专利名称：成像装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种釆用电照相方法的成像装置。
技术背景采用电照相方法的成像装置是一种通过充电、随后曝光、显影形成 调色剂图像然后将形成的图像转印到记录介质上作为永久图像的装置。因为采用电照相方法的成像装置使用干的调色剂颗粒，所以由于尘 埃，例如松散的调色剂颗粒、纸张粉末、由放电产生的颗粒，会引起各 种问题。装置内的各种尘埃中，曝光部分的尘埃直接导致图像质量降低，因 此，提出了很多防止曝光部分产生这些尘埃的技术。公开号6-317,951的日本未决专利申请披露了引入光线的光阑形 成在安装于激光曝光装置的激光发射部分上的框架的顶部以支撑防尘 玻璃，沿光电导体移动方向设置在更上游的部件比沿光电导体移动方向 设置在更下游的部件设置的更高，因此，防止空气朝向防尘玻璃流动， 从而防止诸如飞散的调色剂等颗粒落在防尘玻璃上。公开号2000-258,968的未决日本专利申请披露了 一种成像装置，其 中，控制气流的空气限制元件沿光电导体移动方向安装在曝光位置的上 游。公开号2003-54,024的未决日本专利申请披露了 一种成像装置，其 中，设置有沿光电导体移动方向从LED头的顶部朝向上游突出的盖， 所述盖是倾斜的，从而朝向LED头接近光电导体。上述专利文件中公开的防尘元件有效地阻止尘埃落在曝光装置上， 然而它们不能有效地应对落在并且聚积在防尘元件本身上的尘埃。上述 文件不能处理这个问题。大多数成像装置构造成使得可以打开它们的内部来维护或者更换元件，如光电导体、以及围绕光电导体设置的充电装置、瀑光装置、显影装置和清洁装置。如图2中虚线所示， 一些成像装置构造成使得当上 面部分向上移动时，光电导体打开。因为结构复杂的激光曝光装置占用了成像装置中的4艮多空间，所以 所述曝光装置安装在成像装置的骨架结构上。当该装置的内部被打开 时，大部分激光曝光装置不是由可移动部分构成的。另一方面，当成像装置采用LED (发光二极管)曝光装置时，优选 地，所述LED曝光装置构造为由一个盖打开。在上述专利文件中，防尘元件随曝光装置打开，但落在防尘元件上 的尘埃掉落到曝光装置上，因此曝光装置变得落有尘埃，这是个重要的 问题。为了清洁曝光装置，需要长时间的工时。 发明内容本发明可克服上述问题，并且本发明的一个目的是提供一种成像装 置，其中可防止曝光装置被从防尘元件掉落的尘埃污染，并且易于维护。该目的可以通过以下产品实现。产品l. 一种成像装置，包括光电导体，曝光装置，其使所述光电导体曝光，防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝 光位置的上游，和盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件，其中，所述盖在轴上枢转，所述轴沿所述光电导体的移动方向设置在 所述曝光装置的上游。产品2. —种成像装置，包括光电导体，膝光装置，其使光电导体曝光，防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在曝光装置的曝光位 置的上游，以及盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件，其中所述盖在轴上枢转，所述轴沿光电导体的移动方向设置在曝光 位置的下游，以及其中所述防尘元件由L形元件构成，所述L形元件包括从所述盖向 着所述光电导体突出的第一防尘部分和从所述第一防尘部分的顶端向 着所述曝光装置突出的第二防尘部分。
图l显示了本发明实施方式所涉及的成像装置的结构。 图2显示本发明的实施方式1。图3显示尘埃落在防尘元件上，然后从防尘元件掉落到曝光装置上。图4显示本发明的实施方式2。图5显示本发明的实施方式3。图6显示实施方式4所涉及的彩色成像装置。图7显示抽屉单元60。图8显示本发明的实施方式5。图9显示本发明的实施方式6。
具体实施方式
以下将详细描述本发明的实施方式，然而本发明不限于这些实施方式。图l显示本发明实施方式的成像装置的结构。该成像装置通过电照相处理在记录介质上形成图像。该成像装置由 沿光电导体1的如箭头A所指的转动方向顺次布置在光电导体1周围的 充电装置2、曝光装置3、显影装置4、图像转印装置5和清洁装置6构成o在该成像装置的底部，从左到右依次设置有供纸部分8、转印装置 5、定影装置7和排纸部分9。为了形成图像，光电导体l逆时针转动，如箭头A所示，通过充电 装置2、曝光装置3和显影装置4的操作，在光电导体l上形成调色剂与调色剂图像的形成同步，从供纸部分8传输记录介质P,从而光 电导体1上的调色剂图像被转印装置5转印到记录介质P上。记录介质P栽持的调色剂图像穿过定影装置7，通过热和压力定影。载持定影图像的记录元件P排出到排纸部分9的托盘上。图2显示本发明的实施方式1，其具有阻止尘埃落在曝光装置3上 并且在其上聚积的结构。在图2中，曝光装置3包括LED阵列和光学元件阵列，在LED阵 列中沿着垂直于光电导体1移动方向的方向设置有多个LED元件，所 述光学元件阵列将LED发出的输出光线集中到光电导体1的表面。基 于驱动LED的驱动信号，曝光装置3在光电导体1上进行点啄光，以 在光电导体l上形成图像。形成成像装置的上部外壳体的盖10在其右端部10a处铰接，并且 可通过操作者的操作沿箭头B的方向打开和关闭。曝光装置3通过支撑元件12悬挂在盖10上，防尘元件11也悬挂在 盖10上。防尘元件11在光电导体1的曝光位置处沿移动方向(如箭头AA所 示)安装在啄光装置3的上游。防尘元件11的底部比膝光装置3的底 部更接近光电导体l。在光电导体1沿箭头A旋转的过程中，在光电导体1的表面产生气 流，气流跟随光电导体l的转动而动。气流中任何松散的尘埃，例如调 色剂颗粒，被防尘元件11阻挡，从而防止尘埃覆盖曝光装置3的发光 表面。铰链10a在曝光位置处沿光电导体1的移动方向安装在曝光装置3 的上游，即，铰链10a对应于箭头A所示的旋转，沿移动方向AA安装 在曝光位置的上游。在任何维护工作中，盖10围绕铰链10a转动，如箭头B所示，将 其位置从实线所示的操作位置改变到虚线所示的非操作位置。曝光装置 3和防尘元件11随盖10 —起移动。尘埃颗粒"C"趋于沿光电导体1的移动方向AA聚积在防尘元件 ll的上游边缘。聚积的尘埃颗粒C趋于掉落，尤其是在盖10打开或者关闭的时候。因为盖10围绕沿光电导体1移动方向AA安装在曝光装置3上游的 铰链10a转动，所以，当盖10打开时，防尘元件11的位置低于曝光装 置3的位置。因此，掉落的尘埃颗粒C不会落到膝光装置3上。现在将详细描述本实施方式的结构，即，防止啄光装置3被尘埃颗 粒C覆盖的结构，同时将其与图3所示的结构比较。在图3中，盖10沿方向Bl围绕沿光电导体1转动方向AA安装在 膝光装置3下游的铰链10a转动，因此，盖10可沿箭头B1所示打开或 关闭。在此结构中，当打开盖10时，防尘元件11的位置高于曝光装置3。结果，尘埃颗粒C落到曝光装置3的发光表面上，如箭头D所示， 从而曝光装置变得积有尘埃。在图2所示的实施方式中，很清楚，可有效地防止曝光装置3变得 积有尘埃。图4显示本发明的实施方式2。本实施方式中，防尘元件11由第一防尘部分lla和连接在第一防尘 部分lla底端的第二防尘部分lib构成。在光电导体1的表面和从盖10向着光电导体1的表面突出的第一 防尘部分lla之间形成有间隙，从而跟随光电导体l的转动的气流E被 阻挡，从而阻止尘埃颗粒C进入曝光装置3所在的空间。从第一防尘部分lla的底端向着光电导体1的顶点突出的第二防尘 部分lib以与笫一防尘部分lla相同的方式阻止尘埃颗粒C进入啄光装 置3所在的空间。此外，如以下将要详细描述的，防止落在防尘元件ll 上的尘埃颗粒C掉落到曝光装置3上。在本实施方式中，盖10的铰链10a沿光电导体1的移动方向AA安 装在曝光装置3的下游。第二防尘部分lib与光电导体1之间的间隙比曝光装置3和光电导 体l之间的间隙窄。通过第二防尘部分lib的这种结构，沿光电导体1的移动方向AA 产生的被笫一防尘部分lla的上游边缘阻挡的气流平滑地在光电导体1和第二防尘部分llb之间流动，因此，尘埃颗粒C聚积在第一防尘部分 lla的上游边缘，而不聚积在第二防尘部分llb上。当盖10围绕铰链10a (作为枢转轴)向上转动被打开时，如图4中 箭头B2所示，尽管尘埃颗粒C可能由于打开运动而掉落，但是尘埃颗 粒C可被第二防尘部分lib阻挡，因此，可防止尘埃颗粒C落在曝光 装置3上。图5显示本发明的实施方式3。本实施方式中，在曝光装置3的两側，即，沿光电导体l的移动方 向AA，防尘元件111安装在曝光装置3的上游，同时辅助防尘元件112 安装在曝光装置3的下游。防尘元件111由第一防尘部分llla和第二 防尘部分lllb构成，同时辅助防尘元件112由第一防尘部分112a和第 二防尘部分112b构成。此外，第二防尘部分lllb和112b的各自面对光电导体1的表面 lllbr和112br下凹形成为与光电导体l的表面相同心。通过第二防尘部分lllb和112b的上述结构，尘埃颗粒C落在防尘 元件111的第二防尘部分lllb的上游边缘，然而，防止了尘埃颗粒C 落在其他部分。此外，当围绕沿移动方向AA安装在曝光装置3下游的铰链10a向 上转动而打开盖10时，尽管尘埃颗粒C可能从防尘元件lll掉落，但 是尘埃颗粒C会被笫二防尘部分lllb和112b阻挡，所以，可阻止尘埃 颗粒C落在曝光装置3上。在图5所示的实施方式中，因为曝光装置3除了发光部分之外，都 被防尘元件111和辅助防尘元件112密封地封闭，所以，曝光装置3的 防尘效果非常高，这是很有利的。图6显示实施方式4所涉及的彩色成像装置。本成像装置是一种在记录介质P上形成彩色图像的彩色成像装置， 其包括自动文件进给装置30，其将文件一张张地进给到文件读取位置； 图^f象读取部分40;和成^f象部分50。图4象读取部分40通过读取元件41读取被自动文件进给装置30传 输的或者放置在文件台42上的文档"d"，以形成图像数据。成4象部分50包括多个处理单元20Y、 20M、 20C和20K、中间转印体21、第一转印部分5Y、 5M、 5C和5K、第二转印部分5A、定影装 置7、多个记录介质存储部分和排纸盘9。形成黄色图像的处理单元20Y由光电导体1Y和围绕光电导体1Y 安装的充电装置2Y、曝光装置3Y、显影装置4Y和清洁单元8Y构成。形成品红色图像的处理单元20M由光电导体1M和围绕光电导体 1M安装的充电装置2M、啄光装置3M、显影装置4M和清洁单元8M 构成。形成青色图像的处理单元20C由光电导体1C和围绕光电导体1C 安装的充电装置2C、曝光装置3C、显影装置4C和清洁单元8C构成。形成黑色图像的处理单元20K由光电导体1K和围绕光电导体1K 安装的充电装置2K、曝光装置3K、显影装置4K和清洁单元8K构成。中间转印体21是一个旋转带，由多个辊支撑。定影装置7具有加 热辊以定影介质P上的图像。由处理单元20Y、 20M、 20C和20K形成的各色图像通过第一转印 部分5Y、 5M、 5C和5K顺序转印到旋转的中间转印体6上，从而形成 彩色图像。存储在由多个托盘构成的记录介质存储部分8中的记录介质P由纸 张供给辊22 —张张地传输，并且经由成对的纸张供给辊23传送到处于 停止状态的成对校准辊24。介质P在此暂时停止，在介质P的前边缘 与转印体6上的调色剂图像彼此精确对准后，成对的校准辊24开始转 动，从而介质P被传送到第二转印部分5A，在那里，在记录介质P上 形成彩色图像(第二转印操作)。其上转印有彩色图像的介质P在定影 装置7处被加热和挤压，从而彩色图像固定在介质P上。然后，介质P 被成对的排出辊25排出到设备外部的排纸托盘9上。在彩色图像被第二转印部分5A转印到记录介质P上之后，通过锐 角传输使介质P与之分离的中间转印体21被清洁装置6A清洁，以移 除残留调色剂。处理单元20Y、 20M、 20C和20K —体形成为抽屉单元60。 可向着操作者，即沿图6的深度方向，拉出抽屉单元60。 图7显示抽屉单元60。在从成像装置拉出抽屉单元60之后，可围绕铰链10a转动向上打开盖IO，由此，可检查并维护处理单元20Y、 20M、 20C和20K。在光电导体1Y、 1M、 1C和1K的曝光位置处，盖10的铰链10a 沿移动方向处于膝光装置3Y、 3M、 3C和3K的更上游位置。处理单元20Y、 20M、 20C和20K的膝光装置3Y、 3M、 3C和3K 由LED阵列和光学元件阵列构成，其与图1的成像装置相同。在光电导体1Y、 1M、 1C和1K的膝光位置的移动方向上，分别设 置在曝光装置3Y、 3M、 3C和3K上游的防尘元件11可防止尘埃颗粒 C落在曝光装置3Y、 3M、 3C和3K的发光表面上。此外，如图1的成 像装置详细所述，当打开盖10时，可防止落在防尘元件ll上的尘埃颗 粒C掉落到曝光装置3Y、 3M、 3C和3K上。图8显示本发明的实施方式5。在实施方式5中，防尘元件11和辅助防尘元件13设置为夹持曝光 装置3。辅助防尘元件13的顶部与光电导体1表面之间的间隙大于防尘元 件11的顶部与光电导体l表面之间的间隙。因此，当光电导体l转动时，尘埃不会落在辅助防尘元件13上。如图8中所示，处理单元20Y、 20M、 20C和20K分别i殳置有防尘 元件11和辅助防尘元件13。如图8所示，盖10向上打开到虛线位置101,或者进一步向上打开 到虚线位置102。当盖10旋转到位置102时，盖10基本上垂直，因此，啄光装置3M 低于曝光装置3Y的防尘元件11，膝光装置3C低于曝光装置3M的防 尘元件ll，并且曝光装置3K低于膝光装置3C的防尘元件11。结果，尘埃颗粒C可能从防尘元件11掉落到曝光装置3M、 3C和 3K上。进一步，当打开盖IO，辅助防尘元件13阻止从设置在上部的防尘 元件11掉落的尘埃颗粒C落在设置在下部的曝光装置3上。图9显示本发明的实施方式6。在本实施方式中，盖IO围绕在膝光位置处沿光电导体1Y的移动方 向设置在曝光装置3Y下游的铰链10a转动。此外在本发明中，在每个曝光装置3Y、 3M、 3C和3K的两侧都设 置有防尘元件111和辅助防尘元件112。更进一步，防尘元件111包括第一防尘部分llla和第二防尘部分 lllb，同时辅助防尘元件112包括第一辅助防尘部分112a和第二辅助 防尘部分112b。如图5所述，尽管盖10的铰链10a设置在光电导体1的移动方向 的下游，但是由于第一防尘部分llla和112a以及第二防尘部分lllb 和112b的防尘效果，当操作者打开或者关闭盖10时，可有效地防止尘 埃颗粒C落在曝光装置3Y、 3M、 3C和3K的发光部分上。
权利要求
1.一种成像装置，包括光电导体；曝光装置，其使所述光电导体曝光；防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝光位置的上游；和盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件；其中，所述盖围绕枢轴打开和关闭，所述枢轴沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的上游。
2. 如权利要求1所述的成像装置，所述防尘元件具有顶部分，所 述顶部分比所述啄光装置的发光表面更接近所述光电导体。
3. 如权利要求1所述的成像装置，进一步包括辅助防尘元件，所 述辅助防尘元件沿所述光电导体的移动方向安装在所述曝光装置的下 游。
4. 一种成像装置，包括 光电导体；曝光装置，其使所述光电导体曝光；防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向^:置在所述啄光装置的曝 光位置的上游；和盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件；其中，所述盖围绕枢轴打开和关闭，所述枢轴沿所述光电导体的移 动方向设置在所述曝光装置的下游，以及，其中防尘元件由L形元件构成，所述L形元件包括从所述盖向着 所述光电导体突出的第一防尘部分和从所述第一防尘部分的顶端向着 所述曝光装置突出的第二防尘部分。
5.如权利要求4所述的成像装置，进一步包括辅助防尘元件，所 述辅助防尘元件沿所述光电导体的移动方向设置在所述爆光装置的下 游。
全文摘要
本发明公开了一种成像装置，包括光电导体；使所述光电导体曝光的曝光装置；防尘元件，其沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的曝光位置的上游；和盖，其支撑所述曝光装置和所述防尘元件；其中，所述盖围绕枢轴打开和关闭，所述枢轴沿所述光电导体的移动方向设置在所述曝光装置的上游。
文档编号G03G15/04GK101329530SQ20081012710
公开日2008年12月24日 申请日期2008年6月19日 优先权日2007年6月20日
发明者森田真次 申请人:柯尼卡美能达商用科技株式会社