盖率(质量比)50%),6.6份。酚醛树脂(商品名Plyophen J-325,由Dainippon Ink &Chemicals,Incorporated制造。60%树脂固体)作为树脂粘结剂,5.5份。甲氧基丙醇作为溶剂,5.9份。
将以下材料添加至分散液中,并将全体搅拌,从而制备导电层用涂布液。硅酮树脂颗粒(商品名Tospal 120,由GEToshiba Silicones制造,平均粒径2μm)作为表面粗糙度赋予剂,0.5份。硅油(商品名SH28PA,由Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.制造)作为流平剂,0.001份。
将支承体用导电层用涂布液浸涂,并将全体在140℃温度下干燥30分钟以热固化,从而在距支承体上侧130mm的位置处形成平均膜厚度为15μm的导电层。
将导电层用以下中间层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.5μm的中间层。中间层用涂布液通过如下制备在65份甲醇和30份正丁醇的混合物溶剂中,溶解N-甲氧基甲基化尼龙(商品名Toresin EF-30T,由Teikoku ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造),4份,和共聚物尼龙树脂(AmilanCM8000,由Toray Co.,Ltd.制造),2份。
随后,将以下材料用具有1mm直径玻璃珠的砂磨装置分散1小时。接着,将250份乙酸乙酯添加至该混合物中,从而制备电荷产生层用涂布液。结晶形式的氢氧化镓酞菁,其在CuKα特征X射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰,10份。聚乙烯醇缩丁醛(商品名S-LEX BX-1,由Sekisui Chemical,Co.,Ltd.制造),5份。环己酮,250份。
将中间层用电荷产生层用涂布液浸涂,然后将全体在100℃的温度下干燥10分钟,从而在距支承体上端130mm的位置处形成平均膜厚度为0.16μm的电荷产生层。在生产例(E-1)中生产的聚合物(E-A),0.2份。
将电荷产生层用如此制备的电荷输送层用涂布液浸涂,然后将全体在120℃的温度下干燥30分钟。从而,形成在距支承体上端130mm的位置处具有17μm平均膜厚度的电荷输送层。
从而,制备其中将电荷输送层设置为表面层的电子照相感光构件。
评价如此制备的电子照相感光构件的初期刮板卷曲*1和电子照相特性*2。结果示于表5中。
*1初期刮板卷曲的评价方法 将如此制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和该主体的处理盒放置在温度35℃和湿度80%RH的环境下15小时。此后,在该环境下,将如此制备的电子照相感光构件安装到处理盒上,随后连续输出20张实白图像。在打印期间,观察是否发生清洁刮板的卷曲问题(评价在四个位置进行(制备四个新的电子照相感光构件和四个新的处理盒用于各颜色),当即使仅一次卷曲问题发生时,在表5中记为“F”,或当没有问题发生时,记为“A”)。
*2电子照相特性的评价方法 将制备的电子照相感光构件、由Canon Co.,Ltd.制造的激光束打印机LBP-2510的主体和用于测量表面电势的工具放置在具有温度25℃和湿度50%RH(常温和常湿)环境下15小时。此外,用于测量表面电势的工具为在LBP-2510处理盒的显影辊位置上,用于设置电子照相感光构件的表面电势测量用的探针的那些(除去调色剂、显影辊和清洁刮板)。此后,在相同环境下,将用于测量电子照相感光构件的表面电势的工具连接至构件上,然后在除去用于静电图像转印的带单元的条件下,不供纸来测量电子照相感光构件的表面电势。顺便提及,将用于测量表面电势的工具安装到主体中青色处理盒位置上,然后进行测量。
电势测量方法如下所述进行。首先,测量曝光部分电势(V1充电后在具有全表面曝光的电子照相感光构件曝光后在第一圈处的电势)。接着,然后测量预曝光后电势(Vr仅在电子照相感光构件的第一圈处充电,没有图像曝光而预曝光后,在第一圈(充电后第二圈)处的电势)。随后,重复充电/全表面图像曝光/预曝光的循环1,000次(1K循环)。此后,再次测量预曝光后电势(在表中,由Vr(1K)表示)。
这些结果示于表5中。
(实施例(E-2)至(E-9)) 除了将在实施例(E-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(E-A)用表5表示的聚合物代替之外,以与实施例(E-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
(实施例(E-10)) 除了在实施例(E-1)中的以下改变,以与实施例(E-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
将电荷输送层的粘结剂树脂,即,由上式(P-1)表示的重复结构单元形成的聚碳酸酯树脂,用具有由上式(P-2)表示的重复结构单元的多芳基化物树脂(重均分子量(Mw)120,000)代替。
顺便提及,在上述多芳基化物树脂中对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构之间的摩尔比(对苯二甲酸结构:间苯二甲酸结构)为50:50。
(实施例(E-11)) 除了将在实施例(E-10)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(E-A)用聚合物(E-B)代替之外,以与实施例(E-10)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
(实施例(E-12)) 除了将在实施例(E-10)中电荷输送层用涂布液中使用的由上式(CTM-1)表示的电荷输送物质用由上式(CTM-2)表示的电荷输送物质和由以上通式(CTM-3)表示的电荷输送物质代替之外,以与实施例(E-10)类似的方式制备和评价电子照相感光构件,其中使用5份的各电荷输送物质。结果示于表5中。
(实施例(E-13)) 除了将在实施例(E-12)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(E-A)用聚合物(E-B)代替之外,以与实施例(E-12)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
(比较例(E-1)) 除了聚合物(E-A)不包括在实施例(E-1)的电荷输送层用涂布液中之外,以与实施例(E-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
(比较例(E-2)) 除了将在实施例(E-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(E-A)用2,6-二叔丁基对甲酚(BHT)代替之外,以与实施例(E-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
(比较例(E-3)至(E-5)) 除了将在实施例(E-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(E-A)用表5中表示的聚合物代替之外,以与实施例(E-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
(比较例(E-6)) 除了将在实施例(E-1)中电荷输送层用涂布液中使用的聚合物(E-A)用化合物(商品名Alon GF300,由Toagosei Co.,Ltd.制造)代替之外,以与实施例(E-1)类似的方式制备和评价电子照相感光构件。结果示于表5中。
表5
如从上述结果显而易见的,将本发明的实施例(E-1)至(E-13)与比较例(E-1)和(E-2)彼此比较,由此发现以下事实。通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产电子照相感光构件,能够防止在初期阶段刮板卷曲。结果,能够提供避免此问题的电子照相感光构件。
另外,通过将本发明的实施例(E-1)至(E-13)与比较例(E-3)至(E-5)彼此比较,在本发明范围内,在具有本发明重复单元的化合物中的含该结构的化合物的使用,显示提供优异的电子照相特性中的重复性。
此外,将本发明的实施例(E-1)至(E-13)与比较例(E-6)彼此比较,由此发现以下事实。电子照相感光构件通过使用具有本发明重复单元的化合物作为表面层形成用涂布液的构成组分来生产。结果,该构件比使用比较例(E-6)的化合物的情况下的电子照相特性中的重复性更优异。
本申请要求2006年10月31日提交的日本专利申请2006-295889、2006年10月31日提交的日本专利申请2006-295885、2006年10月31日提交的日本专利申请2006-295890、2006年10月31日提交的日本专利申请2006-295882、2006年10月31日提交的日本专利申请2006-295886和2007年10月1日提交的日本专利申请2007-257077的每一个的优先权,在此将其内容引入以作参考。
权利要求
1.一种电子照相感光构件,其包括
支承体;和
在所述支承体上形成的感光层,
其中
所述电子照相感光构件的表面层包含具有各自由下式(1)表示的重复结构单元的聚合物
其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团;以及
在所述聚合物中,70至100个数%的各自由式(1)表示的重复结构单元各自包含任意由下式(1-1)至(1-6)表示的重复结构单元
其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示单键或亚烷基,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基,R22表示-R21-基或-O-R21-基,R23表示-Ar-基、-O-Ar基或-O-Ar-R-基,其中Ar表示亚芳基,R表示亚烷基,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基,Rf12表示用氧中断的氟烷基,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中具有各自由式(1)表示的重复结构单元的聚合物具有各自由下式(a)表示的重复结构单元
其中,R101表示氢原子或甲基,Y表示二价有机基团,Z表示聚合物单元。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光构件,其中在式(a)中,Z包含具有各自由下式(b-1)或(b-2)表示的重复结构单元的聚合物单元
其中,R201表示烷基;
其中,R202表示烷基。
4.根据权利要求2或3所述的电子照相感光构件,其中在式(a)中,Y包含至少具有由下式(c)表示的结构的二价有机基团
其中,Y1和Y2各自独立地表示亚烷基。
5.根据权利要求1至4任一项所述的电子照相感光构件,其中
具有各自由式(1)表示的重复结构单元的聚合物通过聚合各自由下式(3)表示的化合物来合成
其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团;以及
70至100个数%的各自由式(3)表示的化合物包含各自由下式(3-1)至(3-6)中的任何一个表示的化合物
其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示单键或亚烷基,R21表示存在具有碳-碳键的支化结构的亚烷基,R22表示-R21-基或-O-R21-基,R23表示-Ar-基、-O-Ar基或-O-Ar-R-基,其中Ar表示亚芳基,R表示亚烷基,Rf10表示至少具有氟烷基的单价基团,Rf11表示存在具有碳-碳键的支化结构的氟烷基,Rf12表示用氧中断的氟烷基,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。
6.根据权利要求2至5任一项所述的电子照相感光构件,其中具有各自由式(a)表示的重复结构单元的化合物通过聚合各自由下式(d)表示的化合物来合成
其中,R101表示氢原子或甲基,Y表示二价有机基团,Z表示聚合物单元。
7.一种制造根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件的方法,其包括使用表面层用涂布液形成所述电子照相感光构件的表面层,所述表面层用涂布液包含具有由式(1)表示的重复结构单元的聚合物。
8.一种处理盒,其包括
根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件;和
选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组的至少一个单元,
其中,将所述构件和所述至少一个单元一体化地支承和可拆卸地连接到所述电子照相设备的主体上。
9.根据权利要求8所述的处理盒,其中所述清洁单元包括清洁刮板。
10.一种电子照相设备,其包括
根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件;
充电单元;
曝光单元;
显影单元;
转印单元;和
清洁单元。
11.根据权利要求10所述的电子照相设备,其中所述清洁单元包括清洁刮板。
全文摘要
公开一种电子照相感光构件,其抑制刮板翘起的发生,同时具有优异的电子照相特性。还公开用于生产该电子照相感光构件的方法,包含该电子照相感光构件的处理盒,以及电子照相设备。所述电子照相感光构件具有包含具有特定重复结构单元的聚合物的表面层。
文档编号G03G5/147GK101535901SQ20078004086
公开日2009年9月16日 申请日期2007年10月24日 优先权日2006年10月31日
发明者上杉浩敏, 阿部幸裕, 三浦大祐, 三木宣道, 大垣晴信 申请人:佳能株式会社
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